JPS5834925B2 - 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法Info
- Publication number
- JPS5834925B2 JPS5834925B2 JP3739976A JP3739976A JPS5834925B2 JP S5834925 B2 JPS5834925 B2 JP S5834925B2 JP 3739976 A JP3739976 A JP 3739976A JP 3739976 A JP3739976 A JP 3739976A JP S5834925 B2 JPS5834925 B2 JP S5834925B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum foil
- film
- treatment
- water
- crystallized
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電解コンデンサ用アルミニウム箔およびその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
電解コンデンサ用アルミニウム箔は、単位面積当りの静
電容量が大きくなければならない。
電容量が大きくなければならない。
静電容量を大きくするためには、アルミニウム表面ノ表
面積を増大すればよく、そのためにアルミニウム箔の表
面に電気化学的ないし化学的エツチング処理を施してい
る。
面積を増大すればよく、そのためにアルミニウム箔の表
面に電気化学的ないし化学的エツチング処理を施してい
る。
このエツチング性能を向上させるために、従来エツチン
グ処理前、アルゴン等の不活性ガス雰囲気中または真空
中等の無酸化雰囲気中において500°〜600℃で2
〜10時間アルミニウム箔に高温加熱処理を施している
が、未だ満足すべきエツチング性能が得られず、ひいて
は充分な静電容量が得られないといううらみがあった。
グ処理前、アルゴン等の不活性ガス雰囲気中または真空
中等の無酸化雰囲気中において500°〜600℃で2
〜10時間アルミニウム箔に高温加熱処理を施している
が、未だ満足すべきエツチング性能が得られず、ひいて
は充分な静電容量が得られないといううらみがあった。
この発明の目的は、上記の点を満足させたエツチング前
の電解コンデンサ用アルミニウム箔を提供することにあ
る。
の電解コンデンサ用アルミニウム箔を提供することにあ
る。
この発明の1つは、電解コンデンサ用アルミニウム箔自
体に係り、その特徴とするところは、エツチング前のア
ルミニウム箔表面に、厚さ40λ〜200Aの結晶化し
たγ−A1203皮膜を有することにある。
体に係り、その特徴とするところは、エツチング前のア
ルミニウム箔表面に、厚さ40λ〜200Aの結晶化し
たγ−A1203皮膜を有することにある。
この発明の他の1つは、上記電解コンデンサ用アルミニ
ウム箔の製造方法に係り、その特徴とするところは、電
気化学的または化学的エツチング処理を施す前に、アル
ミニウム箔の表面に水利処理皮膜を形成する工程と、水
利処理皮膜の形成されたアルミニウム箔を無酸化雰囲気
中において高温加熱し、該水利処理皮膜を結晶化したγ
−A1203皮膜に変化させる工程を経ることにある。
ウム箔の製造方法に係り、その特徴とするところは、電
気化学的または化学的エツチング処理を施す前に、アル
ミニウム箔の表面に水利処理皮膜を形成する工程と、水
利処理皮膜の形成されたアルミニウム箔を無酸化雰囲気
中において高温加熱し、該水利処理皮膜を結晶化したγ
−A1203皮膜に変化させる工程を経ることにある。
上記アルミニウム箔は、純度99.99%の高純度のも
のが好ましいが、これに限定せられることはなく、電解
コンデンサ用に使用される範囲内の純度のものであれば
よい。
のが好ましいが、これに限定せられることはなく、電解
コンデンサ用に使用される範囲内の純度のものであれば
よい。
またアルミニウム箔の表面に水利処理皮膜を形成する方
法としては、蒸気または湿った空気をアルミニウム箔表
面に吹付ける方法、加熱せられた水またはアミン水溶液
中にアルミニウム箔を浸漬するいわゆるベーマイト処理
方法、大気中において低温度で加熱処理する方法等があ
げられる。
法としては、蒸気または湿った空気をアルミニウム箔表
面に吹付ける方法、加熱せられた水またはアミン水溶液
中にアルミニウム箔を浸漬するいわゆるベーマイト処理
方法、大気中において低温度で加熱処理する方法等があ
げられる。
この発明による表面に厚さ40人〜200人の結晶化し
たγ−A1203皮膜を有するアルミニウム箔は、これ
にエツチング処理を施したさい、優れたエツチング性能
を有する。
たγ−A1203皮膜を有するアルミニウム箔は、これ
にエツチング処理を施したさい、優れたエツチング性能
を有する。
その理由は、上記γ−A1203皮膜が微細な結晶化皮
膜であることによる。
膜であることによる。
アルミニウム箔の表面にエツチング処理を施すと、γ−
A1203皮膜の結晶粒界が孔食の形で優先的にエツチ
ングされるので、結晶が微細化していることにより、密
度の大きいエツチング状態となる。
A1203皮膜の結晶粒界が孔食の形で優先的にエツチ
ングされるので、結晶が微細化していることにより、密
度の大きいエツチング状態となる。
したがって表面積が極めて増大することになり、その結
果静電容量が増大する。
果静電容量が増大する。
上記において、結晶化したγ−A1203皮膜の厚さを
40人〜200人に限定した理由はつぎのとおりである
。
40人〜200人に限定した理由はつぎのとおりである
。
すなわち、40人より薄い場合には、エツチング処理を
施したさい、従来の無酸化雰囲気中において高温加熱し
たアルミニウム箔の場合の静電容量と大差なく、静電容
量の向上があまり期待できない。
施したさい、従来の無酸化雰囲気中において高温加熱し
たアルミニウム箔の場合の静電容量と大差なく、静電容
量の向上があまり期待できない。
また200人より厚い場合には、大気中においてアルミ
ニウム箔を高温加熱した場合と同様、酸化皮膜が厚いた
め、これをエツチング処理したさいエツチングが充分に
行ない得ず、静電容量の向上が期待できない。
ニウム箔を高温加熱した場合と同様、酸化皮膜が厚いた
め、これをエツチング処理したさいエツチングが充分に
行ない得ず、静電容量の向上が期待できない。
