JPS5837896A - Mosダイナミック回路 - Google Patents

Mosダイナミック回路

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JPS5837896A
JPS5837896A JP56135585A JP13558581A JPS5837896A JP S5837896 A JPS5837896 A JP S5837896A JP 56135585 A JP56135585 A JP 56135585A JP 13558581 A JP13558581 A JP 13558581A JP S5837896 A JPS5837896 A JP S5837896A
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淳二 小川
Tomio Nakano
中野 富男
Masao Nakano
正夫 中野
Norihisa Tsuge
柘植 典久
Takashi Horii
堀井 孝
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    • G11C5/145Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
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    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4074Power supply or voltage generation circuits, e.g. bias voltage generators, substrate voltage generators, back-up power, power control circuits

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はMOB〆イナミ、り回路に係り、特に内部に定
電圧電源が集積化され九電源電圧変動に強い11io8
ダイナミック回路に関する。
MO!!(金属酸化膜中導体)ダイナミック回路は、そ
の回路動作を峙間的に見ると、リセット期間と動作期間
(アクティブ期間)に分けゐことができる・すセット期
間ではダイナミック回路内の各節点は所定O電圧値に充
電あるい唸放電される。これによ〉、アクティブ期間で
は所望のアクティブ動作を完遂することができる。
ところが、ダイナミック回路の動作中に、ノイjP勢O
影譬で電源電圧が変動することがある。リセット期間に
おける電源電圧とアクティブ期間における電源電圧が異
なると、llに詳述するように〆イナミ、り回路の正常
動作が損なわれる。
本発i*oa的は、リセット期間にコンデンサを充電し
、この;ンデンサの充電電圧をアクティブ期間における
電源電圧として用いるという構想に基づき、MO8メイ
ナ建ツク回路においてリセット期間とアクティブ期間O
電源電圧の変動による誤動作を陳止することにある。
上記01的を達成する九めO本発明の要旨は、−1〆イ
ナン、り回路内で電源電圧変動の影響を受は易い所望の
箇所に接続され集積化された定電圧電源を具備すること
を%徴とするMOBダイナミック回路にある。
以下、本発明の実施例を添付の図面に基づいて説明する
。なお以下の説明に用いる図中のMOB トランジスタ
は全てNチャネル滅とする。また、電源電圧vc′cに
近い電位をHレベル、接地電位V□に近い電位をLレベ
ルと称する。さらに、「電荷」とは「正電荷」を意味す
る。
第1w1Jは本発明の第10実施例を説明するためOl
)ランジッタ1キヤパシタ・セル形式の〆イナミ、りR
AM (ランダム・アクセス・メモリ)の要部回路図で
ある。第1図において、Iイナン。
クジ1は、センスアンプ1.1トランジスタ・1キャ/
4シタ形式のメモリセル2、ダミーセル3および4、ア
クティブグルアップ回路5、およびアクティブプルアッ
プ回路駆動用クロック信号発生回路6を備えている。上
記1〜60回路それ自体は周知のものである。簡単に説
明すると、センスアンプlはトランジスタQ、〜Q−を
備χておシ、ビット線BLとばット・線BLの電位差を
検知し増幅する。より詳しくは、り七ット期間中にトラ
ンジスタQs=Qaのデートにリセット信号φ1が印加
されて、ビット線BLおよびBLは電源電圧v@c(H
レベル)tでチャージアップされている・ワード@WL
とメミーワードliIDwL!が選択されてV。以上の
高レベルになると、両ピッi線はともに電圧降下するが
、メモリー4ル2に蓄積されている情報とダンー令ル3
に蓄積されている情報とO差を)ランジスタQs  、
Qmによシ増幅することによシ情報判別を行う、実際に
