JPS5832467A - Mos型半導体集積回路装置 - Google Patents
Mos型半導体集積回路装置Info
- Publication number
- JPS5832467A JPS5832467A JP13106581A JP13106581A JPS5832467A JP S5832467 A JPS5832467 A JP S5832467A JP 13106581 A JP13106581 A JP 13106581A JP 13106581 A JP13106581 A JP 13106581A JP S5832467 A JPS5832467 A JP S5832467A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- semiconductor device
- mos semiconductor
- region
- integrated circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はMOIIW1半導体集積回路装置の構散に関す
る。
る。
従来、MOI11半導体集積回路装置におけるMOS型
半導体装置は、ソース拡散領域、ドレイン拡散領域およ
びゲート領域いずれも、基板シリコン表面に形成される
か、サラアイヤ絶縁基板上のシリコン膜に形成されるの
が通例である。
半導体装置は、ソース拡散領域、ドレイン拡散領域およ
びゲート領域いずれも、基板シリコン表面に形成される
か、サラアイヤ絶縁基板上のシリコン膜に形成されるの
が通例である。
しかるに、上記従来技術では、MOS型半導体装置がシ
リコン基板表両に形成される場合には、拡散層の電気容
量が大なるため高速スイッチング性能が得難く、又、そ
れらの問題を解決するためにす7アイヤ絶縁基板上に形
成されたシリコン膜にMol型半導体装置を作成すると
、拡散層の電気容量が減少し、高速スイッチング性能は
向上するが、+7アイヤ基板のコスシが高くつくという
欠点がある。
リコン基板表両に形成される場合には、拡散層の電気容
量が大なるため高速スイッチング性能が得難く、又、そ
れらの問題を解決するためにす7アイヤ絶縁基板上に形
成されたシリコン膜にMol型半導体装置を作成すると
、拡散層の電気容量が減少し、高速スイッチング性能は
向上するが、+7アイヤ基板のコスシが高くつくという
欠点がある。
本発明はこれら従来技術の欠点をり<シ、安価で高速ス
イッチング性能の良好なMol型半導体集積回路装置を
提供することを目的とする。
イッチング性能の良好なMol型半導体集積回路装置を
提供することを目的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構成は、シ
リコン半導体基板表面に形成されたMO8型半導体集積
回路装置において、MOJi型半導体装置のいずれか一
方の拡散領域が誘電体膜上に形成されて成ることを特徴
とする。
リコン半導体基板表面に形成されたMO8型半導体集積
回路装置において、MOJi型半導体装置のいずれか一
方の拡散領域が誘電体膜上に形成されて成ることを特徴
とする。
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明する。
第1図は本発明の基本構成を示すMOI型半導体装置で
あり、11基板1上に形成された誘電体膜室に囲まれた
領域に形成された単結晶s1膜からなるMOa型半導体
装置Oゲーグー極3.グーF絶縁膜4およびソース拡散
領域5と、誘電体膜上のIli膜に形成されたドレイン
拡散領域6とからなるMO311半導体装置である。こ
の場合ドレインの電気容量が小となり該Me畠盟半導体
装置のスイッチング速度は速くなる。
あり、11基板1上に形成された誘電体膜室に囲まれた
領域に形成された単結晶s1膜からなるMOa型半導体
装置Oゲーグー極3.グーF絶縁膜4およびソース拡散
領域5と、誘電体膜上のIli膜に形成されたドレイン
拡散領域6とからなるMO311半導体装置である。こ
の場合ドレインの電気容量が小となり該Me畠盟半導体
装置のスイッチング速度は速くなる。
第1図に示された基本概念をMOIWi集積回路装置t
(工O)に当てはめた場合の例を第2v!iに示す、第
2図(g)、Ch’)ではXaの基本回路であるインバ
ータ回路の構成断面を示したものであり、s1基板11
上に形成されたiliom膜12、その上に形成された
It膜1sに形成された負荷MO1t INテと駆動
MO1l 7m’!’の出力端子拡散層14がll1
O112上に形成され、その他の電源端子vmm お
よびアース端子VSS は拡散層が基板8111に埋
め込ま′れて形成されている。この様にMol臘X0(
Q電源ラインやアースラインの如く直流電源の加わる部
分はlli基板に拡散層が埋め込まれても良く、出力端
子の如きスイッチ動作をする拡散層配線部分は810m
膜上に形成して電気容量を小さくすることにより高速ス
イッチング性能が得られる。
(工O)に当てはめた場合の例を第2v!iに示す、第
2図(g)、Ch’)ではXaの基本回路であるインバ
ータ回路の構成断面を示したものであり、s1基板11
上に形成されたiliom膜12、その上に形成された
It膜1sに形成された負荷MO1t INテと駆動
MO1l 7m’!’の出力端子拡散層14がll1
O112上に形成され、その他の電源端子vmm お
よびアース端子VSS は拡散層が基板8111に埋
め込ま′れて形成されている。この様にMol臘X0(
Q電源ラインやアースラインの如く直流電源の加わる部
分はlli基板に拡散層が埋め込まれても良く、出力端
子の如きスイッチ動作をする拡散層配線部分は810m
膜上に形成して電気容量を小さくすることにより高速ス
イッチング性能が得られる。
上記例に示した如(、gi基板上のXO81]I!Tの
拡散層の一部を810s膜上に形成することにより、高
速スイッチング性と、かつili基板で良いために低コ
スト化が計れる。
拡散層の一部を810s膜上に形成することにより、高
速スイッチング性と、かつili基板で良いために低コ
スト化が計れる。
本発明は単チャネルMoS XOのみならず0−MoI
工0にも適用することができることは云うまでもな
い。