この発明において、アルミニウム箔を高温加熱するにあ
たり、とくに無酸化雰囲気中で行なったのは、結晶化し
たγ−A1203皮膜が厚くなり過ぎるのを防ぐためで
ある。
たり、とくに無酸化雰囲気中で行なったのは、結晶化し
たγ−A1203皮膜が厚くなり過ぎるのを防ぐためで
ある。
厚くなり過ぎると、エツチングが充分行なえず、不均一
なエチング状態となり静電容量を著しく低下させるし、
厚い皮膜は表面の白濁化をもたらして商品価値をも減す
る。
なエチング状態となり静電容量を著しく低下させるし、
厚い皮膜は表面の白濁化をもたらして商品価値をも減す
る。
最も好ましいr−Al2O3皮膜の厚さは、80人程度
である。
である。
なお、上記高温加熱処理における温度および時間は、従
来の場合ととくに異ならない。
来の場合ととくに異ならない。
つぎにこの発明の実施例について述べる。
実施例 1
電気化学的または化学的エツチング処理を施す前に、純
度99.99%、厚さ100μの帯状のアルミニウム箔
の表面に、約100℃の蒸気をノズルにより流量約71
/minで吹付け、まずアルミニウム箔表面に水利処理
皮膜を形成する。
度99.99%、厚さ100μの帯状のアルミニウム箔
の表面に、約100℃の蒸気をノズルにより流量約71
/minで吹付け、まずアルミニウム箔表面に水利処理
皮膜を形成する。
つぎにこのアルミニウム箔をアルゴンガス雰囲気中にお
いて550℃で4時間加熱し、前記水和処理皮膜を厚さ
約80人の結晶化したγ−A1203皮膜に変化させた
。
いて550℃で4時間加熱し、前記水和処理皮膜を厚さ
約80人の結晶化したγ−A1203皮膜に変化させた
。
実施例 2
水利処理において、上記蒸気の代わりに湿った空気(露
点25℃)を用いる点板外は、実施例1と同様にしてア
ルミニウム箔表面に厚さ約80人の結晶化したγ−A1
203皮膜を得た。
点25℃)を用いる点板外は、実施例1と同様にしてア
ルミニウム箔表面に厚さ約80人の結晶化したγ−A1
203皮膜を得た。
実施例 3
水利処理の方法として、アルミニウム箔を沸騰状態の純
水中に5秒間浸漬していわゆるベーマイト皮膜を形成す
る以外は、実施例1と同様にしてアルミニウム箔表面に
厚さ約50人の結晶化したγ−A1203皮膜を得た。
水中に5秒間浸漬していわゆるベーマイト皮膜を形成す
る以外は、実施例1と同様にしてアルミニウム箔表面に
厚さ約50人の結晶化したγ−A1203皮膜を得た。
実施例 4
実施例3において、浸漬時間を60秒間にしてアルミニ
ウム箔表面に厚さ約100人の結晶化したγ−A120
3皮膜を得た。
ウム箔表面に厚さ約100人の結晶化したγ−A120
3皮膜を得た。
実施例 5
水利処理の方法として、アルミニウム箔を1饅トリエタ
ノールアミン水溶液に5秒間浸漬してその表面にいわゆ
るベーマイト皮膜を形成する以外は、実施例1と同様に
してアルミニウム箔表面に厚さ約6OAの結晶化したγ
−A1203皮膜を得た。
ノールアミン水溶液に5秒間浸漬してその表面にいわゆ
るベーマイト皮膜を形成する以外は、実施例1と同様に
してアルミニウム箔表面に厚さ約6OAの結晶化したγ
−A1203皮膜を得た。
実施例 6
実施例5において、浸漬時間を60秒間にしてアルミニ
ウム箔表面に約100人の結晶化したγ−A1203皮
膜を得た。
ウム箔表面に約100人の結晶化したγ−A1203皮
膜を得た。
実施例 7
水利処理の方法として、アルミニウム箔を大気中におい
て200℃で6時間加熱し、その表面に水利処理皮膜を
形成する以外は、実施例1と同様にしてアルミニウム箔
表面に厚さ約8OAの結晶化したγ−A1203皮膜を
得た。
て200℃で6時間加熱し、その表面に水利処理皮膜を
形成する以外は、実施例1と同様にしてアルミニウム箔
表面に厚さ約8OAの結晶化したγ−A1203皮膜を
得た。
上記実施例によって得た各電解コンデンサ用アルミニウ
ム箔をエツチング処理した後の静電容量を、従来のこの
種アルミニウム箔と比較測定した結果を下表に示す。
ム箔をエツチング処理した後の静電容量を、従来のこの
種アルミニウム箔と比較測定した結果を下表に示す。
従来箔は、通常行なわれているアルゴンガス雰囲気中に
おいて550℃で4時間加熱処理したものである。
おいて550℃で4時間加熱処理したものである。
なお、静電容量の測定結果は、処理後のアルミニウム箔
を3%塩酸水溶液(85℃)中で電流密度を10A/d
m2とし、5分間電解エツチング処理を行ない、その後
5%硼酸水溶液中において化成電圧350Vで化成処理
を行なったものについてである。
を3%塩酸水溶液(85℃)中で電流密度を10A/d
m2とし、5分間電解エツチング処理を行ない、その後
5%硼酸水溶液中において化成電圧350Vで化成処理
を行なったものについてである。
本発明品は、従来筋に比べてエツチングピットが進みか
つ密度の大きいエツチング状態となっているため、上表
から明らかなように、静電容量が大幅に増大した。
つ密度の大きいエツチング状態となっているため、上表
から明らかなように、静電容量が大幅に増大した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エツチング前のアルミニウム箔表面に、厚さ40λ
〜200人の結晶化したγ−A1203皮膜を有する電
解コンデンサ用アルミニウム箔。 2 電気化学的または化学的エツチング処理を施す前に
、アルミニウム箔の表面に水利処理皮膜を形成する工程
と、水利処理皮膜の形成されたアルミニウム箔を無酸化
雰囲気中において高温加熱し、該水利処理皮膜を結晶化
したγ−A1203皮膜に変化させる工程を経ることを
特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3739976A JPS5834925B2 (ja) | 1976-04-02 | 1976-04-02 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3739976A JPS5834925B2 (ja) | 1976-04-02 | 1976-04-02 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52120364A JPS52120364A (en) | 1977-10-08 |
JPS5834925B2 true JPS5834925B2 (ja) | 1983-07-29 |
Family