は、リセット期間中にピッ)ml!ILおよびBLを電
源電圧v0壕で確実にチャージアップするために唸、ト
ランジスタQs=Qa以外の付加回路を必要とするが、
絡1図には図画の簡略化のために図示されていない。
メモリセル2はトランジスタq!とMOSキヤ/#シタ
Q、を備えておJ)、Molキャノ臂シタQsKl報@
″1”i九は10mが蓄積されている。図面の簡単化の
丸めに、ビF)mBLtcll続されたメモリセルは1
個しか図示されていないが、実際にはピッ  0 ト線墨りとビット線BLK社それぞれ多数Oメ嘴リセル
が接続されている。
選択されるメモリ奄ルOwk続されているビット線を選
択ビ、)線と呼べば、選択ビット線が1Lの場合は、非
選択ピッ)!IILIIではダミーセル3が選ばれ、逆
に選択ビット線がBLt)ときは、非選択ビy)III
IL側でメン−セル4が選ばれる・メi−令ル3はトラ
ンジスタQ@ * QseおよびMO8キャノシタQl
lを備えてお〉、リセ、)期間中はトランジスタQ1・
のゲートにリセット信号引けが印加されてトランジスタ
Q1・は導通してお31 、MOI中ヤノシタ911拡
放電されるが、アクティブ期間中はリセッ)信号R8丁
がオフであシ、メミーワーviwIyiI′L1が選択
されて例えば5VC)レベルlCなると、非選択ビット
線BLの電荷がトランジスタQ−を介してMO8キャ/
母シjQ■に流れ込み、IILの電圧は所望O基準値ま
で降下する。ダミーセル4もトランジスタQ *’ e
 Ql@’およびMO1ifキャパシタQs/を備えて
おシ、ダミー令ル3と同様の動作を行う・アクテ4ブf
′Nアッゾ回路5社ト2ンジス!Q1雪e Qlmおよ
びMolキャパシタQ14を備えてお)、センスアンプ
1の動作開始後にビット線1LとIII、の電位差を強
制的に大きくするためのもO・である0図面の簡略化の
ために、ビット線ILK□みアクティf7#ルアツブ回
路が接続されているが、実liIに紘ビy)#BLにも
同様の構成をしたアクティブグルアップ回路が接続され
ていゐ、クロック信号発生回路6はアクティブグルアッ
プ回路を駆動する丸めにトランシス/ Qtsのダート
に印加されるクロック信号φ、を発止する回路であル、
トランジスタQsi * Qx@およびMO8キャパシ
fiQHを備えている。
従来社、上記1〜60回路はすべて電源線vccK接続
されてい良0本発明においては、例えばクロック信号発
生回路6の電源線として、第3図に示し良定電圧電源を
用いる。
第2図ム〜Cは、第1図の回路1〜6が千べて電源11
v**Kll絖、された従来例において、メモリセル2
内のMO8キャパシタに情報11′が蓄積されている場
合の読出し動作および再書込み動作と七の問題点を説明
するための波形図である。第2図Aはクロック信号φ6
発生回路6の動作説明用波形図であシ、図において、A
I 1A3はアクティブ期間、Rはり七ット期間を示す
Φアクティブ期間ム1 、ム1においてはφ、はvoの
レベルにあ)、り竜、ト期間RにおいてはiはV、よシ
高いレベルにある。第2wA1は電源電圧の変動がない
正常動作時のアクティブグルアップ回路5の動作説明用
波形図である。第2固層において、リセットクロック信
号φ菖はリセット期間14F)間は例えば5vの電源電
圧vecより高いレベルffC,ある。りセットクロッ
ク信号φ凰がHレベルより為レベルにあるとき社、トラ
ンジスタQss a Ql・が導通してアクティブプル
アップ回路駆動用クロツタ信号φムがやはfiHレベル
より高いレベルにある。リセ。
トクロック信号φ1がLレベル(零電位)K低下すると
、アクティブ期間人が開始される。アクティブ期間ムの
関、クロ、り信号φ、をHレベルに維持するために、M
O8*ヤI臂シタQ1マを介してHレベルのクロツタ信
号゛φ、を印加してノードN1をブースFすることによ
シトランジスタQt・を導通状mに保つ、この結果、ク
ロック信号φム はアクティブ期間中線実質的にHレベ
ルに郷しい電位に保たれる。
今、第2図CK示し良ように、外部雑音等、なんらかの
影響で、アクティブ期間AK:おける電源電圧がす毫ッ
ト期間IK$Pす”る電源電圧V、よシaVだけ上昇し
九とする。アクティブ期間におけるクロ、り信号φhB
電源電圧に勢しいので、電源電圧の上昇に伴なりてクロ
1.り信号φ□の電位も上昇し、以下に述べる再書込み
における誤動作を生じる。
すなわち、選択ビット線をB′L、非選択ビット線をI
ILとしたと亀、メモリセル2を選択すべくワード@W
Lおよびメ建−ワーP IIDwLl i)111 L
/ベベルなると、MO8キャパシタQ−およびMO8キ
ャパシタQllに電荷が流入して、それぞれビット線1
LおよびBLの電位が降下する。MO8キャパシ/Qs
Ka慴報@11が蓄積され゛ておシ、メン−、セルのM
OIi*ヤΔシタQttは周知のように、情報”1mと
