JPS5840302A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPS5840302A JPS5840302A JP13948481A JP13948481A JPS5840302A JP S5840302 A JPS5840302 A JP S5840302A JP 13948481 A JP13948481 A JP 13948481A JP 13948481 A JP13948481 A JP 13948481A JP S5840302 A JPS5840302 A JP S5840302A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymerizable composition
- acid
- group
- ethylenically unsaturated
- triazine
- Prior art date
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合性組成物に関するものである。
41に可視領域O光IIk対し高感度を示す光重合性組
成物に―するものである。
成物に―するものである。
従来、光重合系利用0@儂形成法は多数知られており、
例えば付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物
と光重合開始剤、さらに所望により用いられる有機高分
子結合剤、熱重合禁止剤1着色剤、可塑動勢からなる光
重合性組成物を調製し、この光重合性組成物を無溶媒ま
たは溶液となし支持体上に塗布して光重合性組成物の層
を設けた感光材料を作威し所望met俸露光露光露光部
分を重合硬化させ未露光部分を溶鱗除去するととkより
硬化レリーフ−倫を形成する方法や上述感光材料が少な
くとも一方が透明である一枚の支持体間に光重合性組成
物層を設けたものであり透明支持体側よ)會篇光し光に
よる接着強度の変化を惹起させた後支持体を剥離すると
とKより画像を形成する方法その他覚重合性組成物層の
光によるトナー耐着性の変化を利用した画像作成方法等
がある・か橡な方法に応用される光重合性組成物の光1
合−鮎剤としては従来、ベンゾイン、ペンゾインア( ルキルエーテル、ベンゾ\、フェノン、アントラキノン
、ベンジル、あるい″ケミヒラーケトンなどが用いられ
てきた。しかしながら、これらの光重合開始剤はダθO
nw+以下の紫外線領域の光源に対する光重合開始能力
に比較し、ダθθnm以上の可視光線領域の光源に対す
るそれは顕著に低く、従ってそれらを含む光重合性組成
物の応用範囲を著しく限定してきた。
例えば付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物
と光重合開始剤、さらに所望により用いられる有機高分
子結合剤、熱重合禁止剤1着色剤、可塑動勢からなる光
重合性組成物を調製し、この光重合性組成物を無溶媒ま
たは溶液となし支持体上に塗布して光重合性組成物の層
を設けた感光材料を作威し所望met俸露光露光露光部
分を重合硬化させ未露光部分を溶鱗除去するととkより
硬化レリーフ−倫を形成する方法や上述感光材料が少な
くとも一方が透明である一枚の支持体間に光重合性組成
物層を設けたものであり透明支持体側よ)會篇光し光に
よる接着強度の変化を惹起させた後支持体を剥離すると
とKより画像を形成する方法その他覚重合性組成物層の
光によるトナー耐着性の変化を利用した画像作成方法等
がある・か橡な方法に応用される光重合性組成物の光1
合−鮎剤としては従来、ベンゾイン、ペンゾインア( ルキルエーテル、ベンゾ\、フェノン、アントラキノン
、ベンジル、あるい″ケミヒラーケトンなどが用いられ
てきた。しかしながら、これらの光重合開始剤はダθO
nw+以下の紫外線領域の光源に対する光重合開始能力
に比較し、ダθθnm以上の可視光線領域の光源に対す
るそれは顕著に低く、従ってそれらを含む光重合性組成
物の応用範囲を著しく限定してきた。
可視光線に感応する光重合系に関しては従来いくつかの
II巣がなされてきた。古くは米国特許第一、rzty
、a<け号によればある種の光還元性染料、例えばロー
ズベンガル、エオシン、エリスロシン、リボフラビン勢
が効果的な可視光感応性を有していると報告して−る。
II巣がなされてきた。古くは米国特許第一、rzty
、a<け号によればある種の光還元性染料、例えばロー
ズベンガル、エオシン、エリスロシン、リボフラビン勢
が効果的な可視光感応性を有していると報告して−る。
その后改良技術として染料と脂肪族アミンの複合開始系
C9218タダ−コ0/Iり)、ヘキサアリールビイミ
ダゾールとラジカル発生剤および染料の系(%公i8@
j−373クク)、ヘキサアリールビイミダゾールとp
−ジアルキルア宅ノベンジリデンケトンの系(4I開l
84t7−Jj211特開紹j #−111−デー)、
ヘキサアリールビイミダゾールとインダノンの系(%8
W3j4’−/j1コ9−)、環状シス−α−ジカルl
ニル化合物と染料の系(%開昭ダt−r4ties)、
置換トリアジンとメロシアニン色素の系(111開昭3
41−/!10241)などの提案がなされてきた。ζ
わら技術は確かに可視光線に対し有効ではあるが、未だ
その感光速度は充分満足すべきものではなくさらに改良
技術が望まねていた。
C9218タダ−コ0/Iり)、ヘキサアリールビイミ
ダゾールとラジカル発生剤および染料の系(%公i8@
j−373クク)、ヘキサアリールビイミダゾールとp
−ジアルキルア宅ノベンジリデンケトンの系(4I開l
84t7−Jj211特開紹j #−111−デー)、
ヘキサアリールビイミダゾールとインダノンの系(%8
W3j4’−/j1コ9−)、環状シス−α−ジカルl
ニル化合物と染料の系(%開昭ダt−r4ties)、
置換トリアジンとメロシアニン色素の系(111開昭3
41−/!10241)などの提案がなされてきた。ζ
わら技術は確かに可視光線に対し有効ではあるが、未だ
その感光速度は充分満足すべきものではなくさらに改良
技術が望まねていた。
■
本発明者は、上紀従来技術の間龜点を改良すべく鋭意検
討1.た結果、特定の組合せから成る光重合開始系を使
用するととによって所期の目的が達成されることを見い
出し1本発明を完成するに到った。