ID=12496440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3739976A Expired JPS5834925B2 (ja) | 1976-04-02 | 1976-04-02 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5834925B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07109610A (ja) * | 1993-08-16 | 1995-04-25 | Tokai Kensetsu:Kk | ヘルメット |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57194516A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Toyo Aluminium Kk | Aluminum foil for electrolytic condenser |
JPS60163426A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-08-26 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔のエツチング方法 |
JPS63133515A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-06 | 昭和アルミニウム株式会社 | エッチング特性に優れた電解コンデンサ用アルミニウム電極箔 |
JP6077422B2 (ja) | 2013-08-30 | 2017-02-08 | 株式会社日立製作所 | 耐摩耗材及びその製作方法並びにパッファシリンダ及びその製作方法とパッファ型ガス遮断器 |
-
1976
- 1976-04-02 JP JP3739976A patent/JPS5834925B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07109610A (ja) * | 1993-08-16 | 1995-04-25 | Tokai Kensetsu:Kk | ヘルメット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52120364A (en) | 1977-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2755237A (en) | Electrolytically etched condenser electrode | |
JPS5834925B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 | |
JP3261482B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサの電極およびその製造方法 | |
EP0501047A1 (en) | Method for manufacturing aluminum foils used as electrolytic capacitor electrodes | |
JPS5834926B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 | |
JP2602013B2 (ja) | エッチング処理用の電解コンデンサ用アルミニウム箔 | |
JP2021027120A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2635357B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法 | |
JPH07201673A (ja) | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 | |
JP3216477B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP3587266B2 (ja) | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔及びその製造方法 | |
JP2003193260A (ja) | エッチング特性に優れた電解コンデンサ電極用アルミニウム箔およびその製造方法、ならびに電解コンデンサ電極用アルミニウムエッチド箔のの製造方法 | |
JP3216433B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2001006985A (ja) | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔の製造方法 | |
JPH08293442A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JPS6060709A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極 | |
JP2847087B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 | |
JPH08246190A (ja) | 陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法 | |
JPS63249380A (ja) | 薄膜太陽電池用基板の製造方法 | |
JPH0566006B2 (ja) | ||
JPH06310384A (ja) | 電解エッチング性に優れた電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔 | |
JPH0372703B2 (ja) | ||
SU1129661A1 (ru) | Способ обработки алюминиевой фольги дл конденсаторов с оксидным диэлектриком | |
JPH0565047B2 (ja) | ||
JPH0456309A (ja) | 電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法 |