″0″の中間の基準電圧を発生する容量を有するので、
ビット線BLと1tの間に正の電位差が生じる。MO8
+ヤパシ/Qsが情報′″o”を蓄積している場合は、
ビット線BLとBLの間の電位差は負となる。センスア
ンflにクロック信号φ!およびφ濡を印加することに
よシーンスアンf1は活性化されて、上記電位差は増幅
される。こうして、ピッ)ilillLと1Lの電位差
は次第に開いてメモリセル20情報がセンスアンf2を
介して読出される。しかしながら、その電位差が数十建
りがルトと僅かである場合、ビット線BLの電圧は、ト
ランジスタQ=tのリーク電流やトランジスタQsのf
−)容量によるカップリングノイズ等の種々の原因によ
って、第2図ム、1に示したように次第に低下してしま
う、この低下したレベルでMO8キヤAシタQsを充電
しても充分な再書込みは行われない。特に再書き込みす
る情報が“1”の場合はMO8キャパシタQaを充分に
再充電する九めに、アクティププルア、f回路5を動作
させて”y)IIBLを再チヤージアップすることが行
なわれている。すなわち、クロック信号φ、をvce 
より高いレベルにすることによシ、トランジスタ913
のr−)とMOsキャパシタ14のグー)のノード(結
節点)N1の電位を上昇させ、それによ32)フンジス
タQisを導通させて電源線v6.からトランジスタQ
sxを介してビット線BLに電荷を供給する。ところが
、アクティブ期間ムにシけるクロック信号この電位がV
。+ΔVと高くなっている場合、クロック信号φムの電
位とビット@BLとの電位差がトランジスタQtsのし
きい値電圧より大きくなってしまうことがある。
例えばクロック信号φムの電位が5 V Ovc cよ
シ1v高い6V、ビット線BLの電位が4V、そしてト
ランジスタQCsのしきい値電圧が1.7vである場合
、アクティブ期間でトランジスタQssは導通状11に
あ〉、ノードN1の電荷はトランジスタ(bsを介して
ピッ)liBLにリークしてしまう。
従りて、り11.り信号φ、をHレベルよシ高レベルに
してもノーPNlの電位は充分に高くならず、トランジ
スタQHを充分に導通させることはできない。この場合
、第2図Cに示されるようにビット線BLの電圧はvc
cレベルまで再チヤージアップすることができず、メモ
リセル2内のMOSキャパシタQ・への情報゛1″の再
書込み不良となってしまう。
本発明は、このようにグイナオック回路の動作サイクル
内で発生する電源電圧変動によって誤動作することのな
いダイナミ、り回路を提供するものである。
本発明では、リセット期間での電源電圧v@cとアクテ
ィブ期間での電源電圧の値が異なることによυ回路が誤
動作することに注目し、WJ3図に示すような定電圧電
源を集積回路内部に設け、この電圧を基準電圧として電
源変動に敏感なトランジスタが接続されている電源線、
例えば第1図の回路におけるアクティブプルアップ回路
駆動用クロ、り信号発生回路6の電源線〈Cに印加する
第3図において、本発明の一実施例による定電圧電源は
、抵抗R,MO8)ランジスタTおよび大v0とMOS
キヤ/#クタqのダートとの間に上記抵抗!およびMo
sトランジスタTを並列接続して構成されている。抵抗
翼は集積回路内においては、デイプリーシ冒y形MO8
) ?ンジスタを代用してもよい6M0I)ランジスタ
Tの?−)にはりセット期間にシ令、トクロック信号φ
翼が印加されそれによ〕ム1キャパシタQは充電される
。アクティブ期間には電源電圧vc、の肇動に応じて大
容量MO8會ヤ/臂シタQが抵抗Rを介して充放電され
る。トランジス/Tとms*、ノ櫂シタqによる充電時
定数はリセット期間に比べて充分短い程度の例えば50
ナノ秒とし、抵抗翼とMOBキャノ臂シタQICよる充
放電崎定III[ti上記充電時定数よシ充分に長い例
えば数< 17秒とする。こうして、電源変動に敏感な
所望のトランジスタにはリセット期間における電源電圧
に等しい定電圧%lccが得られる。
141ド■Irhアクティブ期間の電圧が変動しても、
fccはその変動の影響を受けないので、タロ、り信号
φ、O電位は定電圧4cに寅質的に等しく、従ってアク
ティブ期間にはアクティブグルアップ回路5内のトラン
ジスタQxsのe−ト電位とビット線電位の差がそのし
きい値電圧以上ととく充分高い電位にブーストされ、ビ
ット線BLはトランジスタq13を介してvccレベル
にまでチャージアップされる・ なお第1図および第3図の回路に印加されるリセットク
ロック信号φ、とじては、リセット期間Rでは電源電圧
ve、以上、アクティブ期間Aでは接地電圧V□となる
ものを用いたが、第3図のトランジスタTがデグレシ、
ン形であれば、クロック信号φ、はりセット期間で電源
電圧■。3、アクティブ期間て接地電圧V。でわるクロ
、り信号でもよい。
メイナi、り回路のアクティブ期間は高々100ナノ秒