討1.た結果、特定の組合せから成る光重合開始系を使
用するととによって所期の目的が達成されることを見い
出し1本発明を完成するに到った。
すなわち1本発明の蚤旨は、エチレン性不飽和二重結合
を少くとも7個有する付加1合可能な化合物および光1
合−始系からなる光重合性組成411Jにおいて、該光
重合FM4#i系が、(a)チアビリリウふ塩、および
(リ一般式 〔式中、R1,RtおよびR1は置換基を有していても
よいアルキル基、アリール基、アルケニル基、もしくは
、ピペリジノ基、−NR,、−〇R1またけ一81t
(ここでRは水素原子、またはアルキル基を示す、)を
示し、そhらのうち少くと%1つはモノ、ジまたはトリ
ハロゲン置換メチル基を示す、〕で表わさねる8−トリ
アジン誘導体を含有することを特徴とする光重合性組成
物に存する。
を少くとも7個有する付加1合可能な化合物および光1
合−始系からなる光重合性組成411Jにおいて、該光
重合FM4#i系が、(a)チアビリリウふ塩、および
(リ一般式 〔式中、R1,RtおよびR1は置換基を有していても
よいアルキル基、アリール基、アルケニル基、もしくは
、ピペリジノ基、−NR,、−〇R1またけ一81t
(ここでRは水素原子、またはアルキル基を示す、)を
示し、そhらのうち少くと%1つはモノ、ジまたはトリ
ハロゲン置換メチル基を示す、〕で表わさねる8−トリ
アジン誘導体を含有することを特徴とする光重合性組成
物に存する。
以下本発明について説明する。
本発明の光重合開始系Fi、活性光線の照射によりラジ
カルを発生し、後述のエチレン性不飽和結合を有する化
合物の付加重合反応をもたらすものである0本発明の光
1合開始系は(&)チアピリリウム塩および(b)前記
一般式(1)で表わさhる。−、リアレアー導体を含有
する。
カルを発生し、後述のエチレン性不飽和結合を有する化
合物の付加重合反応をもたらすものである0本発明の光
1合開始系は(&)チアピリリウム塩および(b)前記
一般式(1)で表わさhる。−、リアレアー導体を含有
する。
第1成分の(a)チアピリリウム塩は、例えば、養分1
84to−−2t4tタタ号公報等に記載の周知の種々
のものを使用することができる。好ましくは、例えば、
一般式(1) X− 〔式中 R4、R1およびR’は水素原子、アルキル基
、またけアルコキシ基を示し、”−#i陰イオンを示す
〕で表わされるチアピリリウム塩が挙けられる。
84to−−2t4tタタ号公報等に記載の周知の種々
のものを使用することができる。好ましくは、例えば、
一般式(1) X− 〔式中 R4、R1およびR’は水素原子、アルキル基
、またけアルコキシ基を示し、”−#i陰イオンを示す
〕で表わされるチアピリリウム塩が挙けられる。
具体的には1例えばs ’s”e4− )リフェニルチ
アビリリウム塩、慎−(a−メトキシフェニル) −,
2,j−ジフェニルチアピリリウム塩、4t−(a−メ
トキシフェニル)−λ、d−−/フェニルチアピリリウ
ム塩、a−(a−プロポキシフェニル)−コ、6−ジフ
エエルチアビリリウム塩。
アビリリウム塩、慎−(a−メトキシフェニル) −,
2,j−ジフェニルチアピリリウム塩、4t−(a−メ
トキシフェニル)−λ、d−−/フェニルチアピリリウ
ム塩、a−(a−プロポキシフェニル)−コ、6−ジフ
エエルチアビリリウム塩。
a−(與−ブトキシフェニル、) −J、4−ジフェニ
ルチアピリリウム塩、愼−(4t−アミロキシフェニル
) −2,4−シフェニルチアヒIJ IJウム塩、λ
e”m’ −)す(4t−メトキシフェニル)チアピリ
リム塩、−一(愼−メトキシフェニル)−一、−一ビス
(4t−メトキシフェニル)チアピリリウム塩が挙けら
れる・ 前記一般式(璽)Kシいて、チアピリリウム塩の対アニ
オンX−としては1例えば、0l−1nr−1X−など
のハ四ゲン陰イオン、 0204−1BP、−1PF、
−、などの無機陰イオン、OR,80s−1Hs’G”
m−、’馬COO″″などの有機陰イオンがあげられる
。
ルチアピリリウム塩、愼−(4t−アミロキシフェニル
) −2,4−シフェニルチアヒIJ IJウム塩、λ
e”m’ −)す(4t−メトキシフェニル)チアピリ
リム塩、−一(愼−メトキシフェニル)−一、−一ビス
(4t−メトキシフェニル)チアピリリウム塩が挙けら
れる・ 前記一般式(璽)Kシいて、チアピリリウム塩の対アニ
オンX−としては1例えば、0l−1nr−1X−など
のハ四ゲン陰イオン、 0204−1BP、−1PF、
−、などの無機陰イオン、OR,80s−1Hs’G”
m−、’馬COO″″などの有機陰イオンがあげられる
。
本発明に用いられるチアピリリウム塩は例えば特公昭4
to−J/慎デthどに記載されている方法により合成
できる。
to−J/慎デthどに記載されている方法により合成
できる。
#I−成分の(b) s−)リアジン誘導体は、前記一
般式(1)で表わされる少くと47つのモノ。
般式(1)で表わされる少くと47つのモノ。
ジまたはトリハロゲン置換メチル基がe−)リアジンI
IK結合し九s −)リアジン誘導体で69、例えば、
苦杯ら着、Bull、 Chew、 Boa。
IK結合し九s −)リアジン誘導体で69、例えば、
苦杯ら着、Bull、 Chew、 Boa。
Japan、乙巳、292@(/り6デ)、米国特許部
3、り17.OJり号明細書、ν、0jlchaef@
r at al。
3、り17.OJり号明細書、ν、0jlchaef@
r at al。
J、 Org、Oh・II、、 Jf、IJ−7(lり
4ダ)記載の化合物勢が挙げられふ。
4ダ)記載の化合物勢が挙げられふ。
具体的には、−ai’ −)リス(トリクロルメチル)
−11−)リアジン、−一メチルーダ、4−ビス(トリ
クロルメチル)−8−トリアジン。
−11−)リアジン、−一メチルーダ、4−ビス(トリ
クロルメチル)−8−トリアジン。
コーアエニルー4t、4−ビス() IJ クロルメチ
ル)−8−) 17 シン、J −(p −/ロルフェ
ニル)−グ、6−ビス(トリクロルメチル)−1−)リ
アジン1.2−(,214t−シIロルフェニル)−グ
、6−ビス(トリクロルメチル)i−)リアジン、J−
(p−ブロムフェニル)−ダウ6−ビス(トリクロルメ
チル’)−8−)リアジン、J(p−トリル)−4t、
t−ビス(トリクロルメチル)−8−)リアジン、−一
