JPS5830645A - パターン検査方法 - Google Patents

パターン検査方法

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JPS5830645A
JPS5830645A JP56127787A JP12778781A JPS5830645A JP S5830645 A JPS5830645 A JP S5830645A JP 56127787 A JP56127787 A JP 56127787A JP 12778781 A JP12778781 A JP 12778781A JP S5830645 A JPS5830645 A JP S5830645A
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JP
Japan
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circuit
pattern
standard pattern
positional deviation
defect
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JP56127787A
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JPH038505B2 (ja
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Toshimitsu Hamada
浜田 利満
Kazushi Yoshimura
和士 吉村
Tomohiro Kuji
久迩 朝宏
Nobuhiko Aoki
信彦 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5830645A publication Critical patent/JPS5830645A/ja
Publication of JPH038505B2 publication Critical patent/JPH038505B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95607Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、パターン検査方式に関するものである。
従来192つの同一形状t−Vするパターンを比較し、
欠陥判定する比較検査法があるが、Cの場合2つのパタ
ーンの関には位置ずれが少なからずあるため、2つパタ
ーン1り特徴を抽出し、この特徴が位置ずれ許容範囲内
[flPL/Aで2つのパターンkToるか否かの判定
を行なっていた。しかしこの方法であると、抽出する特
徴の数が多く、ハードクエテ規模が大きくなる欠点があ
った。
本発明の目的Fi、上記した従来技術の欠点をなくし大
パターン検査方式tII供するkある。
本発明は、設計データ等より創成した欠陥のない標準パ
ターンを用意し、一方!Vカメラ等を用いて被検査パタ
ーンの映像信号を2値化し、その際標準パターンをずら
して被検査パターンとの不一致数を全画面について求め
、不一致数が最小になる位置ずらし量會標準パ4−ンと
普検査パターンの位置ずれ量とし1次に位置ずれ量に基
づき標準パターンある一tit着検査パターンをずらし
ながら読み出しくここで、被検査パターンは再度*11
2gi化して得ることもできるし9位置ずれを求めると
きメモリへ入力してもよい)、標準パターンと被検査パ
ターンとの不一致を求め、このとき標準パターンより境
界部を抽出して量子化誤差の発生する境界部近傍では不
一致を無視し、他の不−hr欠陥とするようKなしたこ
とt−特徴とする。
本発明の全体構成図管筒1図に示す。第1図において1
Fi撮倖装置、2は2iI化回路、5ij標準パターン
1ov記憶する標準パターンメモリ、4は2値化回路2
の出力である21[信号7と撮gI装置1に同期して標
準パターンメモリ3より読み出した標準バター/IQj
り被111査ハJ−ン(211信号7)と標準パターン
10との位置ずれ量5を求める位置ずれ抽出回路である
。 6Fi位置ずれ補正回路であり、2音信号7が入力
され1位置ずれ抽出回路4にて求め大位置ずれ量5に基
づいて2短信号7の位置ずれ1*正し、補正した2短信
号を欠陥列i!回路6へ出力すゐ、9は境界部抽出回路
であり、標準パターン101p境界St−抽出し。
境界部であることを欠陥判定回路8へ伝達する。
本!I!格例では%まず位置ずれ抽出回路4 ij、 
’ 2音信号7と許容範囲内でずらした標準パターン1
0とが入力さnて不一致数を求め、不一致数が最小とな
る位置ずらし量會位置ずれ量5として求める。
次に位置ずれ量5に基づき、211信号7t−位置ずれ
補正回路6で位置ずれ’in正し、1B準パターン10
との不一致會欠陥判定回路8で求める。このとき、標準
パターン101り境界部を境界部抽出回路9において求
めてこれt欠陥判定回路8に入力し、欠陥判定回路8は
境界部を除いた不一致全欠陥として抽出する。
第2図に上記位置ずれ抽出回路4の具体的一実施例を示
す、第2図において1例えば標準パターン10と被検査
パターンFi最大±2#素ずれるものとして考える。第
2図におりてs 1oFi前述した如く標準パターンメ
モリ5より入力される標準パターン、11は走査線の長
さに和尚するシフトレジスタlL12はVリテルインパ
ラレルアウトのレフトレジスタでTon、*準パターン
1QK対し5X5の局部エリアを逐次走査に同期して切
出していく、15は2II信号7を入力する走査線の長
さに対応するレフトレジスタ群、14Fi5ビ豐トのレ
フトレジスタであり、ここで該ν7トレジースタ14の
出力と上記νフトレジスa12ors。
3」は走査位置が一致している。シフトレジスタ14の
出力は、上記レフトレジスタ1206X5=25本の出
力各々と、排他的論理和回路群15で各々不一致が判定
される。25木の不一致信号は、各々25個のカウンタ
で構成されるカウンタ回路群16へ入力され、全−面の
走査終了に伴ない、25個のカウンタの最小値を最小値
検出回路17で求める。最小値検出回W&s 7Fi、
最小となったカウンタに対応するシフトレジスタ12の
