JPS5842865B2 - ベンゼンスルホニルクロライドの製造法 - Google Patents

ベンゼンスルホニルクロライドの製造法

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JPS5842865B2
JPS5842865B2 JP52092612A JP9261277A JPS5842865B2 JP S5842865 B2 JPS5842865 B2 JP S5842865B2 JP 52092612 A JP52092612 A JP 52092612A JP 9261277 A JP9261277 A JP 9261277A JP S5842865 B2 JPS5842865 B2 JP S5842865B2
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benzenesulfonic acid
thionyl chloride
acid
chloride
reaction
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/02Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
    • C07C303/22Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はベンゼンスルホン酸クロライドの製造法に関す
る。
一般に、ベンゼンスルホン酸を過剰の塩化チオニルト沸
点において反応させた場合、ベンゼンスルホン酸クロラ
イドが得られず、殆んど例外なくベンゼンスルホン酸無
水物が得られることは公知である( Monat−sh
eft fjir Chemie、34巻、570頁(
1913))−0 今回、ベンゼンスルホン酸の塩化チオニルとの反応をス
ルホン化剤の存在下に行なう場合、ベンゼンスルホン酸
と塩化チオニルとの反応によってベンゼンスルホン酸ク
ロライドが得られることが発見された。
使用しうるスルホン化剤は、例えば硫酸、二酸化硫黄、
クロルスルホン酸、フルオルスルホン酸又はそれらの混
合物であり:硫酸、三酸化硫黄及びクロルスルホン酸又
はそれらの混合物、例えば発煙硫酸が好適に用いられる
一般に使用しうるスルホン化剤は親電子性スルホン化剤
である〔例えばサーフオンティン(Cerfontai
n )著、Mechanistic Aspects
inAromatic 5ulfonafion an
d Desulfonationllnterscie
nce Publishers、1968年、1〜11
頁〕。
一般に使用されるベンゼンスルホン酸の量に対して20
重量%まで、好ましくは0.1〜15.0重量%及び特
に0.25〜5.0重量%のスルホン化剤が用いられニ
一般に少量のスルホン化剤の場合、反応速度はスルホン
化剤量の増加と共に増加する。
20重量%より多いスルホン化剤も使用し5るが、一般
にこれは利益をもたらさない。
随時反応物との混合物におけるスルホン化剤は、反応の
開始時に導入するか又は反応中1部ずつもしくは1度に
添加することができる。
一般に、本発明による方法は約O〜170’C1好まし
くは20〜160℃、特に50〜150℃の温度で行な
われる。
一般に、塩化チオニルはベンゼンスルホン酸1モル当り
塩化チオニル1モルという化学量論的に必要な量以上の
過剰量で用いられる。
その過剰量はベンゼンスルホン酸1モル当り塩化チオニ
ル10モルまでである;それより大過剰も使用でき、そ
のような場合過剰の塩化チオニルは同時に溶媒としても
役立たせうる。
ベンゼンスルホン酸1モル当り1.1〜5.0モル、特
に1.2〜2.5モルの塩化チオニルが有利に使用でき
る。
過剰な塩化チオニルは同時に溶媒′として役立ちうるが
、本発明による方法は反応条件下に不活性である溶媒又
は希釈剤の存在下に行なうこともできる。
使用しうるそのような溶剤又は希釈剤は二酸化硫黄及び
塩化スルフリル、炭化水素及びハロゲン化炭化水素、特
にアルカン及びハロゲノアルカン、例えばクロロホルム
、四塩化炭素、塩化メチレン、ジー、トリー及びテトラ
−クロルエチレン、ジ−トリー、テトラ−及びペンタ−
クロルエタン、1・1・2−トリクロル−11・2・2
トリフルオルエタン及びテトラフルオルエチレンであり
二本方法による最終生成物、即ちベンゼンスルホン酸ク
ロライドも溶剤としても使用でき、またジフェニルスル
ホンもよい。
本方法において、塩化チオニルは特に必ずしも精製する
必要がない:また経済的な理由のために、市販の塩化チ
オニルを用いることが有利である。
ベンゼンスルホン酸は本発明の方法に対する出発化合物
として純粋形で及び粗生成物として使用することができ
る。
粗ベンゼンスルホン酸中の可能な不純物は、製造法に依
存するが、例えば水、ベンゼンジスルホン酸、ジフェニ
ルスルホン、ジフェニルスルホン−スルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸無水物及び未反応出発物質としてのベンゼ
