JPS5822540B2 - ジユシジヨウノメツキホウホウ - Google Patents

ジユシジヨウノメツキホウホウ

Info

Publication number
JPS5822540B2
JPS5822540B2 JP50030924A JP3092475A JPS5822540B2 JP S5822540 B2 JPS5822540 B2 JP S5822540B2 JP 50030924 A JP50030924 A JP 50030924A JP 3092475 A JP3092475 A JP 3092475A JP S5822540 B2 JPS5822540 B2 JP S5822540B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
electroless
resin
reducing agent
resin surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP50030924A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS51105934A (ja
Inventor
中村勇蔵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP50030924A priority Critical patent/JPS5822540B2/ja
Publication of JPS51105934A publication Critical patent/JPS51105934A/ja
Publication of JPS5822540B2 publication Critical patent/JPS5822540B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は樹脂上のメッキ方法に係り、特にPPO樹脂
(ポリ、フェニレン、オキサイド)のメッキ方法に関す
る。
一般にPPO樹脂は成形性、耐熱性電気特性(誘電損が
少い)が秀れ、又軽量である等の利点があるため、マイ
クロ波管(%に導波管)等の電気部品として種々使用法
が考えられるが、表面に伝導性をもたせるためのメッキ
方法が困難なので余り使用されていないのが現状である
そしてこのようなPPO樹脂に対するメッキ方法として
は一般樹脂のメッキ法として下記のようなものがある。
工程を順次列記すると、■ 親水性化処理 Cr3+H2SO4+H20 又はに2 Cr 207 + H2804+ H20■
感受性化処理 S n C12+ HCl+ H20 又はT i C12+ HCl+ H20■ 活性化処
理 PdCl2+HCl+H20 又はA u C12+ HCl+ H20■ 無電解N
iメッキ ■ 本メッキ のようになる。
即ち樹脂面は一般に疎水性を示すのでCrO3+H2S
O4の液により樹脂面を腐食、膨潤化すると共に親水性
とした後、感受性化処理によりSn、Tiを吸着(浸透
)させ、次の活性化処理工程で表面にPd、Auを析出
させた後、無電解Ni メッキを施し、更にその上に所
望のメッキを行なうものである。
尚、無電解Niメッキの前にPdイオンを還元するため
に還元剤洗浄を行なう場合もあるが、殆んど行なわれな
いのが通常である。
たとえ行なったとしてか上記従来のメッキ方法では、樹
脂面が完全に活性化されていないためと直接無電解Ni
メッキのために下記の欠点がある。
1)メッキムラ(メッキが析出しない)が発生する。
2)付着したメッキ層と樹脂面の密着度がよくなG)。
この発明は上記事情に鑑みなされたもので、メッキムラ
を防止すると共にメッキの樹脂面への密着性を著しく向
上した樹脂のメッキ方法を提供することを目的とする。
以下、この発明の一実施例を詳細に説明する。
この発明のメッキ方法は、先ず親水性化、感受性化、活
性化処理された樹脂面をホルマリン(HCMO)で還元
した後、還元剤ホルマリンを含む無電解Cuメッキ液で
Cuメッキを施し、更に感受性化、活性化処理を行ない
ホルマリンで還元した後、その上に無電解Niメッキを
施し、その後所望の本メッキを行なうもので、詳細な工
程順序は以下のようになる。
この発明のメッキ方法は上記説明のように構成されてい
るので、メッキムラが防止され、又樹脂面へのメッキの
密着性が著しく向上する。
即ち、この発明では活性化処理までは従来のメッキ法と
同様であるが、無電解Cuメッキを行なった後、更に無
電角イNi メッキを行なうことにより密着性が改善さ
れるのは次の理由による。
つまり、活性化処理後の還元剤(HCHO)洗浄でPd
に還元されるが、この七へのメッキとしては無電解Ni
メッキに比べ無電解Cuメッキが付き易い。
これは無電解CuメッキにCuイオンをCuに還元する
還元剤(HCHO)が添加できることであり、無電解N
iメッキへ還元剤を添加しても酸性液のため還元剤とし
ての働きをしない。
即ち、還元剤はアルカリ性浴中では還元作用を示すが、
酸性浴中では酸化作用を示す。
又、樹脂の機械的強度例えば膨潤による引張り、圧縮等
がCuメッキの場合はD力が小さいために密着度が増す
しかし、これから得られるメッキ層は次のメッキを施す
に充分なCuメッキ層は得られない。
これはCuイオンが完全にCuに還元されないものと考
えられる。
そこで上記のようにこの発明では再度感受性化、活性化
処理、還元洗浄を施しており、この結果樹脂面に次の無
電解Niメッキを施すのに充分なCu、Pdが析出する
そしてこの上に無電解Niメッキを施しているので、こ
の発明によればメッキムラが防止されると共に密着性が
改善される訳けである。
以上説明したようにこの発明によれば実用的価値犬なる
樹脂上のメッキ方法を提供することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. I PPO樹脂面を親水性化、感受性化、活性化処理
    する工程と、この工程で得られた樹脂面を還元剤で還元
    する工程と、次いで還元剤を含む無電解Cuメッキ液に
    よりメッキを行なう工程と、再度親水性化、感受性化、
    活性化処理する工程と、無電解Ni メッキを施す工程
    を具備することを特徴とする樹脂上のメッキ方法。
JP50030924A 1975-03-14 1975-03-14 ジユシジヨウノメツキホウホウ Expired JPS5822540B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50030924A JPS5822540B2 (ja) 1975-03-14 1975-03-14 ジユシジヨウノメツキホウホウ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50030924A JPS5822540B2 (ja) 1975-03-14 1975-03-14 ジユシジヨウノメツキホウホウ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS51105934A JPS51105934A (ja) 1976-09-20
JPS5822540B2 true JPS5822540B2 (ja) 1983-05-10