なので大容1MOsキャパシタQおよび抵抗Rによる充
放電時定数をマイクロ秒なりし上記の如<ミリ秒のオー
〆に設定すれば安定な定電圧電源として使用で・きる。
第4図は本発明の第2の実施例を説明するため01)ツ
ンゾスタ14ヤノ9シタ・令ル形式の!イナ建ツタRA
MOH部回路図である。第1図の回路図においては、1
個のセンスアンプとそれに接続され九メ毫すセルシよび
ダt−−bルのみを示したが、第4図の回路図において
は、壷数0令ンスアンf l −1、1−2、−,1−
nが示されている。
センスアンプ1−1.1−2.・・・、1− !lには
それぞれビット線BLIと!ILI  e ILIとI
LI、−・・。
BLnとlLnが接続されておシ、各ビット線にはメ毫
リセル2−1と3−1.2−2と3−2、−。
2−!1と3−mが接続され′ている。各メモリセルO
構成は第1図に示したものと同一である。ビ。
) 1) 11Lt  、 ILI ・・・BLnはそ
れぞれ、ダミー44Qss−s  e Qss−s ・
・・*Q11nを介してダミーワード線涛ル寥に接続さ
れている。同様にビット線BL1 、 BI諺、・・・
、 BLn紘それぞれ、メミーセルQl! −1r Q
lm −1y”’ a Qtt−nを介し’C/ t 
−’7−ド1IDWL1に接続されている。〆オーセル
の各々は第1図の〆ζ−セルと真なl)、MO8キャパ
シタのみで構成されているがその動作紘第1図に示した
メンー竜ルと本質的に贅らない0本実施例においてはメ
モリセルやダン−ワード線の動作に注目するために、t
li1図に示したアクティププルア。
グ回路は省略されている。84図においてセンスアンf
(D左側のメモリセルに蓄積され九情報を読出す場合、
センスアンプの右側の/ミーワード線DWL1 をLレ
ベルにすると共に非選択メミーワード線l7ivL、を
電源電圧のレベルにクランプする。
同様に、センスアンプの右側のメモリセルの情報を読出
す場合は、センスアンプの左側のメミーワード線I7W
、をLレベルにすると共に非選択グイ−ワード線肌!を
電源電圧にクランプする。非選択Oメミーワード線をフ
ローティングにせず電源にクランプすることで、各ビッ
ト線のダ建−セルを介したカップリングによる相互干渉
を押さえている。しかしこのことによシ逆に非選択メミ
ーワード線は読出し動作時に電源電圧装動に敏感になシ
、以下の説明のような問題を生ずる。
メ篭リセル2−1内のMOBキャパシタQs−sK情報
“O″が格納されているものとし、この読出し動作とそ
の問題点を第5図を用いて説明する。
vセットクロック信号φlを電源電圧vc@のレベルよ
シ高いレベルから接地レベルに遷移させることにより、
リセット期間Rからアクティブ期間Aに移る。この時、
第1図の場合と同様に、電源電圧がve、からΔvfe
け上昇したとする。こO電源電圧0上昇に伴って、電源
電圧にクランプされてシる非選択メ電−ワード線I7w
′Ls4bvco+Δvtで上昇する0選択ダミーワー
ドIIIDWLIがLレベルにされゐことによって、非
選択ビット線BL、は情報@1mと@0″O中間の基準
電圧まで電圧降下ス4.一方、110BキャパシタQm
−sは電荷を蓄積していないので、ワード線W−を高レ
ベルにするとトツンジヌ!Qγ−1を介して選択ビy 
) l5BL>01E葡社局8キャパシタQs−sに流
れ込むため、選択ビットIIILIO電位は非選択ビy
)線BL1の電位よシもさもに低下する。トランジスタ
Qs+9・がクロック信号φ1 、φ露を受けると、ノ
ードN1がHレベルからLレベルに移ってセンスアン7
”l−1が活性化し、ビット線BL1 とBL、O電位
差を検知・増幅して、メモリセル1−1に格納された情
報が読出される。しかしながら、非選択〆ミーワードI
IrjVL1の電圧がアクティブ期間で上昇しているの
で、選択ビット線BL、 K非選択ダミーセルQrt−
tから電荷が流れこみ、電源電圧0上昇がない場合と比
較して選択ビット線BLsO”θ″読出時の電圧降下が
不充分となる。このためビット線BL、とBLtの電位
差が減少し、センスアンプけこれを検知できず、誤動作
をすることがわる。
メモリセル2−1に情報“1″が書込まれている場合は
、りセット後に電源電圧が低下した場合に上記と同様0
理由によシ遇択ビット線BL、の電圧上昇が妨げられて
センスアンプが誤動作することがある。
そζで、本集施例においても、第3図に示し九定電電源
を用いて非選択〆ず−ワード線W−を”ae  Kクラ
ンプすることにより、選択ビット線BL、の電圧降下奉
るい紘電圧上昇を妨げる原因を除去することができる。
第smF1本発明の第30実施例を説明するためO/イ
ナンツククロック発生回路01例を示す回路図である。
仁の回路紘入力償号φ、を受けてこれを増幅し、かつ波