(p−メトキシフェニル) −a、t−ビス(トリクロ
ルメチル)−〇−トリアジン、コーム−プロピルーダ、
6−ビス(トリクロルメチル)−B−トリアジン、−一
(α、α、β−トリクロルエチル)−ダウ4−ビス(ト
リクロルメチル)!−)リアジン。
ル)−8−) 17 シン、J −(p −/ロルフェ
ニル)−グ、6−ビス(トリクロルメチル)−1−)リ
アジン1.2−(,214t−シIロルフェニル)−グ
、6−ビス(トリクロルメチル)i−)リアジン、J−
(p−ブロムフェニル)−ダウ6−ビス(トリクロルメ
チル’)−8−)リアジン、J(p−トリル)−4t、
t−ビス(トリクロルメチル)−8−)リアジン、−一
(p−メトキシフェニル) −a、t−ビス(トリクロ
ルメチル)−〇−トリアジン、コーム−プロピルーダ、
6−ビス(トリクロルメチル)−B−トリアジン、−一
(α、α、β−トリクロルエチル)−ダウ4−ビス(ト
リクロルメチル)!−)リアジン。
コースチリルーダ、6−ビス(トリクロルメチル)−〇
−トリアジン、λ、ダ$4− )リス(ジクロルメチル
)−1!−)1アジン、コ、a、t −)リス(モノク
ロルメチル)−m−トリアジン、−一(p−メトキシス
チリル) −4t、d−ビス(トリクロルメチル)−−
一トリアジン、λβ、4−トリス(トリブロムメチル)
−a−トリアジン、−一メチルーダ、4−ビス(トリク
ロルメチル)−−一トリアジン、J、#、4−)リス(
ジブロムメチル)−11−)リアジン、J−メトキシー
ダ、4−ビス(トリブロムメチル)−s−トリアジン、
−−ア電ノーダ、4−ビス(トリブ關ふメチル)−6−
トリアジン、−一ビペリジノー!、4−ビス(トリブロ
ムメチル)−S−)リアジン等が挙げられる。41に好
適には、コ、@、4−トリス(トリクロルメチル)7g
−)リアジン、コーフェニルー11.4−ビス(トリク
ロルメチル)−B−トリアジン、J−メチルーダ、6−
ビス(トリクロルメチル)−−一トリアジン、−、ダ、
4−トリヌ(トリブロムメチル)−S−)リアジンが挙
げられる。
−トリアジン、λ、ダ$4− )リス(ジクロルメチル
)−1!−)1アジン、コ、a、t −)リス(モノク
ロルメチル)−m−トリアジン、−一(p−メトキシス
チリル) −4t、d−ビス(トリクロルメチル)−−
一トリアジン、λβ、4−トリス(トリブロムメチル)
−a−トリアジン、−一メチルーダ、4−ビス(トリク
ロルメチル)−−一トリアジン、J、#、4−)リス(
ジブロムメチル)−11−)リアジン、J−メトキシー
ダ、4−ビス(トリブロムメチル)−s−トリアジン、
−−ア電ノーダ、4−ビス(トリブ關ふメチル)−6−
トリアジン、−一ビペリジノー!、4−ビス(トリブロ
ムメチル)−S−)リアジン等が挙げられる。41に好
適には、コ、@、4−トリス(トリクロルメチル)7g
−)リアジン、コーフェニルー11.4−ビス(トリク
ロルメチル)−B−トリアジン、J−メチルーダ、6−
ビス(トリクロルメチル)−−一トリアジン、−、ダ、
4−トリヌ(トリブロムメチル)−S−)リアジンが挙
げられる。
これら−一トリアジン誘導体は上記文献に従つて、対応
するニトリル化合物を臭化アル2ニウムと塩化水素の存
在下で反応させるか、対応するイミデートを経由して合
成することができる。
するニトリル化合物を臭化アル2ニウムと塩化水素の存
在下で反応させるか、対応するイミデートを経由して合
成することができる。
本発明の光1合開始系は、前述の(+!1)、(b)二
成分の組合せKよりはじめて顕著な効果を発揮【。
成分の組合せKよりはじめて顕著な効果を発揮【。
得る。
従来、チアピリリウム塩が単独でエチレン性不飽和結合
を有する化合物に対し光1合開始能を有することは知ら
hてbる(#公開ダθ−ムリップ号公報)が、このチア
ピリリウム−を前記一般式(1)で表わされる8−トリ
アジン誘導体と組合せて使用するととによって、後述の
実施例に4示したように1数倍奄の感度の向上が達成さ
れるのである。
を有する化合物に対し光1合開始能を有することは知ら
hてbる(#公開ダθ−ムリップ号公報)が、このチア
ピリリウム−を前記一般式(1)で表わされる8−トリ
アジン誘導体と組合せて使用するととによって、後述の
実施例に4示したように1数倍奄の感度の向上が達成さ
れるのである。
(a)成分および(1))成分の使用割合はml比てl
:IOないしl0=7の範囲、好ましく#i/ :ダな
いしダニltでの範囲である。また本発明の光重合性組
成物に含まれる光重合開始系は、エチレン性不飽和二重
結合を少くとも1個有する付加重合可能な化合物に対し
て重量比率でθ、/XないしJOXであり好ましくFi
o、zxlにいし10%の範囲である・ 次に1本発明のエチレン性不飽和二重結合を少くとも7
個有する付加重合可能な化合物について説明する。
:IOないしl0=7の範囲、好ましく#i/ :ダな
いしダニltでの範囲である。また本発明の光重合性組
成物に含まれる光重合開始系は、エチレン性不飽和二重
結合を少くとも1個有する付加重合可能な化合物に対し
て重量比率でθ、/XないしJOXであり好ましくFi
o、zxlにいし10%の範囲である・ 次に1本発明のエチレン性不飽和二重結合を少くとも7
個有する付加重合可能な化合物について説明する。
骸化合物は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた
場合、第二の必須成分である光重合開始系の光分清生成
物の作用によ]付加重合するととkより硬化し実質的に
不溶化をもたらすようなエチレン性不飽和二重結合を有
する単量体、または、備鎖もしくは主IsKエチレン性
不飽和二重結合を有する重合体である。′&お、本発w
AKおける単量体の意味するとζろは、所謂高分子物質
に相対する概念であって、従って、狭義の単量体以外に
二量体、二量体、オリゴマーvr4包含する亀のである
。
場合、第二の必須成分である光重合開始系の光分清生成
物の作用によ]付加重合するととkより硬化し実質的に
不溶化をもたらすようなエチレン性不飽和二重結合を有
する単量体、または、備鎖もしくは主IsKエチレン性
不飽和二重結合を有する重合体である。′&お、本発w
AKおける単量体の意味するとζろは、所謂高分子物質
に相対する概念であって、従って、狭義の単量体以外に
二量体、二量体、オリゴマーvr4包含する亀のである