Family

ID=12317225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50030924A Expired JPS5822540B2 (ja) 1975-03-14 1975-03-14 ジユシジヨウノメツキホウホウ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5822540B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS641127Y2 (ja) * 1983-05-18 1989-01-11

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017016964A1 (en) * 2015-07-30 2017-02-02 Basf Se Process for pretreatment of plastic surfaces for metallization

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4977834A (ja) * 1972-11-30 1974-07-26

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4977834A (ja) * 1972-11-30 1974-07-26

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS641127Y2 (ja) * 1983-05-18 1989-01-11

Also Published As

Publication number Publication date
JPS51105934A (ja) 1976-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61176192A (ja) 銅と樹脂との接着方法
US4430154A (en) Method of producing printed circuit boards
JPS5913059A (ja) 無電気めつきのための前処理方法
JP3220350B2 (ja) プリント配線板の製造方法
JPS5822540B2 (ja) ジユシジヨウノメツキホウホウ
JP5280055B2 (ja) シールド電線
JP2915644B2 (ja) プリント配線板の製造方法
JP2003096573A (ja) 無電解めっき皮膜の形成方法
EP0326918B1 (de) Verfahren zum Metallisieren von Formkörpern aus Polyarylensulfid
JPH0366272B2 (ja)
JPS6083395A (ja) 無電解メツキのために誘電体基板の表面を調整する方法
JPS588597B2 (ja) プリント回路板の製造方法
JP2943231B2 (ja) 導電パターンの形成方法
JPH0585637B2 (ja)
JP3330410B2 (ja) プリント配線板の製造方法
JPS58161759A (ja) アルミニウム基板のめつき方法
JPS5856386A (ja) 印刷配線板の製造法
JP2723090B2 (ja) 印刷配線板の製造方法
JPS5879842A (ja) ガラスおよびセラミツクの無電解めつき方法
JPH04187781A (ja) 無電解めっき法
JPS58157958A (ja) ポリスルホン基材の無電解金属メツキ法
JPH05218621A (ja) プリント配線板の製造方法
JPS621245B2 (ja)
JPS62243390A (ja) プリント配線板の製造方法
JPS58133364A (ja) 化学メツキ用前処理剤および化学メツキ前処理方法