形整形した出力信号φlを発生すゐもOである・ 鮪711ムは第al101ffl路の正常動作説明用波
形図である。第6図および第7wJムにおいて、リセッ
ト期間lではり竜、トクロ、り信号φ1がHレベルOた
め、トランジスタQ寓 −Qマは導通してお〕、ノード
N15N4はLレベルである。また、トランジスタQ4
aNsがLレベルなのでオフ、トランジスタQsU−φ
凰を受けているので第4であp%従ってノーtNIは電
源電圧よりaやや低いがHレベルになる(voが5vの
場合、ノードN!は約4.2vとなる)、ノードN3は
トランジスタQ1・シよびQlsのr−)に接続されて
いるのでトランジスタQnおよびQssはオンであ〕、
ノードN、および出力信号φ慕はLレベルである。なお
ノ−ドN8はトランジスタQlがオンすることでノー4
N、O電位よシ低い電位OHレベル(vce=5vの場
合、約3.6V)tてチャーシア、プされる。リ−に、
トクロック信号φ藤がLレベルになればアクティブ期間
に入る0次いて入力信号φ、がHレベルになると、トラ
ンジスタQ@(Dゲート・ドレイン間容量でノードN、
がvee以上にブーストされトランジスタQ−がオンに
なり、ノードN4はHレベルにチャージアップされる。
この稜ノードN、かや中遅れてLレベルになると、トラ
ンシス/Q!1がオフして、ノードN、がチャーシア。
グされてくる・するとトランジスタQ−とQ[株]によ
る正帰還でノードN4がますますブーストされて、トラ
ンジスタQllはただちに飽和してオンする。かくして
、正常動作時には入力信号φムに応じて出力信号φ10
Hレベルが第7図に点線で示す如く得られる。
しかしながら、前述0!II!施例と同様に、アクティ
ブ期間ムにおける電源電圧がす令y)期間iBcおける
電源電a−V、、よ)ΔVだけ上昇したとする作を生じ
る。すなわち、電源電圧の上昇によシトランジスタQs
OJ”−トとノードN、間の電位差が)ツンジスタQs
C)Lきい値電圧以上になると、入力信号φムO入力時
には、トランジスタQsはオン状態となってしまってい
る。このため、入力信号φムがトランジスタQ・のドレ
インに印加されると、トランジス/q・のr−)電荷は
トランシス/Qlを介してノードN3にリークしてしま
い、第γHIK示すようにノードN、は殆んどツースト
されない、こO良めトランジスタQ・は充分にオンにな
らず、ノードN4に対するチャージアップが不充分な1
1.)ツンゾスタQi拳e Qssがオン状態となる。
この結果、MOsキャΔシ/QlによるノードN4への
デースト効果が不充分となシ、従りてトランジスタQs
1は充分にオン状態と杜ならないので、第71Qlに漬
、線で示す如く出力信号φJH−レベルKtで立上がら
ず、誤動作となる。
ζO訴動作を防ぐ良めには、+ab、第3図に示した定
電圧電源からO定電圧veeをトランジスタQsの?−
)に印加すればよい、V a6 ’tQiのダートに印
加することによシ、トランシスIQsのダートとノード
N、の関の電位差が入力信号φ1印加面にしきい値電圧
に達することはなく、ノードN、およびノードN4は充
分にデーメトされるので、出力信号φ1はHレベルまで
立上がる。
以上の説明から明らかなように、本発1jllによ)リ
−ky)期間に大容量コンデンサを充電し、仁のコンテ
ン10充電電圧をアクティブ期間における電源電圧とし
て用いる定電圧電源がXC内部に集積化され友ので、M
O8ダイナミック回路においてり七ット期間とアクティ
ブ期間の電源電圧の変動による誤動作は防止される。
なお、前述の実施例では定電圧電源をそれぞれの回路の
特定の箇所に接続したが、MO8メイナ建、り回路内で
電源電圧変動の影響を受は易い任意の所望の箇所に接続
してもよい。tた本発明による定電圧電源は前述01)
2ンジスタ・1キャパシタ形式のIイナ(yりRAMや
〆イナミ、り・クロック発生回路に限らず、任意のMO
8〆イナミ。
り回路に適用され得る二更に、定電圧電源はlE3図に
示したものに限定されるものではなく、集積化が可能な
任意の形式が用いられ得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第10実施例を説明するための1トツ
ンジスタ・l呼ヤパシタ・セル形式の〆イナン、りmo
*部回路図、第2図ム〜Cは第1図の回路の動作12明
用波形図、第3図は本発明による定電圧電源の1実施例
を示す回路図、絡4図は本発明の第20実施例を説明す
るためOメイナt、りIIAM011部回路図、第S図
は第4図の回路の動作I!明明渡波形図第6図は本発明
の第3の実施例をIl明するためのダイナミック・クロ
ック尭生回艶01例を示す回路図、そして第7図ム。 nは第5WAO回IIO動作説明用波形図である。 l・・・センスアンプ、2−・・メ篭リセル、3−・・
〆さ一セル、4−・・〆ミーセル 5 ossアタティ
