JPS5831335B2 - ホゴサレタ ｐ− アミノチカンキガンユウ ｍ−トルイジンノセイホウ - Google Patents
ホゴサレタ ｐ− アミノチカンキガンユウ ｍ−トルイジンノセイホウInfo
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- JPS5831335B2 JPS5831335B2 JP9005075A JP9005075A JPS5831335B2 JP S5831335 B2 JPS5831335 B2 JP S5831335B2 JP 9005075 A JP9005075 A JP 9005075A JP 9005075 A JP9005075 A JP 9005075A JP S5831335 B2 JPS5831335 B2 JP S5831335B2
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Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は保護基により保護されたｐ−アミノ基を含有す
るｍ−トルイジンの製法に関し、更に詳しく言えば一般
式 （この式においてＲは水素原子とアシル基または場合に
より置換されているスルホニル基とを表わすか、または
フタロイル基を表わす） で表わされる保護されたｐ−アミノ置換基含有ｍトルイ
ジンの製法に関する。
るｍ−トルイジンの製法に関し、更に詳しく言えば一般
式 （この式においてＲは水素原子とアシル基または場合に
より置換されているスルホニル基とを表わすか、または
フタロイル基を表わす） で表わされる保護されたｐ−アミノ置換基含有ｍトルイ
ジンの製法に関する。
本発明の目的化合物である保護されたｐ−アミノ置換基
含有ｍ−トルイジンは、各種染料の中間体またはカラー
写真発色現像主薬の中間体として重要な化合物である。
含有ｍ−トルイジンは、各種染料の中間体またはカラー
写真発色現像主薬の中間体として重要な化合物である。
一般式（Ｉ）で表わされる化合物の従来の製法において
は０−トルイジンをニトロ化する工程を含んでいて、そ
の際に副反応を抑制するためには基Ｒの種類に大きな制
約を受ける。
は０−トルイジンをニトロ化する工程を含んでいて、そ
の際に副反応を抑制するためには基Ｒの種類に大きな制
約を受ける。
またニトロ化が〇−トルイジンの置換アミノ基のｐ−位
置にだけ選択的に行われないことから、一般に基Ｒとし
てはトルエンスルホニル基またはベンゼンスルホニル基
が用いられる。
置にだけ選択的に行われないことから、一般に基Ｒとし
てはトルエンスルホニル基またはベンゼンスルホニル基
が用いられる。
更にニトロ化工程では多量の酸、例えば硫酸および硝酸
、ならびに水を使用するので、ニトロ化工程で生成する
酸性廃水の処理に多大の労力および経費を要する。
、ならびに水を使用するので、ニトロ化工程で生成する
酸性廃水の処理に多大の労力および経費を要する。
本発明者等はこのような従来法における欠点を改良する
ために種々研究した結果、ｏ−）ルイジン２モルを一カ
ップリングさせた後、公知の方法によりアミノ基を保護
し、そして還元することにより一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物を有利に製造できることを見出した。
ために種々研究した結果、ｏ−）ルイジン２モルを一カ
ップリングさせた後、公知の方法によりアミノ基を保護
し、そして還元することにより一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物を有利に製造できることを見出した。
本発明方法によればニトロ化工程を含まないので異性体
の分離工程が全（不要であり、さらに副反応が少ないの
で還元反応終了後は水蒸気蒸留により１モルのｏ −）
ルイジンを回収すれば、目的＊＊化合物（Ｉ）が結晶と
してそのままの状態でほとんど純粋に定量的に得られる
。
の分離工程が全（不要であり、さらに副反応が少ないの
で還元反応終了後は水蒸気蒸留により１モルのｏ −）
ルイジンを回収すれば、目的＊＊化合物（Ｉ）が結晶と
してそのままの状態でほとんど純粋に定量的に得られる
