JPS5826439B2 - 磁気ディスク用アルマイト基板の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用アルマイト基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS5826439B2 JPS5826439B2 JP53157574A JP15757478A JPS5826439B2 JP S5826439 B2 JPS5826439 B2 JP S5826439B2 JP 53157574 A JP53157574 A JP 53157574A JP 15757478 A JP15757478 A JP 15757478A JP S5826439 B2 JPS5826439 B2 JP S5826439B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alumite
- manufacturing
- substrate
- magnetic disk
- cracks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク用基板のアルマイト基板に関する
ものであり、より詳しく述べるならば、酸化物薄膜を磁
気記録媒体とする磁気ディスク用アルマイト基板の製造
方法に関するものである。
ものであり、より詳しく述べるならば、酸化物薄膜を磁
気記録媒体とする磁気ディスク用アルマイト基板の製造
方法に関するものである。
従来から磁気ディスク用基板としてアルミニウム板を研
摩したものが使用されており、塗膜の磁気記録媒体の場
合にはこのアルミニウム基板で十分であったが、酸化物
薄膜の磁気記録媒体の場合には基板として使用できなか
った。
摩したものが使用されており、塗膜の磁気記録媒体の場
合にはこのアルミニウム基板で十分であったが、酸化物
薄膜の磁気記録媒体の場合には基板として使用できなか
った。
なぜならば、薄膜の厚さが０．３μｍ以下であるときに
基板の表面平滑度が０．０３μｍ以下であることが要求
され、このような平滑度をアルミニウム基の研摩面に得
ることが非常に困難であるからである。
基板の表面平滑度が０．０３μｍ以下であることが要求
され、このような平滑度をアルミニウム基の研摩面に得
ることが非常に困難であるからである。
そこで、平滑度の良い面を得るためには、アルミニウム
板に陽極酸化を施こして厚さ３μｍ以下の薄い酸化皮膜
を有するアルマイト板にし、その酸化皮膜を研摩すれば
良い。
板に陽極酸化を施こして厚さ３μｍ以下の薄い酸化皮膜
を有するアルマイト板にし、その酸化皮膜を研摩すれば
良い。
しかしながら、アルマイト板は耐熱性に乏しく、２８０
℃以上の温度ではその酸化皮膜にクラックが発生する欠
点がある。
℃以上の温度ではその酸化皮膜にクラックが発生する欠
点がある。
このようなりラックの発生しやすいアルマイト板を基板
として薄膜磁気記録媒体の磁気ディスクを製作すると無
数のビットエラーが生じることになる 特に、薄膜磁気
記録媒体（フェライト）をアルマイト基板上に形成する
場合には、基板上で下記調心：を起こさせるので、その
際の温度でアルマイト基板にクラックが生じてしまう。
として薄膜磁気記録媒体の磁気ディスクを製作すると無
数のビットエラーが生じることになる 特に、薄膜磁気
記録媒体（フェライト）をアルマイト基板上に形成する
場合には、基板上で下記調心：を起こさせるので、その
際の温度でアルマイト基板にクラックが生じてしまう。
したがって、本発明の目的は、磁気ディスクの製作時に
アルマイト基板にクラックが発生しないようにすること
である。
アルマイト基板にクラックが発生しないようにすること
である。
本発明の別の目的は、磁気ディスク製造時の加熱温度（
約２５０〜約４０００Ｃ）においてはクラックの発生し
ないアルマイト基板を提供することである。
約２５０〜約４０００Ｃ）においてはクラックの発生し
ないアルマイト基板を提供することである。
上記の目的が、アルミニウム板をアルマイト処理して厚
さ３μｍ以下の酸化皮膜を形成し、次に研摩処理するこ
とによって薄膜磁気記録媒体を表面に形成する磁気ディ
スク用アルマイト基板を製造する方法において、研摩処
理の前に１５０ないし３５０°Ｃの加熱処理を行なうこ
とを特徴とするアルマイト基板の製造方法によって達成
される。
さ３μｍ以下の酸化皮膜を形成し、次に研摩処理するこ
とによって薄膜磁気記録媒体を表面に形成する磁気ディ
スク用アルマイト基板を製造する方法において、研摩処
理の前に１５０ないし３５０°Ｃの加熱処理を行なうこ
とを特徴とするアルマイト基板の製造方法によって達成
される。
前述の加熱温度の下限を１５０°Ｃとしたのは、この温
度以下ではクラック発生回避の効果がないからであり、
一方、上限を３Ｓ゛Ｏ℃としたのは、この温度以上では
クラックが発生してしまう場合もあるからである。
度以下ではクラック発生回避の効果がないからであり、
一方、上限を３Ｓ゛Ｏ℃としたのは、この温度以上では
クラックが発生してしまう場合もあるからである。
本発明を実験によって説明する。
実験
アルミニウム板を１５％Ｈ２Ｓｏ４浴中にてアルマイト
（陽極酸化）処理し、続いて研摩処理してアルマイト板
（Ａ群試料）を作った。
（陽極酸化）処理し、続いて研摩処理してアルマイト板
（Ａ群試料）を作った。
一方、本発明の製造方法にしたがって、アルミニウム板
を１５βＨ２ＳＯ４浴中にてアルマイト処理し、３００
℃で１時間の加熱処理を施こした後に研摩処理してアル
マイト板（Ｂ群試料）を作った。
を１５βＨ２ＳＯ４浴中にてアルマイト処理し、３００
℃で１時間の加熱処理を施こした後に研摩処理してアル
マイト板（Ｂ群試料）を作った。
なお、アルミニウム板は同じものでありかつ研摩処理の
条件は同じにして行なったが、アルマイト板の酸化皮膜
厚さの異なる試料を作るためにアルマイト処理時間を適
切に変えた。
条件は同じにして行なったが、アルマイト板の酸化皮膜
厚さの異なる試料を作るためにアルマイト処理時間を適
切に変えた。
そして、Ａ群試料及びＢ群試料のクラック発生を調べる
ために２７５ないし３７５°Ｃの温度にて１時間加熱し
た。
ために２７５ないし３７５°Ｃの温度にて１時間加熱し
た。
このクラック発生試験の結果を、縦軸にアルマイト板の
酸化皮膜厚さをとりまた横軸に試験加熱温度をとって第
１図（Ａ群試料）及び第２図（Ｂ群試料）に示した。
酸化皮膜厚さをとりまた横軸に試験加熱温度をとって第
１図（Ａ群試料）及び第２図（Ｂ群試料）に示した。
