JPS58222115A - 帯電防止薄膜付き物品 - Google Patents

帯電防止薄膜付き物品

Info

Publication number
JPS58222115A
JPS58222115A JP57103927A JP10392782A JPS58222115A JP S58222115 A JPS58222115 A JP S58222115A JP 57103927 A JP57103927 A JP 57103927A JP 10392782 A JP10392782 A JP 10392782A JP S58222115 A JPS58222115 A JP S58222115A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
plasma
article
antistatic
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57103927A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0261499B2 (ja
Inventor
Masatoshi Nakayama
正俊 中山
Haruyuki Morita
治幸 森田
Yuichi Kubota
悠一 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP57103927A priority Critical patent/JPS58222115A/ja
Publication of JPS58222115A publication Critical patent/JPS58222115A/ja
Publication of JPH0261499B2 publication Critical patent/JPH0261499B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Elimination Of Static Electricity (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プラスチックフィルムや成形品等のような帯
電しやすい材料物品の帯電防止の為に著しく高い帯電防
止効果と持続性とを有する薄膜をこれら物品表面に形成
する技術に関するものであり、特にはプラズマ重合によ
り形成される有機金属の重合体から成る帯電防止用薄膜
を表面に具備する上記のような物品の提供を目的とする
ものである。
吸湿性が少なくそして電気絶縁性の高いプラスチック等
製の物品は、静電気の帯電による障害を受けやすい。例
えば、各種プラスチック、成形品、フィルム等において
、その加工或いL使用過程中、ちりやほこりが付着した
り、或いは放電が発生したりすることにより、汚れが生
じたり、部品の機能低下や損傷が生じたり、作5業能率
の低下を招きやすい。ゴム引布、繊維布、ガラスその他
の絶縁性製品についても同様の問題が生じうる。これら
帯電性の物品は特にシート、フィルム略の形態で^精度
の機能を要求される電気・電子機器、機械、医療器具等
の要素として組込まれており、所定の機能水準を維持す
る為に帯電防止法が重要な課題となっている。
#i電による弊害を解消する方法としては、コpす放電
により除電する物理的方法もあるが適用を制約されるだ
め、帯電防止剤を利用する化学的方法が主流を占めてい
る。帯電防止剤は物品の表面に塗布する場合と物品内部
に錬込む場合とがあるが、様々の種類や形態のプラスチ
ック等に適用するには前者の方が一般的適用性があり且
つ効果も高い。
従来からプラスチック等基体に塗布される帯電防止用薄
膜に使用された帯電防止剤としては、アニオン系、カチ
オン系、ノニオン系等の界面活性剤系のものがある。こ
れらの多くはイオン解離性やg&湿性を有するもので、
プラスナックの柚類や成形条件等に応じて枇々に使いわ
けられてきた。
しかしながら、この方法で形成される帯電防止膜は基体
との付着性が弱く、帯電防止効果を長期に維持すること
が困難であるという致命的欠点を呈する。即ち、′11
に膜形成後初期的には帯電防止効果があっても、経時的
にその効果が減少するという傾向がある。この傾向紘使
用条件によって著しく変化し、特に有機及び無機溶剤に
よる洗浄とか表面摩擦により帯電防止効果が低下するこ
とが多い。
この他、シリカ系帯電防止剤をプラスチック等の&面に
塗布しそして固化することにより付着性を改善する方法
がある。この方法においては、前処理として表向に付着
している□・□汚れ、更には水滴1 や油脂類を完全に除去し、その後官能性珪累化合物をベ
ースとしたコロイド分散剤を塗布し、そして温度、湿度
及び時間の厳密な管理の下で透明薄膜を形成させまた固
化させる必要がある。帯電防止効果や耐久性という点で
鉱前記界囲活性剤系のものより優れているが、取扱い上
の問題からコストアップとなり、また基体との付着性も
所望水準に至っていない。更に、この方法では、熱硬化
の速度が遅いため、非常に生産性が悪く、プラスチック
フィルム痔の連続生産工程と併用するには適していない
本発明は、上述した従来技術の欠点に鑑み、プラスチッ
ク等の基体となる物品の物性や性質を変化させることな
くその表向に強固に付着しそして高い帯電防止効果とそ