位置(rljlJ、r2.5Jなど]と着目絵素である
「s、sJよハ榔準パターン10と被検査I(−一ン(
211信号7)の位置ずれ量5t−求めるものである。
次に第3図を用いて1位置ずれ補正回路6.欠陥判定回
路8.及び境界部抽出回路9の具体例會説明する。第3
図において、18は2値信号7を入力とする走査線の長
さに対応するリフトレジスタより構成されるシフトレジ
スタ群であり19は2短信号7エ9被検査ノ(ターンの
5X5の局部エリアを逐次切9出すVリアルインノくラ
レルアウトのレフトレジスタである。レフトレジスタ1
9の出力25本は、第2図にて求められた位置ずれ量5
にLり動作する選択回路20に151本力5選択すrb
、 11m1パターン噌0の切り出し用シフトレジスタ
12の「s、sJの位置に対応するもの255選択回路
20エク出力される。1準)(ターン10の切り出し用
シフトレジスタ12の中央のS><S(すなわち「2.
2J〜r2.4J、r5.2J〜r!!、4J。
「4.2」〜[4,4J)K−論理積ゲート21とNO
’l’論理積ゲート22へ入力する− このLうにすると、論理積ゲート21では5X5=9絵
素全部か1“のとき出力があハ No?論理積ゲート2
2では5×5=9絵素全@fig“0”のとき出力fあ
ることになり、これらのゲート21と22の出力を論理
和ゲート2sに入力すると・3X墨絵素に境界部が存在
しないとき、“1″が出刀される。24は排他的論理和
ゲートで、標準パターン10と位置ずれ補正後の21[
信号の不一致を求めており、排他的論理和ゲート24の
出力と論理和ゲート23の出力を論理積ゲート25に入
力することに1り、欠陥信号26を得る。
このように本発明では、ます普検査パターンと標準パタ
ーンの位置ずれt補正し、補正後量子化誤差の発生する
境界at−除いて不−lkをとり、欠陥信号とするもの
である。
以上詳しく説明した工うに、本発明により八−ドウエア
規模を小さくなした欠陥判定が可能となり、その工業的
価1iFi非常に大なるものがある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本楯明によるパターン検査方式の一笑一例の全
体構成図、第2図は第1図における位置ずれ量抽出部の
一実施例ブOwり図、第3図は第1図における欠陥判定
部の一実施例プロヴク図である。 1:撮儂装置、 2:2値化回路。 3:標準パターンメモリ。 4:位置ずfL抽出回路。 6:位置ずれ補正回路。 8:欠陥判定回路、 9:境界部抽出回路、 11.15,1 :シフトレジスタ群。 12.19 :シフトレジスタ。 14:レフトレジスタ、 15:排他的論理和回路群。 16:カウンタ回路群、 17:最小値検出回路。 20:選択回路。 21:論理積ゲート、 22:NOt論理積ゲート、 23:論理和ゲート、 24:排他的論理和ゲート。 25:論理積ゲート。 グ /  図 γ 才 2 図 )X3  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 標準パターンを記憶する標準パターンメモリと、撮儂装
    置から得られる映像信号を2値化する2値化回路と、上
    記標準パターンメそりより上記2値信号と上記標準パタ
    ーンの位置ずれが鞄生しうる範囲の局部エリアを逐次切
    1出し1局部エリアの各絵素七2w信号の不一致を各絵
    素ととに全面画に対し求め、全画面走査終了時に木−歇
    数が最小となる局部エリアの絵素位置よp標準パJ−ン
    と2値信号との位置ずれ量を求める位置ずれ抽出回路と
    、該位置ずれ量に基づいて標準パターンあるいは2値信
    号に位置すれt与えて位置ずれt補正し元後に2短信勺
    と標準パターンの不一致を標準パターン1p求めたパタ
    ーンの境界部以外の領域にシいて抽出する欠陥判定回路
    とt少なくとも備えてなるパターン検査方式。
JP56127787A 1981-08-17 1981-08-17 パターン検査方法 Granted JPS5830645A (ja)

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JP56127787A JPS5830645A (ja) 1981-08-17 1981-08-17 パターン検査方法

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JP56127787A JPS5830645A (ja) 1981-08-17 1981-08-17 パターン検査方法

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Publication Number Publication Date
JPS5830645A true JPS5830645A (ja) 1983-02-23
JPH038505B2 JPH038505B2 (ja) 1991-02-06

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ID=14968665

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0117559A2 (en) * 1983-02-28 1984-09-05 Hitachi, Ltd. Pattern checking apparatus
JPS59173736A (ja) * 1983-03-11 1984-10-01 ケイエルエイ・インストラメンツ・コ−ポレ−シヨン 光学検査装置
JPS6165377A (ja) * 1984-09-07 1986-04-03 Hitachi Ltd パタ−ン検査装置
JPH04353990A (ja) * 1991-05-30 1992-12-08 Hitachi Eng Co Ltd パターンマッチングを用いる検査装置およびパターンマッチング方法

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JPH038505B2 (ja) 1991-02-06

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