。
エチレン性不飽和結合を有する単量体としては例えば不
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポダヒド四キシ化合物
、芳香族ポリヒドロキシ化合物勢の多価ヒドロキシ化合
物とのエステル化反jElより得られるエステル勢が挙
げられる。
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポダヒド四キシ化合物
、芳香族ポリヒドロキシ化合物勢の多価ヒドロキシ化合
物とのエステル化反jElより得られるエステル勢が挙
げられる。
不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル酸、メタク
リル蒙、イタコン酸、クロトン酸、!レイン酸などがあ
る。
リル蒙、イタコン酸、クロトン酸、!レイン酸などがあ
る。
脂肪族ポリヒドロキシ化合物として#′i例えばエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ゛レン
ゲリコール、テトラエφレンクリコール、ネオペンチル
グリコール、プロピレングリコール、l、2−ブタンジ
オール等の二価アルコールI!Ii!% トリメチ四−
ルエタン、トリメチロールプロパン、グリセロール勢の
三価アルコール、ペンタエリスリトール、トリペンタエ
リスリトール等の四価以上のアルコール類、ジヒドロキ
シマレイン酸勢の多価ヒドロキシカルボン酸類がある。
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ゛レン
ゲリコール、テトラエφレンクリコール、ネオペンチル
グリコール、プロピレングリコール、l、2−ブタンジ
オール等の二価アルコールI!Ii!% トリメチ四−
ルエタン、トリメチロールプロパン、グリセロール勢の
三価アルコール、ペンタエリスリトール、トリペンタエ
リスリトール等の四価以上のアルコール類、ジヒドロキ
シマレイン酸勢の多価ヒドロキシカルボン酸類がある。
芳香族ポリヒドロキシ化合物としてはハイド−キノン、
レゾルシン、カテコール、ビロガ四−ル勢がある。
レゾルシン、カテコール、ビロガ四−ル勢がある。
多価カルボン酸としては、フタル酸、インフタル酸、テ
レフタル酸、テトラクールフタル酸、トリメリット11
.ピロメリット酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、マリ
イン酸、フィル酸、i冑ン酸、ゲルタール酸、アジピン
酸、セバシン酸、テトラヒト−フタル酸等がある。
レフタル酸、テトラクールフタル酸、トリメリット11
.ピロメリット酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、マリ
イン酸、フィル酸、i冑ン酸、ゲルタール酸、アジピン
酸、セバシン酸、テトラヒト−フタル酸等がある。
脂肪族ポリヒト°四キシ化合物と不飽和カルボン酸との
エステルの具体例としてけ、エチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールシアクリv−ト、テ
トラメチレングリコールジアクリレーF、トリメチロー
ルプ0 ハントリアクリレート、トリメチリールエタン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレ−F。
エステルの具体例としてけ、エチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールシアクリv−ト、テ
トラメチレングリコールジアクリレーF、トリメチロー
ルプ0 ハントリアクリレート、トリメチリールエタン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレ−F。
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、トリペン
タエリスリトールオクタアクリレート、グリセロールジ
アクリレート等のアクリル酸エステル、トリエチレング
層コールジメタクリレート、テトラメチレングリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタニススリトールテトラメタクリレート、トリペ
ンタエリスリトールオクタメタクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、l、コープタンジオールジ
メタクリレート、ンルビトールテトラメタクリレート等
のメタクリル酸エステル、エチレングリコールシイタコ
ネート、プロピレングリコールシイタコネート、l、コ
ープタンジオールシイタコネート、テトラメチレングリ
ーールジイタ;ネート、ペンタエリスリトールト啼イタ
コネート等のイタコン瞭エステル、エチレングリコール
ジクートネート、ジエチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールテトラクロトネート等のクロト
ン酸エステル、エチレングリコールジ’yレエート、ト
リエチレングリコールジマレエート、ペンタエリスリト
ールジ!レエート勢の!レイン酸エステルがある。
タエリスリトールオクタアクリレート、グリセロールジ
アクリレート等のアクリル酸エステル、トリエチレング
層コールジメタクリレート、テトラメチレングリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタニススリトールテトラメタクリレート、トリペ
ンタエリスリトールオクタメタクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、l、コープタンジオールジ
メタクリレート、ンルビトールテトラメタクリレート等
のメタクリル酸エステル、エチレングリコールシイタコ
ネート、プロピレングリコールシイタコネート、l、コ
ープタンジオールシイタコネート、テトラメチレングリ
ーールジイタ;ネート、ペンタエリスリトールト啼イタ
コネート等のイタコン瞭エステル、エチレングリコール
ジクートネート、ジエチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールテトラクロトネート等のクロト