工0にも適用することができることは云うまでもな
い。
第1図は本発明の基本構成を示すXO8ymτの断面図
、第2図(g)a (A)は本発明を適用したMOji
xoの基本回路であるインバーター回路構成の断面
図である。 1X 1.11−・・・・・81’基板 2.12−・・・・・SiO雪膜 3・・・・・・ゲート電極 4・・・・−・ゲート810s膜 6・・・・・・ソース拡散層領域 6・・・・・・ドレイン拡散層領域 1S・−111膜 14−11103展上の拡散層領域 以上 出願人 株式金社諏訪精工台 代理人 弁理士 最上 務 第2図 IN φ
、第2図(g)a (A)は本発明を適用したMOji
xoの基本回路であるインバーター回路構成の断面
図である。 1X 1.11−・・・・・81’基板 2.12−・・・・・SiO雪膜 3・・・・・・ゲート電極 4・・・・−・ゲート810s膜 6・・・・・・ソース拡散層領域 6・・・・・・ドレイン拡散層領域 1S・−111膜 14−11103展上の拡散層領域 以上 出願人 株式金社諏訪精工台 代理人 弁理士 最上 務 第2図 IN φ
Claims (1)
- シリコン半導体基板表面に形成されたMOB型半導体集
積回路装置において、MO8ml半導体装置のいずれか
一方の拡散層領域が誘電体膜上に形成されて成ることを
特徴とするMOIm半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13106581A JPS5832467A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | Mos型半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13106581A JPS5832467A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | Mos型半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5832467A true JPS5832467A (ja) | 1983-02-25 |
Family
ID=15049181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13106581A Pending JPS5832467A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | Mos型半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5832467A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6094778A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5623781A (en) * | 1979-08-02 | 1981-03-06 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Semiconductor device |
-
1981
- 1981-08-20 JP JP13106581A patent/JPS5832467A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5623781A (en) * | 1979-08-02 | 1981-03-06 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Semiconductor device |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6094778A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950007022A (ko) | 개선된 소오스-하이 성능을 갖는 실리콘 절연체의 트랜지스터 | |
KR890003038A (ko) | 페데스탈 구조를 가지는 반도체 제조 공정 | |
KR100267013B1 (ko) | 반도체 장치 및 그의 제조 방법 | |
JPS6043693B2 (ja) | 駆動回路 | |
JPS5832467A (ja) | Mos型半導体集積回路装置 | |
KR930022601A (ko) | 반도체 장치의 제조방법 | |
JPS6346586B2 (ja) | ||
JPH0222868A (ja) | 絶縁ゲート電界効果トランジスタ | |
JP2504498B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2000012841A (ja) | 半導体装置 | |
JPS63158866A (ja) | 相補形半導体装置 | |
JPS54139374A (en) | Semiconductor device | |
JPS60154671A (ja) | 半導体装置 | |
JP2642000B2 (ja) | Mos集積回路装置 | |
JPH04370978A (ja) | 量子効果型電界効果トランジスタ | |
JPS61144876A (ja) | 半導体装置 | |
KR960002885A (ko) | 반도체 집적 회로 구조 및 그 제조 방법 | |
JP2558879B2 (ja) | 高電圧パルス・ノイズ吸収素子 | |
KR850700185A (ko) | 반도체 집적 회로 | |
JPS5935452A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH04155968A (ja) | Mosfet及び該mosfetを用いた論理回路 | |
KR970024260A (ko) | 채널 영역 아래에 산화막을 가지는 트랜지스터 | |
JPS5918871B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
JPS62186549A (ja) | 電界効果半導体装置 | |
KR890008927A (ko) | 반도체장치 |