ンである。
更にベンゼンスルホン酸はスルホン化剤、例えば二酸化
硫黄、硫酸及びクロルスルホン酸、及び更にベンゼンス
ルホン酸の製造中にスルホンの生成を防止するために使
用される添加剤例えば酢酸、オキシ塩化燐、燐酸、燐酸
エステル、安息香酸、及びサルフェート、の残渣を含有
していてもよい。
各不純物の量及び割合は、製造法に依存して変化しうる
公知の方法に従いベンゼンと三酸化硫黄との反応によっ
て製造されるベンゼンスルホン酸は、好ましくは本発明
による方法の出発物質として使用される。
この製造法においては、ベンゼンを三酸化硫黄と約io
〜100℃、好ましくは25〜65及び特に40〜60
℃の温度で常、減及び加圧、好ましくは50〜600ミ
リバール、好マシくは100〜500及び特に150〜
4ooミリバールの減圧下に反応させることができる。
一般にこの方法ではベンゼン1モル当り0.1〜1.1
、好ましくは0.25〜0.8、特に0.3〜0.7モ
ルのSO3が用いられる。
反応は溶媒なしに及び不活性な溶剤の存在下に行なうこ
とができる。
更に用いるベンゼンに対し、ジフェニルスルホン生成の
副反応を減少又は防止する公知の物質のlっを0.5〜
5、特に0.2〜2.5重量%で添加することも可能で
ある。
ベンゼンと気体SO3との反応による公知のベンゼンス
ルホン酸の製造法及びスルホン結合を減少させるための
添加物は、例えば米国特許第2704295号、第28
31020号、第3072618号、第3072703
号、第3133117号、第3248413号、第32
32976号及び第1422564号、英国特許第79
1995号、独国特許公報第 1468490号、及び独国公開特許第 2353918号、第2354097号、第20195
27号、第2019250号、第1493311号、第
1443414号及び第1418773号に記述されて
いる。
このようにしてしばしば製造されるベンゼンスルホン酸
は、製造法に由来する不純物として、本方法によって必
要とされる如き十分な量のスルホン化剤をすでに含有し
ている。
即ち多くの場合、スルホン化剤の更なる添加は不必要で
ある。
更に同様の方法に従い、ベンゼンを他のスルホン化剤、
例えば硫酸、発煙硫酸又はクロルスルホン酸と反応させ
ることによって製造されるベンゼンスルホン酸も使用で
きる。
粗ベンゼンスルホン酸が依然不純物として原料としての
ベンゼンを比較的多量含有する場合には、このベンゼン
が更にスルホン化剤でスルホン化され且つ従ってスルホ
ン化剤を消費するから、これを勿論考慮しなげればなら
ない:このときベンゼンによって消費されるスルホン化
剤の量は、本方法で必要とされ且つ使用されるスルホン
化剤の量に加えて補充しなげればならない。
勿論純粋なベンゼンスルホン酸又は不純物として更なる
スルホン化剤を含有しない程度まで精製されたベンゼン
スルホン酸も使用できる:この場合にはスルホン化剤を
適当量添加しなげればならない。
3種類の反応物を導入する順序は厳密でない:用イルベ
ンゼンスルホン酸の量に相当スるスルホン化剤の量を反
応中に反応混合物に添加することだけが必要である。
ある変化によれば、本方法は塩化チオニル及び選択量の
スルホン化剤を最初に導入し、混合物を反応温度に加熱
し、続いてベンゼンスルホン酸をこの温度で添加するこ
とによって行なわれる。
一方塩化チオニルを最初に導入し、ベンゼンスルホン酸
及びスルホン化剤を予じめ混合し又は別別に塩化チオニ
ルに同時に添加することが可能である。
従って例えば対応する量のスルホン化剤を不純物として
すでに含有する粗ベンゼンスルホン酸を好適に使用する
場合には、最初に導入した塩化チオニルにスルホン化剤
ヲベンゼンスルホン化剤トー緒に添加する。
ベンゼンスルホン酸を随時スルホン化剤と一緒に最初に
導入し、塩化チオニルを適当な温度で添加することも可
能である。
この方法においてもスルホン化剤を最初からベンゼンス
ルホン酸に添加する代りに、それを塩化チオニルと同時
にこれとの混合物として又は別々に添加することができ
る。
但しスルホン化剤の全量は塩化チオニルの全量を添加し
た後だけ反応混合物中に存在させることが必要である。
本方法の他の変化によれば、ベンゼンスルホン酸及び塩
化チオニルを室温又は反応温度で同時に導入することも
できる。
この時無水スルホン酸を与える上述の反応はすでに始ま
り、温度及びスルホン化剤の添加までの時間に依存して
対応するベンゼンスルホン酸無水物が生成する。
続いて対応する量のスルホン化剤が添加される。
この場合この添加をすぐに行なう必要はないが、比較的
多くの割合のベンゼンスルホン酸がすでに反応してベン
ゼンスルホン酸無水物な生成する場合には、添加をすぐ
に行なうのがよい。
この変化によれば、ベンゼンスルホン酸の代りにベンゼ
ンスルホン酸無水物も使用しうる。
本方法に対しては、ベンゼンスルホン酸及び塩化チオニ
ル間の反応がスルホン化剤の存在下にすでに始まってい
るが、しかし対応する量のスルホン化剤の存在下に反応