ン酸エステル、エチレングリコールジ’yレエート、ト
リエチレングリコールジマレエート、ペンタエリスリト
ールジ!レエート勢の!レイン酸エステルがある。
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルとしては、ハイド−キノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、vゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタタリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
ステルとしては、ハイド−キノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、vゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタタリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
不飽和カルボン酸と多価カルボンIIJび′多価にドロ
キシ化合物とのエステル化反応によ)得られるエステル
としては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を表
7に記す0表中の2はアクリロイル基またはメタクリロ
イル基を示す。
キシ化合物とのエステル化反応によ)得られるエステル
としては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を表
7に記す0表中の2はアクリロイル基またはメタクリロ
イル基を示す。
表/
その他事発明に用いられる工峰しン性不飽和二重結合を
有する化合物の例としてはアクリルアミド、エチレンビ
スアクリルアZド、ヘキサメチレンビスアクリルア2ド
尋のアクリルア2トIi%エチレンビスメタクリルアt
ys ヘ*?メチレンビスメタクリルア電ド等のメタ
クリルアさド類、フタル酸ジアリル、マロン酸ジアリル
、フマル酸ジアリル、トリアIJルインシアヌレート勢
のアリルエステル類、ジビニルアジペート、ジビニルフ
タレート、エチレングリコールジビニルエーテル等のビ
ニール含有化合物A1挙げられる。
有する化合物の例としてはアクリルアミド、エチレンビ
スアクリルアZド、ヘキサメチレンビスアクリルア2ド
尋のアクリルア2トIi%エチレンビスメタクリルアt
ys ヘ*?メチレンビスメタクリルア電ド等のメタ
クリルアさド類、フタル酸ジアリル、マロン酸ジアリル
、フマル酸ジアリル、トリアIJルインシアヌレート勢
のアリルエステル類、ジビニルアジペート、ジビニルフ
タレート、エチレングリコールジビニルエーテル等のビ
ニール含有化合物A1挙げられる。
主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は例えば不
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応によシ得られるボ1Jエステル、不飽和二価カルボン
酸とシア電ンとの1縮合反応により得られるボリア2ド
勢がある。
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応によシ得られるボ1Jエステル、不飽和二価カルボン
酸とシア電ンとの1縮合反応により得られるボリア2ド
勢がある。
本発明で使用するこれら重合体は、通常、10.000
〜/D0,000の分子量を有する。不飽和二価カルボ
ン酸としてはマレイン酸、フマ−ル酸などが挙けられる
。側鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は側鎖に
不飽和結合を4つ二価カルボン酸例えばイタコン酸、α
−メチルイタコン酸、r−メチルイタコン酸、プロピリ
デンコハク酸、α−エチリデンダルタル酸。
〜/D0,000の分子量を有する。不飽和二価カルボ
ン酸としてはマレイン酸、フマ−ル酸などが挙けられる
。側鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は側鎖に
不飽和結合を4つ二価カルボン酸例えばイタコン酸、α
−メチルイタコン酸、r−メチルイタコン酸、プロピリ
デンコハク酸、α−エチリデンダルタル酸。
エチリデンマロン#、″プロピリデンマロン酸勢とジヒ
ドロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエス
テル、シアオンとの重縮合反応により得られるポリアミ
ド等がある。tた側鎖にヒト°■キシ基やハロゲン化メ
チル基の如き反応活性を有する官能基を4つ1合体と(
メタ)アクリル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸
との高分子反応により得られるポリマー1好適に使用し
得る。前記の反応活性を有する官能基を4つ重合体とし
てはポリビニルアルコール、ビニルアル;−ルと酢酸ビ
ニルとの共重合体、ビニルアルコールとアクリロニトリ
ル、スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン勢との共重
合体、ポリエビフルルヒドリン、−一ヒドロキシエチル
メタクリレートとアクリロニド、IIJル、メチルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、スチレン、塩化ビ
ニリデン、酢酸ビニル等との共重合体、エビクロ、ルヒ
ドリンとコ、コービス(4t−ヒドロキシフェニルンー
プロパンとの反応により得られるポリエーテル、ポリ(
4t−ヒドロキシスチレン)、ポリ(N−メチ四−ルア
クリルアンド)などが挙けられる。
ドロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエス
テル、シアオンとの重縮合反応により得られるポリアミ
ド等がある。tた側鎖にヒト°■キシ基やハロゲン化メ
チル基の如き反応活性を有する官能基を4つ1合体と(
メタ)アクリル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸
との高分子反応により得られるポリマー1好適に使用し
得る。前記の反応活性を有する官能基を4つ重合体とし