ブプルア、プ回路、6−・・アクティププルア、プ回路
駆動用り賢ツク信号発生回路、Q・・・大容量MO8キ
ャΔシム *、−・・シセットク゛ロック信号、BL・
・・ビット線、BL・・・ビット線、DWLl、 D%
VL童・・・〆き一ワード線、WL・・・ワード線、■
cc・・・電源線、V工・・・定電圧電源・ 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木   朗 弁理士西舘和之 弁理士 内 1)幸 男 弁理士 山 口 昭 之 昭和b7年10月6日 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和56年 特許願  第135585号2、発明の名
称 MOSダイナミック回路 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 名称(522)富士通株式会社 4、代理人 5、補正の対象 (1)明細書の「特許請求の範囲」の欄(2)明細書の
「発明の詳細な説明」O欄6、補正の内容 (1)明細書の特許請求の範囲の欄を別紙の通り補正す
る。 (2)明細書第2頁第20行から第3頁第3行のrMO
sダイナミック回路内で・・・・・・・・・にある。」
を次の通り補正する。 1回路内の各節点を所定の電圧値に充電または放電する
リセット期間と入力信号に応じた動作を行なうアクティ
ブ期間を有するMOSダイナミック回路に於いて、該リ
セ・ット期間に供給される電圧を保持する電圧保持回路
を設け、該電圧保持回路に保持された電圧が該アクティ
ブ期間に電源電圧として供給される様にしたことを特徴
とするMOSダイナ2ツク回路にある。」 (3)明細書第1頁第19行、嬉11][814行、第
21頁第14行および第18行、および第22頁第1行
の「定電圧電源」をr電圧保持回路」と補正する。 7.添付書類の目録 (1)補正特許請求の範囲      1通2、特許請
求の範囲 MOSダイデミツク回路。 記載のMOSダイナミック回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、  MO8ダイナミ、り回路において、#MO&ダ
    イナン、タ回路内で電源電圧変動の影響を受は易い所望
    の箇所に接続され集積化された定電圧電源を具備するこ
    とを%黴とするMO8/イナミ、り回路。 2、皺定電圧電源は、該MO8ダイナiyり回路の各動
    作期間よシ充分長い放電時間を有するコンデンサを具備
    し、骸動作期間前のリセット期間に該コンデンサに蓄積
    された電荷を皺動作期間中に皺定電圧電源用として使用
    するようにし九ことを特徴とする特許請求CO@囲第1
    項記載0MO8/イナZ、り回路。
JP56135585A 1981-08-31 1981-08-31 Mosダイナミック回路 Granted JPS5837896A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS625422A (ja) * 1985-06-29 1987-01-12 Toshiba Corp 半導体集積回路装置
US5766372A (en) * 1982-08-21 1998-06-16 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Method of making magnetic precursor for permanent magnets

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4709353A (en) * 1981-05-13 1987-11-24 Hitachi, Ltd. Semiconductor memory
JPS62114190A (ja) * 1985-11-13 1987-05-25 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPS63755A (ja) * 1986-06-20 1988-01-05 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS63304491A (ja) * 1987-06-04 1988-12-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体メモリ
KR910007740B1 (ko) * 1989-05-02 1991-09-30 삼성전자 주식회사 비트라인 안정화를 위한 전원전압 추적회로
KR970001344B1 (ko) * 1993-07-12 1997-02-05 삼성전자 주식회사 반도체 메모리 장치