を完結させることは必須でない。
即ち本発明の方法によれば、ベンゼンスルホン酸無水物
もベンゼンスルホン酸の代りに出発物質として随時役に
立ちうる。
塩化チオニルを最初に導入する場合、ベンゼンスルホン
酸を、固体もしくは液体形で、溶融状態で又は不活性な
溶媒に溶解して、塩化チオニルに、反応温度下にすべて
1度で、1部ずつ又は連続して添加することが可能であ
る。
勿論必要ならば、ベンゼンスルホン酸を液体形で添加し
うるために、反応温度以上の温度でベンゼンスルホン酸
を溶融することも可能である。
ベンゼンスルホン酸を最初に導入する場合、ベンゼンス
ルホン酸が溶融物として存在するように反応温度を選択
することが有利である。
反応を低温で行なわねばならない場合には、ベンゼンス
ルホン酸が少くとも部分的に溶解しているように不活性
な溶剤の存在下にそうすることが有利である。
塩化チオニルを最初に導入することによって本発明の方
法を行なうことも有利である;この方法は、塩化チオニ
ルが本方法の低温範囲内においてでも液体であり且つ不
活性な溶剤の使用がいずれの場合にも無意味であるから
、得策である。
好適な方法においては、液体又は気体の塩化チオニルを
−、スルホン化剤の存在下に溶融されたベンゼンスルホ
ン酸ニ、ベンゼンスルホン酸の融点〜170℃、好まし
くは60〜160℃及び特に65〜150℃の温度で添
加する。
勿論上述の如き量のスルホン化剤は、反応前に塩化チオ
ニルに添加してもよく、或いはベンゼンスルホン酸と混
合してもよく、或いは不純物としてベンゼンスルホン酸
に含有されていてもよい:上述の如く、第2の反応物と
同時に又は反応物の後に対応する量のスルホン化剤を別
に添加することも可能である。
下記の反応方程式によれば、 公知の方法で除去し、分離し及び随時更に使用できる塩
化水素及び二酸化硫黄が反応中に副生成物として生成す
る。
ガスの発生が止まったことで又は公知の分析法で決定し
うる反応の完結後、適当ならば過剰の塩化チオニルを例
えば蒸留によって除去し、ベンゼンスルホン酸クロライ
ドを分離す°る。
これは直接使用でき、又は例えば結晶化もしくは蒸留に
よる公知の方法で精製することができる。
反応混合物は有利には蒸留によって処理される。
一般に適当には最初に過剰の塩化チオニルを常圧下又は
約10ミリバールまでの減圧下に留去し、続いてベンゼ
ンスルホン酸クロライドを減圧、好ましくは0.1〜1
0ミリバールの圧力下における分留によって分離する。
これによって得られる最初及び最後の留分、及び適当に
は残渣はスルホン化剤を含有することができ、次のバッ
チのスルホン化剤として使用してよく、或いは本方法を
連続式で行なう場合一部又は全部を反応に循環させるこ
とができる。
用いるベンゼンスルホン酸が高沸点の不純物、例えばジ
フェニルスルホンを含有する場合には、これらを蒸留残
渣に捕捉させ、随時これから分離し、別途使用する。
未反応のベンゼンスルホン酸は、適当ならばそのままで
又はその無水物の形で蒸留残渣中に存在することができ
、また適当ならばベンゼンスルホン酸クロライドへ転化
することのできないジフェニルスルホン及び他の不純物
を分離した後本方法の出発物質として再び使用し或いは
反応系へ循環させてもよい。
一般に本発明による方法は、反応混合物の沸点が反応温
度又はそれ以上となるように常圧又は僅かに加圧下に行
なわれる。
更に気体状副生成物の二酸化硫黄及び塩化水素がより早
く消散しうるように減圧下で本方法を行なうことも可能
である。
しかしながら圧力自体は本方法を行なうに際して本質的
なことではない。
本方法は不連続式及び連続式で行なうことができる。
反応を不連続式で行なう方法は、反応の開始時に少割合
のベンゼンスルホン酸だけを塩化チオニルに導入し、次
いでスルホン酸クロライドの生成と同一の速度で残りの
スルホン酸をバッチ式で又は連続式で添加するという点
で有利である。
この方法では、塩化水素及び二酸化硫黄の生成をマノメ
ーターで及び他の分析法でスルホン酸クロライドの生成
を追跡することができる。
副生成物として生成する気体の塩化水素及び二酸化硫黄
は気体又は液体状態で塩化チオニルを含んで消散させて
もよい:この場合にはこの排ガスを随時ベンゼンスルホ
ン酸含有の随時一部だけ液体のベンゼンスルホン酸中へ
通し、塩化チオニルを回収又は反応させ且つ随時同時に
その熱をベンゼンスルホン酸の溶融及び予備加熱に使用
することが有利である。
この方法は連続法の場合特に好ましい。
本発明による方法は好ましくは連続式で行なわれる。
例えば本方法はループ式反応器中で行なうことができ、
そこへ塩化チオニル及びスルホン化剤含有のベンゼンス
ルホン酸を迅速且つ連続的に2つの導入口から計量添加
し、一方反応混合物を導入口から上流方向に位置する出
口点から取り出す;塩化水素及び二酸化硫黄は反応混合
物と一緒に、又はループ式反応器の他の地点からレツ)
−ダウン・バルブ(let −down valve
)を通してガスとして取り出すことができる。
連続法では、向流法が好適に行なわれる。