てはポリビニルアルコール、ビニルアル;−ルと酢酸ビ
ニルとの共重合体、ビニルアルコールとアクリロニトリ
ル、スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン勢との共重
合体、ポリエビフルルヒドリン、−一ヒドロキシエチル
メタクリレートとアクリロニド、IIJル、メチルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、スチレン、塩化ビ
ニリデン、酢酸ビニル等との共重合体、エビクロ、ルヒ
ドリンとコ、コービス(4t−ヒドロキシフェニルンー
プロパンとの反応により得られるポリエーテル、ポリ(
4t−ヒドロキシスチレン)、ポリ(N−メチ四−ルア
クリルアンド)などが挙けられる。
以上1軟したエチレン性不飽和二重結合を少くと47儒
有する付加重合可能な化合物の内。
有する付加重合可能な化合物の内。
アクリロ酸エステルIltたけメタクリル酸エステル類
の単量体が1liK好適に使用できる。
の単量体が1liK好適に使用できる。
本発明の光重合性組成物は前記した光重合開始系とエチ
レン性不飽和結合を有する化合物とを必**分として含
有するが、本組成物の改質5党硬化後の物性改善の為に
結合剤として有機高夛子物質を更に添加することができ
ゐ、結合剤は相溶性、皮lI[形成性、ms性、接着性
勢改善目的に応じて適宜選択すればよい、具体的には例
えば水系現像性改−には(メタ)アクリル酸共重合体、
イタ;ン酸共重会体、部分エステル化−レイン酸共重合
体、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース変性
物、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン等が
あり、皮膜強度、接着性の改善にはエビクロロヒドリン
とビスフェノールAとのポリエーテル、可溶性ナイロン
、ポリメチルメタクリレートの橡なポリメタクリル酸ア
ル中ルやポリアクリル酸フルキル、メタクリル酸アルキ
ルとアクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル#、塩
化ビニル、塩化ヒニリデン、スチレン尋との共重合体、
アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビニリデンとの共
重合体、塩化ビニリデン、塩素化ポリオレフィン、塩化
ビニルと酢酸ビニルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ア
クリロニトリルとスチレンとの共重合体、アクリロニト
リルとブタジェン、スチレンとの共重合体、ポリビニル
アルキルエーテル、ポリビニルアルキルケトン、ポリス
チレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレ
フタレージインフタレート、アセチルセルローズポリビ
ニルブチラール等を挙けるととができる。こhらの結合
剤はエチレン結 2金を有する化合物に対し重量比率で
!θ0X以下、好ましく#iコooX以下の範囲で添加
混合することができる。
レン性不飽和結合を有する化合物とを必**分として含
有するが、本組成物の改質5党硬化後の物性改善の為に
結合剤として有機高夛子物質を更に添加することができ
ゐ、結合剤は相溶性、皮lI[形成性、ms性、接着性
勢改善目的に応じて適宜選択すればよい、具体的には例
えば水系現像性改−には(メタ)アクリル酸共重合体、
イタ;ン酸共重会体、部分エステル化−レイン酸共重合
体、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース変性
物、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン等が
あり、皮膜強度、接着性の改善にはエビクロロヒドリン
とビスフェノールAとのポリエーテル、可溶性ナイロン
、ポリメチルメタクリレートの橡なポリメタクリル酸ア
ル中ルやポリアクリル酸フルキル、メタクリル酸アルキ
ルとアクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル#、塩
化ビニル、塩化ヒニリデン、スチレン尋との共重合体、
アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビニリデンとの共
重合体、塩化ビニリデン、塩素化ポリオレフィン、塩化
ビニルと酢酸ビニルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ア
クリロニトリルとスチレンとの共重合体、アクリロニト
リルとブタジェン、スチレンとの共重合体、ポリビニル
アルキルエーテル、ポリビニルアルキルケトン、ポリス
チレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレ
フタレージインフタレート、アセチルセルローズポリビ
ニルブチラール等を挙けるととができる。こhらの結合
剤はエチレン結 2金を有する化合物に対し重量比率で
!θ0X以下、好ましく#iコooX以下の範囲で添加
混合することができる。
本発明の光重合性組成物は必9に応じ更に熱重合防止剤
、着色剤、可塑剤、表面保饅剤、平滑剤、塗布助剤郷添
加することができる。
、着色剤、可塑剤、表面保饅剤、平滑剤、塗布助剤郷添
加することができる。
熱重合防止剤としては例えば/Sイドロキノン、p−メ
トキシフェノール、ビーガロール、カテコール、 2.
4−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトール
危どがあ抄着色剤としては例えはフタリシアニン系顔料
、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔
料、トリフェニルメタン系染料、アゾ系染料、アントラ
キノン系染料がある。これら熱1合防止剤や着色剤の添
加量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合
剤との合計重量に対し熱重合防止剤が0.01%ないし
3%%着色剤0.00 /%ないしto%が好ましい。
トキシフェノール、ビーガロール、カテコール、 2.