。
そして回収した。−トルイジンは繰返して使用すること
ができる。
ができる。
さらに酸性廃水は生成せず、廃水及び廃溶剤は何れもほ
とんど排出されず工業的に有利な方法である。
とんど排出されず工業的に有利な方法である。
本発明方法の反応工程を化学式で示すと次の通りである
。
。
第１工程のジアゾカップリングは常法に従い濃塩酸中で
トルイジン２モルをカップリングさせることによって行
われる。
トルイジン２モルをカップリングさせることによって行
われる。
第２工程のアミノ基の保護には前記したもののうちアセ
チル化するのが最も一般的であるが、必要に応じて前記
の他の保護基を用いることもできる。
チル化するのが最も一般的であるが、必要に応じて前記
の他の保護基を用いることもできる。
第３工程の水素化は金属触媒の存在下で水素を常圧又は
５〜８０ｋｇ／ｃｒｒＬの加圧下、４０−１００℃の反
応温度で容易に行われる。
５〜８０ｋｇ／ｃｒｒＬの加圧下、４０−１００℃の反
応温度で容易に行われる。
又、ハイドロサルファイド等でも同様に水素化される。
水素化工程を経たｏ−）ルイジン及び一般式（Ｉ）で表
わされる化合物を含む生成物からは水蒸気蒸留によりｏ
−トルイジンのみを留出させ、残液を冷却するとほとん
ど純粋の化合ｋＩ）が得られる。
わされる化合物を含む生成物からは水蒸気蒸留によりｏ
−トルイジンのみを留出させ、残液を冷却するとほとん
ど純粋の化合ｋＩ）が得られる。
以下の実施例によって本発明を更に具体的に説明する。
実施例 １
５−アミノ−２−アセトアミノトルエンの製造２００ｙ
のｏ −トルイジンに濃塩酸１１７ｆを加え、次に４０
％亜硝酸塩ソーダ水溶液■５５１を２５〜２７℃の範囲
で１１時間を要して滴下した。
のｏ −トルイジンに濃塩酸１１７ｆを加え、次に４０
％亜硝酸塩ソーダ水溶液■５５１を２５〜２７℃の範囲
で１１時間を要して滴下した。
さらに３５℃に昇温して２０時間攪拌した。析出した結
晶を水洗して４′−アミノ−２・３′ジメチルアゾベン
ゼン２００Ｐを得た。
晶を水洗して４′−アミノ−２・３′ジメチルアゾベン
ゼン２００Ｐを得た。
収率９６％；融点９８〜１００℃。
このようにして得た４′−アミノ−２・３′−ジメチル
アゾベンゼンを常法に従い無水酢酸でアセチル化し、こ
うして得た４′−アセトアミノ−２・３′−ジメチルア
ゾベンゼン３３１、水１００ｍ１及び展開したラネーニ
ッケル１．５１をオートクレーブに入れ、水素を３０ｋ
ｇ／ｃｒ／ｌで圧入し、攪拌下４０〜７０℃で反応させ
た。
アゾベンゼンを常法に従い無水酢酸でアセチル化し、こ
うして得た４′−アセトアミノ−２・３′−ジメチルア
ゾベンゼン３３１、水１００ｍ１及び展開したラネーニ
ッケル１．５１をオートクレーブに入れ、水素を３０ｋ
ｇ／ｃｒ／ｌで圧入し、攪拌下４０〜７０℃で反応させ
た。
温時ラネーニッケルを除き、水蒸気を送りｏ −）ルイ
ジンを除いた。
ジンを除いた。
残液を冷却すると５−アミノ−２−アセトアミノトルエ
ンが析出した。
ンが析出した。
得量：１９．５Ｐ；収率：９５％；融点：１４２〜１４
３℃。
３℃。
元素分析結果 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％）実測
値 ６５．４ ７．５ １７．２計算値 ６５
．８３ ７．３７ １７．０６実施例 ２ ５−アミノ−２−Ｎ−（ｐ−）ルエンスルホニル）アミ
ノトルエンの製造 例１で得た４′−アミノ−２・３′−ジメチルアゾベン
ゼンヲ常法ニ従いトルエンスルホニルフロラ（トチ保ｉ
Ｌ ｔ、＝ ４’−Ｎ −（ｐ−）ルエンスルホニル）
アミノ−２・３′−ジメチルアゾベンゼン３５グ、メタ
ノール１００ｒｒＬｌ及び展開したラネーニッケル１．
５′？をオートクレーブに入れ、以下実施例１と同様に
処理し５−アミノ−２−Ｎ−（ｐ−）ルエンスルホニル
）アミノトルエン２４．２ｙ（９５％）を得た。
値 ６５．４ ７．５ １７．２計算値 ６５
．８３ ７．３７ １７．０６実施例 ２ ５−アミノ−２−Ｎ−（ｐ−）ルエンスルホニル）アミ
ノトルエンの製造 例１で得た４′−アミノ−２・３′−ジメチルアゾベン
ゼンヲ常法ニ従いトルエンスルホニルフロラ（トチ保ｉ
Ｌ ｔ、＝ ４’−Ｎ −（ｐ−）ルエンスルホニル）