本方法を連続式で行なうそのような変化では、例えば向
流理論に従うバブル塔中で反応を行なうことができ、液
体のベンゼンスルホン酸を塔頂から供給し且つ液体又は
気体塩化チオニルを塔の底部から供給する:この方法で
は、スルホン化剤をベンゼンスルホン酸と予じめ好適に
混合するか、又は分離流として同時に供給することがで
きる。
しかしながら、スルホン化剤は塩化チオニルと一緒に、
塩化チオニルと混合して又は別々に供給してもよい。
この方法において、バブル塔は内部に棚を備えていても
よく且つ塔の異なる反応域で異なる反応温度で操作する
こともできる。
反応生成物の除去は普通塔の低領域で行なわれ、一方ベ
ンゼンスルホン酸を塔の上部領域で供給する。
更に、本発明による反応はカスケード式の反応釜中で行
なうこともできる。
除去した反応混合物は例えば蒸留により不連続式で又は
連続式で処理され、過剰の塩化チオニル及び未反応のベ
ンゼンスルホン酸を適当ならば反応系に循環する。
上記記述において、いくつかの場合にはスルホン化剤の
添加に関する記述を行なわなかった。
その理由は、スルホン化剤が不純物として既にベンゼン
スルホン酸中に含まれていてもよく、又は一方その添加
については詳しく前述してあってここでそれを繰返すの
は無意味であるからである。
本方法の好適な変化によれば、ベンゼンスルホン酸は第
1工程においてベンゼンをベンゼン1モル当り0.8モ
ルまでの三酸化硫黄と反応させることによって製造され
る。
次いで未反応のベンゼンを分離し、このようにして得た
粗ベンゼンスルホン酸を本方法の出発物質として使用す
る。
この本方法の変化は、得られるベンゼンスルホン酸が特
に簡単に製造でき且つ既に述べたように不純物としてス
ルホン化剤を含有するが故に本方法の出発物質として特
に適当であるから、有利なものである。
この場合スルホン化剤は一般にすでに十分な量であり、
更なるスルホン化剤の添加が不必要なために適当な秤量
及び混合装置を省略でき、工程の装置面が簡略化される
ベンゼンスルホニルクロライドが少量の程度だけ生成し
且つベンゼンスルホン酸無水物が主に生成スるベンゼン
スルホン酸と塩化チオニルとの反応が、スルホン化剤の
存在下にベンゼンスルホニルクロライドが例外なく高収
率で生成するというように進行することは驚(べきこと
である。
本発明による方法は、ベンゼンとクロルスルホン酸との
反応による公知のベンゼンスルホン酸クロライドの製造
法(Ul1mann’s EnzyklopMdied
er Technischen Chemie、第4版
、第8巻、(1974)、420頁〕7と比較して、特
に反応混合物が蒸留によってすぐに処理でき且つ上記製
造法で生ずる希酸の問題が回避できるという利点を有す
る。
本方法では主に気体の副生成物、即ち塩化水素及び二酸
化硫黄が生成し、一方公知の方法ではベンゼンに対して
理論量の約18%のベンゼンスルホン酸及び5〜7%の
ジフェニルスルホン並びに関連する反応生成物、即ち塩
化水素及び硫酸が生成する。
特に過剰で使用するクロルスルホン酸の回収及び循環は
未だ解決されていない問題であり、それは水で分解し、
ベンゼンスルホン酸及び硫酸と一緒に希酸として回収し
なげればならない。
これは工程の経済性に悪い影響を与え、また排水の処理
及び環境保護に関して大きな問題を引き起こす。
従来法によれば、ベンゼンスルホニルクロライド1トン
当り希酸約6トン(ベンゼンスルホン酸約0.2トン、
硫酸1.5トン及び塩酸0.3トン)が得られる。
更に公知の方法では、ベンゼンを含有する反応排ガスが
得られ、これが上述の排水問題に加えて排ガスからベン
ゼンを除去しない限り排ガス問題を引き起こす。
本発明の方法では、希酸問題ばかりでなく、対応する排
ガス問題も回避できる。
本方法の工業的及び経済的利点は、特に環境保護の分野
に現われる。
しかしながら本方法はベンゼンスルホン酸に対する収率
が非常に高く且つ実質的に定着的であるという利点をも
有している。
本方法を行なう場合、一般的に過剰量で用いられるとい
う事実にも拘らずベンゼンスルホン酸と等モル量の塩化
チオニル量だけが実質的に消費され、一方その過剰量は
回収することができ、又は工程を連続法で行なう時には
循環させることができ、塩化チオニルの消費された量だ
けを補充することで十分である。
用いるスルホン化剤も実質的に回収でき、再使用するこ
とができる。
以下の実施例で用いる装置は、内部温度計、攪拌機、還
流凝縮機及び加熱しうる滴下ロートを備えたltのフラ
スコである。
フラスコの内部温度は制御加熱によって数度以内で一定
に維持することができた。
この場合反応混合物の温度は以下の実施例で示す値から
約1〜3℃だゆ変化した。
用いるベンゼンスルホン酸は、%で示す純度ヲ有し、不
純物として主にジフェニルスルホン、水及び痕跡量の硫
酸を含有した。
スルホン化剤の量は各々の場合1単位で示し、その後に
括弧を用いてベンゼンスルホン酸に対スるモル%及び重
量%の表示をした。
実施例 1 塩化チオニル231’(2モル)及び三酸化硫黄5 ?