4−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトール
危どがあ抄着色剤としては例えはフタリシアニン系顔料
、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔
料、トリフェニルメタン系染料、アゾ系染料、アントラ
キノン系染料がある。これら熱1合防止剤や着色剤の添
加量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合
剤との合計重量に対し熱重合防止剤が0.01%ないし
3%%着色剤0.00 /%ないしto%が好ましい。
可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシ
ルックレ−ト、ジブチルフタレート、ブチルベンジル7
タレート、トリエチレンダリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコール7タレート、トリクレジルホスフェー
ト、ジオク争ルアジベート。
ルックレ−ト、ジブチルフタレート、ブチルベンジル7
タレート、トリエチレンダリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコール7タレート、トリクレジルホスフェー
ト、ジオク争ルアジベート。
ジブチルアジベーF、ジブチルセパケート、ジブチルマ
レエート、トリアセチルグリセリン勢がありエチレン性
不飽和二重結合基を有する化合物と結合剤との合計重量
に対し5%以下添加することができる。
レエート、トリアセチルグリセリン勢がありエチレン性
不飽和二重結合基を有する化合物と結合剤との合計重量
に対し5%以下添加することができる。
本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光材料を形成す
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしとわを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤と(、
ては例えばメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキ
サノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アきル、プロピ
オン酸エチル、トルエン、キシレン、ベンゼン、モノク
ロロベンゼン、り四ロホルム、四tjt(If素、)す
/ロロエチレン、トリクn−エタン。
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしとわを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤と(、
ては例えばメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキ
サノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アきル、プロピ
オン酸エチル、トルエン、キシレン、ベンゼン、モノク
ロロベンゼン、り四ロホルム、四tjt(If素、)す
/ロロエチレン、トリクn−エタン。
ジメチルホルムアさド、メチルセ交ノルプ、エチルセロ
ソルブ、テトラヒドロ7ラン、ペントキソン、メタノー
ル、エタノール、プルパノール等がある。
ソルブ、テトラヒドロ7ラン、ペントキソン、メタノー
ル、エタノール、プルパノール等がある。
本発明の光重合性組成物を用すて感光材料を調製する9
に適用される支持体としては例えばアルンニウム%マダ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシー)、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラ2ツクスの如き
無機シート、ポリエチVンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリシート、塩化ビニル、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体。
に適用される支持体としては例えばアルンニウム%マダ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシー)、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラ2ツクスの如き
無機シート、ポリエチVンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリシート、塩化ビニル、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体。
ポリスチレン、4−ナイロン、≦、≦−ナイロン、セル
ロースジアセテート、セルローストリアセテ−) s
* k cI−スアセテートブチレートの様なポリ!−
シートなどがある。こhらの支持体は感光層の画情に適
用する場合もあ抄%また接着強度を調節する為に表両処
理を施してもよい。
ロースジアセテート、セルローストリアセテ−) s
* k cI−スアセテートブチレートの様なポリ!−
シートなどがある。こhらの支持体は感光層の画情に適
用する場合もあ抄%また接着強度を調節する為に表両処
理を施してもよい。
また本発明の光重合性組成物はさらに酸素による感度低
下中保存安定性の劣化部の悪影畳を防止する為の公知技
術1例えば、感光層上に剥離可能外透明カバーシートを
設は九や酸素透過性の小さいロウ状物質、水溶性または
アルカリ水溶性ポリマー等による被覆層を設けること亀
できる。
下中保存安定性の劣化部の悪影畳を防止する為の公知技
術1例えば、感光層上に剥離可能外透明カバーシートを
設は九や酸素透過性の小さいロウ状物質、水溶性または
アルカリ水溶性ポリマー等による被覆層を設けること亀
できる。
本1jI:明の組成物に適用し得る露光光源としてはカ
ーボンアーク、高圧水銀燈、dF−11!ノンランプ、
メタルハライドランプ、螢光ランプ、タングステンラン
プ、アルゴンイオンレータ−、ヘリウムhドミウムレ−
Ij=ず−、クリプトンレシー一勢/IOnwx以上の
紫外麹、可視光IIIを含む汎用の光源を好適に使用し
得る。
ーボンアーク、高圧水銀燈、dF−11!ノンランプ、
メタルハライドランプ、螢光ランプ、タングステンラン
プ、アルゴンイオンレータ−、ヘリウムhドミウムレ−
Ij=ず−、クリプトンレシー一勢/IOnwx以上の
紫外麹、可視光IIIを含む汎用の光源を好適に使用し
得る。
本発明の光重合性組成物は広範囲な応用分野に有用であ
って例えば平版、凹版、凸版、シーず一製版用の印刷版
の作成、プリント配線やIOの作成の為のフォトレジス
ト、レリーフ倫や健複製などの画像形成、光硬化のイン
ク、塗料、接着動勢に利用できるが%に可視光線の光a
t用いる応用分野に有効である。
って例えば平版、凹版、凸版、シーず一製版用の印刷版
の作成、プリント配線やIOの作成の為のフォトレジス
ト、レリーフ倫や健複製などの画像形成、光硬化のイン
ク、塗料、接着動勢に利用できるが%に可視光線の光a
t用いる応用分野に有効である。
以下本発明を実施例ならびに比壁例によ抄具体的KIN
明するが、本発、明はとれら実施例に一定されるもので
はない。
明するが、本発、明はとれら実施例に一定されるもので
はない。
tkシ光重合開始系の成分は次の略号により紀叡し九〇
表4
02ギ
B11
■−・
−h
置−r 0Br4
実施例7〜//、比較例/〜タ
ポリメチルメタクリレ−)BR−IJ(三菱レイ目ν社
jl)を常法によp r wax X部分加水分解して