アミノ−２・３′−ジメチルアゾベンゼン３５グ、メタ
ノール１００ｒｒＬｌ及び展開したラネーニッケル１．
５′？をオートクレーブに入れ、以下実施例１と同様に
処理し５−アミノ−２−Ｎ−（ｐ−）ルエンスルホニル
）アミノトルエン２４．２ｙ（９５％）を得た。
融点：１４７〜１４８℃０元素分析結果 Ｃ（％）
Ｈ（％） Ｎ（％）実測値 ６０．５ ５．９
１０．４計算値 ６０．８４ ５．８３ １０
．１３実施例 ３ ５−アミノ−２−フタルイミノトルエンの製造４′−ア
ミノ−２・３′−ジメチルアゾベンゼンを無水フタル酸
でアミノ基を保護した４′−フタルイミノ−２・３′−
ジメチルアゾベンゼン３０２を実施例１と同様に処理し
て５−アミノ−２−フタルイミノトルエン２０．３Ｐ（
９５，５％）を得た。
Ｈ（％） Ｎ（％）実測値 ６０．５ ５．９
１０．４計算値 ６０．８４ ５．８３ １０
．１３実施例 ３ ５−アミノ−２−フタルイミノトルエンの製造４′−ア
ミノ−２・３′−ジメチルアゾベンゼンを無水フタル酸
でアミノ基を保護した４′−フタルイミノ−２・３′−
ジメチルアゾベンゼン３０２を実施例１と同様に処理し
て５−アミノ−２−フタルイミノトルエン２０．３Ｐ（
９５，５％）を得た。
融点：１８２〜１８２．５℃。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １一般式 （この式においてＲは水素原子とアシル基または場合に
より置換されているスルホニル基とを表わすか、または
フタロイル基を表わす） で表わされる保護されたｐ−アミノ置換基含有ｍトルイ
ジンを製造するに当り、０−トルイジン２モルを常法に
よりカップリングした後、ｐ−位置のアミノ基を保護基
により保護し、そして次に還元することを特徴とする保
護されたｐ−アミノ置換基含有ｍ−）ルイジンの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9005075A JPS5831335B2 (ja) | 1975-07-25 | 1975-07-25 | ホゴサレタ ｐ− アミノチカンキガンユウ ｍ−トルイジンノセイホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9005075A JPS5831335B2 (ja) | 1975-07-25 | 1975-07-25 | ホゴサレタ ｐ− アミノチカンキガンユウ ｍ−トルイジンノセイホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5214730A JPS5214730A (en) | 1977-02-03 |
| JPS5831335B2 true JPS5831335B2 (ja) | 1983-07-05 |
Family
ID=13987771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9005075A Expired JPS5831335B2 (ja) | 1975-07-25 | 1975-07-25 | ホゴサレタ ｐ− アミノチカンキガンユウ ｍ−トルイジンノセイホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5831335B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6073841A (ja) * | 1984-09-03 | 1985-04-26 | 鐘淵化学工業株式会社 | 金属箔張り積層体 |
| CN103508904B (zh) * | 2013-10-24 | 2015-10-14 | 滨海白云化工有限公司 | 5-氯-2-甲基-1,4-苯二胺的制备方法 |
-
1975
- 1975-07-25 JP JP9005075A patent/JPS5831335B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5214730A (en) | 1977-02-03 |
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