(0,063−Eル、3.2%)の混合物を最初にフ
ラスコに導入し、60℃に暖めた。
ベンゼンスルホン酸15M’(1,0モル)をこの温度
で2時間に亘り滴々に添加した。
この時ガスが激しく発生しはじめた。
添加の完了後、ガスの発生が止まるまで混合物を更に2
時間攪拌し、次いで過剰の塩化チオニルを常圧下に留去
した。
粗生成物1842が残ったが、これを20〜0、7 m
iHgの減圧下に蒸留した;この結果72〜78℃で初
留3.41、約89℃で主留174.Of及び蒸留残渣
2.3りを得た。
この主留は純度99.7%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドからなり、これは用いたベンゼンスルホン酸(純度
100%)に対し理論量の100%の収率に相当した。
実施例 2 塩化チオニルを最初に60℃の内部温度で導入した。
ベンゼンスルホン酸(純度98.5%)158f(10
モル)及びクロルスルホン酸5グ(0,043モル、3
.2%)を滴下Ptから2時間に亘り滴々に添加した。
次いでガスの発生が終るまで混合物を更に3.5時間同
一の温度で攪拌し、過剰の塩化チオニルを常圧下に留去
した。
この結果、粗生成物1891を得た。
2.5〜1.2miHgの減圧下での蒸留により、40
〜78℃で初留7.3y、85〜89℃で主留165.
Of。
119〜145℃で後輩1.6i及び蒸留残渣6.5?
を得た。
この主留は純度99.6%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドであり、ベンゼンスルホン酸(純度100%)に対
し理論量の94.4%の収率に相当した。
実施例 3 塩化チオニルを最初に60℃の内部温度で導入し、ベン
ゼンスルホン酸(純度98.5%)158y(ioモル
)及びH2SO,2,5f (0,026モル、1.6
%)を滴下p斗から2時間に亘り滴々に添加した。
次いでガスの発生が終るまで混合物を更に3.5時間同
一の温度で攪拌し、過剰の塩化チオニルを常圧下に留去
した。
この結果、粗生成物177zを得た。
1.2mmHgの減圧下での蒸留により、80〜87℃
で初留3.IP、87℃で主留126.3S’、100
〜150℃で後輩3.7り及び蒸留残渣4.1iを得た
この主留は純度lOO%のベンゼンスルホン酸クロライ
ドであり、ベンゼンスルホン酸(純度100%)に対し
理論量の72%の収率に相当した。
この蒸留残渣は主に未反応のベンゼンスルホン酸からな
っていた。
実施例 4 内部温度60℃において、ベンゼンスルホン酸(純度9
8.5%)158グ(1,0モル)及びH2SO47,
5P (0,075モル、4.7%)の混合物を攪拌し
ながら2時間に亘り塩化チオニル238グに添加した。
次いでガスの発生が終るまで混合物を同一温度で更に3
.5時間攪拌し、過剰の塩化チオニルを常圧下に留去し
た。
このようにして粗生成物1881を得た。
lOmmHgの減圧下での蒸留により、85〜86℃で
留分I32.2グ、86〜90℃で留分n143.92
.94℃で後輩2.6i及び蒸留残渣1.0?を得た。
留分Iは純度98.6%のベンゼンスルホン酸クロライ
ドであり、留分■は純度99.3%のベンゼンスルホン
酸クロライドであった。
ベンゼンスルホン酸クロライド(留分I+留分n)の収
率は、ベンゼンスルホン酸(純度100%)に対し理論
量の約100%であった。
H2SO47,5Pの代りにH2SO4151(0,1
5モル、9.4%)を用いて上述の実験を繰返した場合
、2時間の攪拌時間後に反応は完結した。
上述の如く反応混合物を処理した後、ベンゼンスルホン
酸クロライドが同様に定量的な収率で得られた。
実施例 5(比較例) ベンゼンスルホン酸(純度9s、5%)1585Fを攪
拌しながら約2時間に亘り60℃で塩化チオニル238
?に滴々に添加した。
ガスの発生が終るまで混合物を同一温度で更に3.5時
間攪拌し、過剰の塩化チオニルを常圧下に留去した。
このようにして粗生成物179?を得た。
10mmHgの減圧下での蒸留により、88〜100℃
で留分I37.9r1100〜140℃で留分■9、3
f?、及び蒸留残渣132.Ofを得た。
留分I中のベンゼンスルホン酸クロライドの含量は、ベ
ンゼンスルホン酸(純度100%)に対し、理論量の2
2%の収率に相当した。
実施例 6(比較例) 攪拌しながら約2時間に亘り塩化チオニル238?をベ
ンゼンスルホン酸(純度98.5%)158P中に60
℃で添加した。
次いでガスの発生が終るまで混合物を同一温度で更に2
時間攪拌し、過剰の塩化チオニルを常圧下に留去した。
1、0 mmHgの減圧下での残渣の分留により、88
〜100℃で留分I42.9グ、100〜135℃で留
分ll8S’、135〜165℃で留分■66.75’
及び蒸留残渣1oorを得た。
留分I中のベンゼンスルホン酸クロライドの含量は、ベ
ンゼンスルホン酸(純度100%)に対し、理論量の2
4%の収率に相当した。
実施例 7(比較例) 塩化チオニル238?及びベンゼンスルホン酸158y
を室温で混合し、ガスの発生が終るまで5時間60℃に
暖めた。
過剰の塩化チオニルを常圧下に留去し、残渣を1− O
mmHgの減圧下に蒸留した:この結果85〜100℃