JPH08190799A (ja) * 1995-01-09 1996-07-23 Mitsubishi Denki Semiconductor Software Kk センスアンプ回路
US6609077B1 (en) * 2000-05-31 2003-08-19 Teradyne, Inc. ATE timing measurement unit and method
JP2003257178A (ja) * 2002-03-06 2003-09-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体メモリ装置
JP2004173168A (ja) * 2002-11-22 2004-06-17 Fujitsu Ltd マルチプレクサ回路
JP4169592B2 (ja) * 2002-12-19 2008-10-22 株式会社NSCore Cmis型半導体不揮発記憶回路

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5135242A (ja) * 1974-09-20 1976-03-25 Hitachi Ltd
JPS5436139A (en) * 1977-08-26 1979-03-16 Toshiba Corp Sense circuit of differential type

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3982141A (en) * 1974-10-07 1976-09-21 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Voltage maintenance apparatus
US4061999A (en) * 1975-12-29 1977-12-06 Mostek Corporation Dynamic random access memory system
JPS55157190A (en) * 1979-05-21 1980-12-06 Mitsubishi Electric Corp Electric power source circuit for complementary metal oxide film semiconductor integrated circuit
US4262342A (en) * 1979-06-28 1981-04-14 Burroughs Corporation Charge restore circuit for semiconductor memories
US4291393A (en) * 1980-02-11 1981-09-22 Mostek Corporation Active refresh circuit for dynamic MOS circuits
JPS6045499B2 (ja) * 1980-04-15 1985-10-09 富士通株式会社 半導体記憶装置
JPS58122692A (ja) * 1982-01-14 1983-07-21 Toshiba Corp 能動昇圧回路

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5135242A (ja) * 1974-09-20 1976-03-25 Hitachi Ltd
JPS5436139A (en) * 1977-08-26 1979-03-16 Toshiba Corp Sense circuit of differential type

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5766372A (en) * 1982-08-21 1998-06-16 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Method of making magnetic precursor for permanent magnets
JPS625422A (ja) * 1985-06-29 1987-01-12 Toshiba Corp 半導体集積回路装置

Also Published As

Publication number Publication date
IE55378B1 (en) 1990-08-29
DE3280016D1 (en) 1989-12-14
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US4578781A (en) 1986-03-25
IE822114L (en) 1983-02-28
EP0073677A3 (en) 1986-03-26

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