得たメiル、メタクリシート/メタクリル酸共重合体(
結合剤) −2,? tおよびペンタエリスリトールト
リアクリレート(大阪有機化学工業社製) 4.? f
%p−メトキシフェノール//ηをメチルエチルケトン
toyK@fl+!、感光濠鳳叡を調製した。仁の感光
液原液IIC表3に示す光重合開始系の成分(a)θ、
−Itかつ/または成分(b) 0.2 j fを添加
し、室温で不治分がある場合はこれをデカントで除去し
た。得らhた感光液を、砂目型てかつ陽極酸化を施した
アル1=ウムシート上にホワラーを用い乾燥層厚−20
−岬/d#/ となる様に塗布し、次いで60℃、3
分間乾燥した。その表面KIKポリビニルアルコールG
L−01(E1本合成社製)4重量%水溶液をホワラー
を用いて乾燥膜厚201f/6− となるよう塗布!、
試料を作成した。得られた試料k、ステップタブレット
(イーストマンコダック社製)を重ねキセノンランプ光
源から干渉フィルターKL+−Jりおよびシャープカッ
トフィルター!−17(共に東芝ガラス社製)の両者を
通して得られるダタOnm前後の波長の光II(光強度
−mW/j)を40秒間照射した0次いでブチルセロソ
ルブ2重量%、ケイ酸ナトリウム7重量%を含む水溶液
を用いて未露光部tS解除去し、得られた光硬化iii
曽の段数を読み取抄相対感度を算出した。相対感度は比
較例/の場合の感度を基準として求め九、結果を表jK
示す。
jl)を常法によp r wax X部分加水分解して
得たメiル、メタクリシート/メタクリル酸共重合体(
結合剤) −2,? tおよびペンタエリスリトールト
リアクリレート(大阪有機化学工業社製) 4.? f
%p−メトキシフェノール//ηをメチルエチルケトン
toyK@fl+!、感光濠鳳叡を調製した。仁の感光
液原液IIC表3に示す光重合開始系の成分(a)θ、
−Itかつ/または成分(b) 0.2 j fを添加
し、室温で不治分がある場合はこれをデカントで除去し
た。得らhた感光液を、砂目型てかつ陽極酸化を施した
アル1=ウムシート上にホワラーを用い乾燥層厚−20
−岬/d#/ となる様に塗布し、次いで60℃、3
分間乾燥した。その表面KIKポリビニルアルコールG
L−01(E1本合成社製)4重量%水溶液をホワラー
を用いて乾燥膜厚201f/6− となるよう塗布!、
試料を作成した。得られた試料k、ステップタブレット
(イーストマンコダック社製)を重ねキセノンランプ光
源から干渉フィルターKL+−Jりおよびシャープカッ
トフィルター!−17(共に東芝ガラス社製)の両者を
通して得られるダタOnm前後の波長の光II(光強度
−mW/j)を40秒間照射した0次いでブチルセロソ
ルブ2重量%、ケイ酸ナトリウム7重量%を含む水溶液
を用いて未露光部tS解除去し、得られた光硬化iii
曽の段数を読み取抄相対感度を算出した。相対感度は比
較例/の場合の感度を基準として求め九、結果を表jK
示す。
表J
実施例/コ#23、比較例/θ〜lり
実施例/において露光条件として4tJ4nTnの波長
の光線を用いた以外は同実施例の方法により評価した。
の光線を用いた以外は同実施例の方法により評価した。
相対感層は比較例10の場合の感度を基準として求めた
結果を表4tK示す。
結果を表4tK示す。
表ダ
Claims (1)
- (1)エチレン性不飽和二重結合を少くと4./個有す
る付加1合可能表化合物および光1合開始系からなる光
重合性組成物にシいて、#I九重合開始系が、(&)チ
アピリリウム塩、およびに)一般式 〔式中 Ht、 R*およびR1は置換基を有していて
もよいアルキル基、アリール基、アルケニル基もしくは
ピペリジノ基% −MRl、 −oRtたi;i −8
R(ここでRは水素原子またはアルキル基を示す。)を
示し、それらのうち少くとも7つはモノ、ジまたはトリ
ハロゲン置換メチル基を示す、〕で表わされる6御トリ
アジンー導体を含有することを特徴とする光重合性組成
物。 (z) チアピリリウム塩が、一般式〔式中、R4,
R1およびR′は水素原子、アルキル基、t*はアルプ
キシ基・を示し、X″″は陰イオンを示す〕で表わされ
る亀のである特許請求の範1!IjI/項記載の光重合
性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13948481A JPH0230322B2 (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | Hikarijugoseisoseibutsu |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13948481A JPH0230322B2 (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | Hikarijugoseisoseibutsu |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5840302A true JPS5840302A (ja) | 1983-03-09 |
JPH0230322B2 JPH0230322B2 (ja) | 1990-07-05 |
Family
ID=15246320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13948481A Expired - Lifetime JPH0230322B2 (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | Hikarijugoseisoseibutsu |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0230322B2 (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5057398A (en) * | 1986-04-23 | 1991-10-15 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same |
US5275917A (en) * | 1991-07-09 | 1994-01-04 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
EP0704764A1 (en) | 1994-09-05 | 1996-04-03 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate |
US5514521A (en) * | 1990-08-22 | 1996-05-07 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
EP0780731A2 (en) | 1995-12-22 | 1997-06-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device |
US5998496A (en) * | 1995-10-31 | 1999-12-07 | Spectra Group Limited, Inc. | Photosensitive intramolecular electron transfer compounds |
US6025112A (en) * | 1996-02-09 | 2000-02-15 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition and photosensitive capsules |
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