で留分I39.6y、100−170℃で留分nlo、
6グ、170−177℃で留分■82.5グ及び残渣3
8.1グを得た。
留分■中のベンゼンスルホン酸クロライドの含量は、ベ
ンゼンスルホン酸(純度100%)に対して、理論量の
22%の収率に相当した。
実施例 8 (a) ベンゼンスルホン酸 用いた装置は、還流凝縮機を備えた直径6cIIL及び
高さ40cIILの垂直反応管であった。
直径約4cIfLの水平フリツ) (frit )内で
終るガス導入管を反応管の底部上鉤4crILの高さに
挿入した:反応管の底部上鉤20crrLの高さには、
側面に位置するすり合せガラスジヨイントを通して内部
温度計を挿入した。
反応管の内容物は磁気攪拌機で攪拌することができた。
上述の装置にベンゼン624P(8モル)及びオルト燐
酸81を滴し、攪拌しながら40℃に加熱した。
液体5O3320fを60℃に加熱された蒸発機に1時
間に亘って滴々に導入し、SO3の蒸気をガス導入管及
びそのフリットを通してベンゼン中に送入した。
同時にガス出口管の還流凝縮機の圧力流を通常の方法で
約300ミリバールに調節し、これべよって気体SO3
の均一流がガス導入管フリットを通して反応混合物中に
微分散形で供給されるようにした。
液体SO3は気体状態のSO3として必要とされる量を
与えるような速度で蒸発機に導入した。
内部温度計で測定される温度は反応中45±5℃に保っ
た:還流凝縮機の冷却温度は蒸発するベンゼンが再び凝
縮するように調節した。
1時間の反応暗度後、ベンゼンスルホン酸のベンゼン溶
液938yを得た。
過剰のベンゼンを最終的には浴温80℃及び10ミリバ
ールの圧力下に回転蒸発機で留去した。
次の分析データに相当する純度のベンゼンスルホン酸6
31.4S’を得た。
分析:硫酸4.13% ジフェニルスルホン5.1% ジフェニルスルホンモノスルホン酸<0.25% ジフェニルスルホンジスルホン酸<0.25%ベンゼン
ジスルホン<0.25% ベンゼンスルホン酸残すの% (b) ベンゼンスルホニルクロライド実施例1〜7
と同一の装置を用いた。
最初に塩化チオニル2985’(2,5モル)をフラス
コに導入し、60℃に加熱した。
次いで攪拌しながら3時間に亘り60℃に暖めたベンゼ
ンスルホン酸(上記aに記述した如く製造)151’を
滴下ロートから滴々に添加した。
反応生成物の塩化水素及び二酸化硫黄は気体状態で還流
凝縮機から消散した。
ベンゼンスルホン酸の添加が終了した後、ガスの発生が
終るまで混合物を60℃で更に2時間攪拌した。
次いで60℃及び水流ポンプ下に過剰の塩化チオニルを
回転蒸発機で蒸発させた。
液体残渣を蒸留橋で蒸留した:ベンゼンスルホニルクロ
ライド(純度99.2%)160.11を86℃/ 1
. OmmHg;の温度で無色の留出物として得た;こ
れはベンゼンスルホン酸(純度100%)に対し、理論
量99%の収率に相当した。
実施例 9 最初にベンゼンスルホン酸(純度98.1%)158P
及び硫酸5 ? (0,05モル、3%)を60℃で導
入した。
次いで反応混合物中に浸した同圧滴下Ptを用い、塩化
チオニル1791(1,5モル)をこの温度で4時間に
亘り滴々に添加した。
次いでガスの発生が終るまで混合物を更に4時間攪拌し
、過剰の塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去した。
この結果、1.7〜0.8 mmHgの減圧下に留出す
る粗生成物180Pを得た;これは65〜80℃で初留
3.4?、86℃で主留1721及び蒸留残渣3.7グ
を与えた。
この主留は純度99.8%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドからなり、用いたベンゼンスルホン酸(純度100
%)に対し理論量99.2%の収率に相当した。
実施例 10 ベンゼンスルホン酸(純度98.1%)158P。
硫酸5S’(0,05モル、3%)及び塩化チオニル5
95S’(5モル)を室温で混合した。
この時すでにガスの発生が起こった。
混合物を60℃まで暖め、ガスの発生が終るまでこの温
度で4時間攪拌した。
次いで過剰の塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去し
た。
この結果粗生成物183グを得た。3.4〜1.1間H
g下の蒸留により、65〜90℃で初留3.Oy、90
〜80℃(3,4〜1.1 imHg )で主留175
?及び蒸留残渣2.5?を得た。
主留は純度99.8%のベンゼンスルホニルクロライド
であり、ベンゼンスルホン酸(純度lOO%)に対し理
論量の100%の収率に相当した。
実施例 11 ベンゼンスルホン酸(純度98.1%)158′f?及
び硫酸7.51? (0,075モル、4.7%)を6
0℃で混合し、混合物を120℃に暖め、次いで反応混
合物に浸った同圧滴下ロートを通して攪拌しながら2時
間に亘り塩化チオニル214P(1,8モル)をこの温
度で滴々に添加した。
塩化チオニル約120f?を導入した後、残りの塩化チ
オニルを添加している間反応混合物の温度は約110℃
に低下した。
この間反応混合物は還流下に沸とうした。