これら図面において○印はクラックが発生していないこ
とを表わし、一方、×印はクラックが発生したことを表
わしている。
とを表わし、一方、×印はクラックが発生したことを表
わしている。
第１図（Ａ群試料）及び第２図（本発明に係るＢ群試料
）かられかるように、アルマイト板の酸化皮膜厚さが厚
くなるとクラック発生温度が低くなりクラックが発生し
やすくなるが、クラック発生側とクラック発生しない側
との境界線ａ（第１図）及びｂ（第２図）を比較して本
発明に係る第２図の場合の境界線すは第１図の境界線ａ
より約６０℃高温側にある。
）かられかるように、アルマイト板の酸化皮膜厚さが厚
くなるとクラック発生温度が低くなりクラックが発生し
やすくなるが、クラック発生側とクラック発生しない側
との境界線ａ（第１図）及びｂ（第２図）を比較して本
発明に係る第２図の場合の境界線すは第１図の境界線ａ
より約６０℃高温側にある。
すなわち、本発明にしたがって研摩前に加熱処理を行な
うことによってアルマイト板のクラック発生温度が従来
よりも６０℃高（なった。
うことによってアルマイト板のクラック発生温度が従来
よりも６０℃高（なった。
したがって、磁気ディスク製造時にアルマイト基板が３
００℃前後の温度に加熱されたとしてもクラックの発生
がないことになり、ピットエラーのない磁気ディスクが
得られる。
００℃前後の温度に加熱されたとしてもクラックの発生
がないことになり、ピットエラーのない磁気ディスクが
得られる。
さらに、研摩前の加熱処理の温度を１５０℃ないし３５
０℃の範囲内であれば上述したと同じような効果が得ら
れた。
０℃の範囲内であれば上述したと同じような効果が得ら
れた。
第１図は、従来の製造方法によるアルマイト板の酸化皮
膜厚さとクラック発生試験温度との関係を示す図であり
、及び、第２図は、本発明の製造方法によるアルマイト
板の酸化皮膜厚さとクラック発生試験温度との関係を示
す図である。 ○・・・クラック発生せず、×・・・クラック発生、ａ
。 ｂ・・・クラック発生側とクラックの発生しない側との
境界線。
膜厚さとクラック発生試験温度との関係を示す図であり
、及び、第２図は、本発明の製造方法によるアルマイト
板の酸化皮膜厚さとクラック発生試験温度との関係を示
す図である。 ○・・・クラック発生せず、×・・・クラック発生、ａ
。 ｂ・・・クラック発生側とクラックの発生しない側との
境界線。
Claims (1)
- １ アルマイト処理による厚さ３μｍ以下の酸化皮膜を
有するアルミニウム板を研摩処理した後で薄膜磁気記録
媒体を形成する磁気ディスク用アルマイト基板の製造方
法において、前記研摩処理の前に１５０ないし３５０°
Ｃの加熱処理を行なうことを特徴とする磁気ディスク用
アルマイト基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53157574A JPS5826439B2 (ja) | 1978-12-22 | 1978-12-22 | 磁気ディスク用アルマイト基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53157574A JPS5826439B2 (ja) | 1978-12-22 | 1978-12-22 | 磁気ディスク用アルマイト基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5585694A JPS5585694A (en) | 1980-06-27 |
| JPS5826439B2 true JPS5826439B2 (ja) | 1983-06-02 |
Family
ID=15652657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53157574A Expired JPS5826439B2 (ja) | 1978-12-22 | 1978-12-22 | 磁気ディスク用アルマイト基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5826439B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6349231Y2 (ja) * | 1983-08-09 | 1988-12-19 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5816063A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-29 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク媒体の製造方法 |
| JPS6286197A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-20 | Kobe Steel Ltd | 密着性に優れた着色チタン材の製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS496021A (ja) * | 1972-05-09 | 1974-01-19 | ||
| JPS4919551A (ja) * | 1972-06-14 | 1974-02-21 | ||
| JPS4931613A (ja) * | 1972-07-24 | 1974-03-22 |
-
1978
- 1978-12-22 JP JP53157574A patent/JPS5826439B2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS496021A (ja) * | 1972-05-09 | 1974-01-19 | ||
| JPS4919551A (ja) * | 1972-06-14 | 1974-02-21 | ||
| JPS4931613A (ja) * | 1972-07-24 | 1974-03-22 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6349231Y2 (ja) * | 1983-08-09 | 1988-12-19 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5585694A (en) | 1980-06-27 |
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