次いでガスの発生が終るまで混合物を更に90分間攪拌
し、過剰の塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去した
この結果粗生成物1871を得た。
2.5〜1,5mmHgの減圧下の蒸留により、30〜
89℃で初留4.0グ、94〜95℃で主留1741及
び蒸留残渣4.7′i?を得た・ コノ主留は純度99.7%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドからなり、ベンゼンスルホン酸(純度100%)に
対し、定量的収率に相当した。
実施例 12 ベンゼンスルホン酸(純度9 g、 1%)158P及
び硫酸7.51(0,075モル、4.7%)を60℃
で混合し、混合物を90℃に暖め、次いで反応混合物に
浸った同圧滴下ロートを通して攪拌しながら2時間に亘
り塩化チオニル214P(18モル)をこの温度で滴々
に添加した。
次いでこの混合物をガスの発生が終るまで90℃で更に
2時間攪拌し、塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去
した。
この結果粗生成物19ozが残った。
これを2.8〜2. OmrnHgの減圧下に蒸留する
ことにより、59〜92℃で初留6.9 P、 96〜
101℃で主留175z及び残渣4.41を得た。
この主留は純度99.4%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドからなり、ベンゼンスルホン酸(純度100%)に
対して定量的な収率に相当した。
実施例 13 塩化チオニル238グ及びベンゼンスルホン酸(純度9
8.1%)151を室温で混合し、混合物を60℃まで
暖め、ガスの発生が終るまで約5時間この温度で攪拌し
た。
ガスの発生が終った後、硫酸7.51を添加した。
すぐに再びガスが激しく発生した。
このガスの発生は60℃で更に攪拌しながら約5−+時
間後に終了した。
次いで塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去した。
この結果粗成物が186−4P残存した。
ついで4.4〜4. OwnHgの減圧下での蒸留によ
り、80〜85℃で初留4.8f1104〜107℃で
主留175.1S’及び蒸留残渣2.22を得た。
主留は純度99.7%のベンゼンスルホン酸クロライド
からなり、用いたベンゼンスルホン酸(純度100%)
に対し理論量の100%の収率に相当した。
実施例 14 次の不純物:H2O0,03重量%、硫酸2.7重量%
、ジフェニルスルホン6.5重量%及びベンゼンジスル
ホン酸0.3〜0.4重量%を含有する溶融ベンゼンス
ルホン酸158P (1,0モル)を、攪拌しながら3
時間に亘り塩化チオニル238z(2,0モル)に40
℃で滴々に添加した。
この混合物をガスの発生が終るまで更に11時間この温
度で攪拌した。
次いで過剰の塩化チオニルを常圧下に留去し、次いで残
渣166zを15mmHgの減圧下に蒸留した。
この結果110〜120℃の留出物69.41及び蒸留
残渣86.、l’を得た。
留出物はベンゼンスルホン酸クロライドであり、用いた
ベンゼンスルホン酸(純度100%)ニ対し理論量の4
4%の収率に相当した。
実施例 15 実施例14に用いたものと同一の溶融ベンゼンスルホン
酸158iを、攪拌しながら3時間に亘り塩化チオニル
2381に50℃で滴々に添加した。
この混合物をガスの発生が終るまで更に8時間同一温度
で攪拌し、次いで過剰の塩化チオニルを常圧下で留去し
た。
得られた残渣1801を約10imHgの減圧下に蒸留
することにより、105〜115℃での留出物158i
及び残渣121を得た。
この留出物は、用いたベンゼンスルホン酸(純度100
%)に対して理論量の99%の収率に相当する純粋なベ
ンゼンスルホン酸クロライドであった。
実施例 16 攪拌しながら4時間に亘り実施例14で用いたベンゼン
スルホン酸158グに塩化チオニル119P(1,0モ
ル)を60℃で滴々に添加した。
次いでこの混合物をガスの発生が終るまで更に2時間こ
の温度で攪拌した。
次いで反応混合物を減圧下に蒸留した。
いくらかの塩化チオニルが約100 miHg下に留出
した。
次いで残渣175?を約110m1H下に蒸留すること
により、105〜112℃で留出物1061及び残渣5
71を得た。
この留出物はベンゼンスルホン酸(純度100%)に対
して理論量66%の収率に相当する留出物106tに相
当した。
実施例 17 攪拌しながら4時間に亘り、実施例14で示した組成の
ベンゼンスルホン酸158zに塩化チオニル149f(
1,25モル)を60℃で滴々に添加した。
次いでこの混合物をガスの発生が終るまでこの温度で更
に攪拌した。
いくらか過剰の塩化チオニルを約10mmHgの減圧下
に留去し、次いで残渣を約6mmHg下に蒸留した。
この結果約103℃で留出物160.IP及び残渣12
.3fを得た。
この留出物はベンゼンスルホン酸(純度100%)に対
して理論量の99%の収率に相当する純度99.1%の
ベンゼンスルホン酸クロライドであった。
実施例 18 硫酸1.6%、ジフェニルスルホン0.4%及ヒ水0.
6%を含有するベンゼンスルホン酸(純度97.4%)
158Pを150℃に暖め、次いで反応混合物に浸った
同圧滴下ロートを通して攪拌しながら2時間に亘り塩化
チオニル238iをこの温度で滴々に添加した。
塩化チオニル約14ozを導入した後、残りの塩化チオ
ニルを添加している間反応混合物の温度は約105℃に
低下した。
この間反応混合物は還流下に沸とうした。
次いでガスの発生が終るまで混合物を更に60分間攪拌
し、過剰の塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去した
この結果粗生成物173iを得た。
約3mmHgの減圧下での蒸留により、97〜99℃で
主留161z及び蒸留残渣6,4りを得た。
とノ主留は純度99.9%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドからなり、ベンゼンスルホン酸(純度100%)に
対し、理論量の93.5%の収率に相当した。
実施例 19 攪拌しながら4時間に亘り、ベンゼンスルホン酸(純度
99.5%)158S’を塩化チオニル238グ(2モ
ル)及び三酸化硫黄32?(0,4モル:20%)の混
合物に20℃で滴々に添加した。
この混合物を6時間更に反応させ、過剰の塩化チオニル
を水流ポンプ真空下に留去した。
この結果粗生成物208.2fを得た。
5〜1.4mmHg下に蒸留することにより、40〜6
5℃15闘Hgで初留I9.4y、65〜84℃15〜
2、7 mmHgで初留lI29.5f、約り5℃/1
.5朋Hgで主留147.35’、約120℃/1.4
mmHgで後輩2.8?及び残渣4.9yを得た。
この主留は用いたベンゼンスルホン酸(純度100%)
に対して理論量の83%の収率に相当する純度99.3
%のベンゼンスルホン酸クロライドからなっていた。
実施例 20 硫酸o、 14%及びジフェニルスルホン0.38%を
含有するベンゼンスルホン酸(純度99.5%)158
%を硫酸0.16P(0,002モル;0.1%と混合
し、混合物を120℃に暖めた。
次いで塩化チオニル2381を2時間に亘り滴々に添加
した。
塩化チオニル約130fを導入した後、残りの塩化チオ
ニルを添加している間反応混合物の温度は約105℃に
低下した。
この間反応混合物は還流下に沸とうした。
次いでガスの発生が終るまで混合物を更に6時間攪拌し
、過剰の塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去した。
この結果粗生成物178?を得た。
約8mmHgの減圧下での蒸留により、115〜118
℃で主留154?及び蒸留残渣251を得た。
この主留は純度99.7%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドからなりベンゼンスルホン酸(純度100%)に対
し、理論量の87%の収率に相当した。
実施例 21 実施例20で用いたベンゼンスルホン酸158グ及び硫
酸1.6 P (0,02モル、1%)を−緒に120
℃まで加熱し、塩化チオニル2381を攪拌しながら2
時間に亘り添加した。
塩化チオニル約1202を導入した後、残りの塩化チオ
ニルを添加している間反応混合物の温度は約105℃に
低下した。
この間反応混合物は還流下に沸とうした。
次いでガスの発生が終るまで混合物を更に5時間攪拌し
、過剰の塩化チオニルを水流ポンプ真空下に留去した。
この結果粗生成物183f?を得た。
約7mwHgの減圧下での蒸留により、92℃で初留1
.3?、110〜113℃で主留171?及び蒸留残渣
2.5りを得た。
との主留は純度99.6%のベンゼンスルホン酸クロラ
イドからなり、ベンゼンスルホン酸(純度100%)に
対し、理論量の97%の収率に相当した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ベンゼンスルホン酸と塩化チオニルとの反応をスル
    ホン化剤の存在下に行なうことを特徴とするベンゼンス
    ルホン酸と塩化チオニルとの反応によるベンゼンスルホ
    ン酸クロライドの製造法。 2 硫酸、三酸化硫黄、クロルスルホン酸又はそれらの
    混合物をスルホン化剤として用いる特許請求の範囲第1
    項の方法。 3 用いるベンゼンスルホン酸に対して20重量%まで
    のスルホン化剤を用いる特許請求の範囲第1または2項
    の方法。 4 ベンゼンスルホン酸の融点から170℃までの温度
    において液体又は気体の塩緩チオニルを溶融ベンゼンス
    ルホン酸に添加する特許請求の範囲第1〜3項のいずれ
    かの方法。
JP52092612A 1976-08-05 1977-08-03 ベンゼンスルホニルクロライドの製造法 Expired JPS5842865B2 (ja)

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JPS5318536A JPS5318536A (en) 1978-02-20
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