の持続効果を具備する帯電防止薄膜付き物品を提供せん
とするものである。
本発明者は、この目的に対しては、有機重金体としての
性質と金属的性質との中間的性質を有する有機金−重合
体が好適であり、特にはこれら有機金属重合体薄膜をプ
ラズマ重合法によって形成せしめるのが最適上あること
を見出した。プラズマ重合法によって上記薄膜を形成す
ることにより、基体物品表向にきわめて強固に付着した
薄膜が得られると共に、フィルム等の連続生産工程と併
用しうるように高速度での連続生成が可能となる。
更に、プラズマ重合は平面は言うに及ばず、球面、凹凸
面等のあらゆる形状の表向に対して均−膜形成能を有す
るので、複雑な形のプラスチツタ成形品に対しても高度
の適応性を示す。
プラズマ重合有機金属重合体薄膜は、Ar 、 He 
H雪、N、  等のキャリヤーガスの放電プラズマと、
有機金属ガスまたは有機金属を有機溶剤に溶解した時の
発生ガスとを混合し、被処理基体表向にこの混合ガスを
接触させることにより形成することができる。使用され
る有機金属ガスとしては、スズ、チタニウム、アルミニ
ウム、コバルト、鉄、銅、ニッケル、マンガン、亜鉛、
鉛、ガリウム、インジウム、水銀、マグネシウム、セレ
ン、砒素、金、銀、カドミウム、ゲルマニウム等の有機
化合物或いは錯塩のうちプラズマ重合可能なものであれ
ばいずれも使用しうる。具体例を挙けると次のようにな
る(Rは有機基を表しそしてXは水素或いはハpゲンを
表す): (A)  MIR 例 フェニル銀、フェニル銀 (6)M IR6X 2−0 (0” 1 + 2 )
例 ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛、ロウ化メチル水銀、
四つ化メチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウム、
ジメチル水銀、ジメチルセレン、ジメチルマグネシウム
、ジメチルマグネシウム、ジフェニルマグネシウム、ジ
メチル亜鉛、ジ−n−プロピル亜鉛、ジ−n−ブチル亜
鉛、ジフェニル亜鉛、ジフェニルカドミウム、ジエチル
水銀、ジ−n−プロピル水銀、了りルエチル水銀、ジフ
ェニル水銀、 (c)  MIRX   (p=1.2.3)p   
′5−p 例 トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム
、トリイソブチルアルミニウム、トリメチルガリウム、
トリメチルインジウム、ジエチルアルミニウムクロリド
トリメチル金 Q))  MIVRX   (Q=1.2.3.4)q
 4−(1 例 テトラメチルスズ、ジ−n−ブチルスズマレート、
ジブチルスズシアセラート、テトラ−n−ブチルスズ、
テトラエチル鉛、テトラメチルゲルマン、テトラエチル
ゲルマン、ジエチルシクロゲルマナヘキサン、テトラフ
ェニルゲルマン、メチルゲルマン、エチルゲルマン、n
−7’EZビルゲルマン、)リエチルゲルマン、ジフェ
ニルゲルマン、トリフェニルゲルマン、トリメチルブp
ムゲルマン、トリエチルブ四ムゲルマン、トリエチルフ
ルオロゲルマン、トリエチルフルルゲルマン、ジメチル
ジクロルゲルマン、メチルトリフルルゲルマン、ジエチ
ルジクロルゲルマン、ジエチルジブレムゲルマン、ジフ
ェニルジブ2人ゲルマン、ジエチルジクロルゲルマン、
エチルトリクロルゲルマン、エチルトリクロルゲルマン
、n−フロビルトリク胃ルゲル!ン、テトラエチルスズ
、トリメチルエチルスズ、テトラアリルスス、テトラア
リルスス、フェニルトリメチルスズ、トリフェニルメチ
ルスズ、二塩化ジメチルスズ、工水素化ジメチルスズ、
水素化トリメチルスズ、水素化トリフェニルスズ、テト
ラメチル鉛、テトラ−n−プロピル鉛、テトライソプロ
ピル鎖、トリメチルエチル鉛、トリメチル−n−プルピ
ル船、ジメチルジエチル鉛。
@  MVIR(r=1p2*3y4@S)−r 例 へキサエチルゲルマン、ヘキサメチルニスズ、ヘキ
サエチルニスズ、ヘキサフェニルニスズ ω アセチルアセトンコバルト 例 アセチルアセトンチタニウム、アセチルアセトンア
ルミニウム、アセチルアセトンコバルト、アセチルアセ
トン鉄、アセチルアセトン鋼、アセチルアセトンニッケ
ル、アセチルアセトンマンガン 1”。
oCsNC6アルテニル(アリル) Oアリール(フェニル) X−へpゲン フッ素、塩素、臭素、ヨウ業、この他、
フェニルアルシンオキサイド等も使用できる。
プラズマ重合法は、A r 、 I4e 、 Hl F
 N2等のキャリヤガスの放電プラズマとモノマーガス
とを混合し、被処理基体表向にこれら混合ガスを接触さ
せることにより基体表面にプラズマ重合膜を形成するも
のである。
気体を低圧に保ち電場を作用させると、気体中に少量存
在する自由電子は、常圧に較べ分子間距離が非常に大き
いため、電界加速を受け5〜10e’Jの速度エネルギ
ー(電子温度)を獲得する。。
この速度原子が原子や分子に衝突すると、原子軌道や分
子軌道を分断して電子、イオン、中性ラジカルなど常態
では不安定な化学種に解離させる。
解離した電子は再び電界加速を受けて別の原子や分子を
解離させるが、この連鎖作用で気体はたちまち高度の電
離状態となり、これはプラズマガスと呼ばれている。気
体分子は電子との衝突の機会が少ないのでエネルギーを
あまり吸収せず、常温に近い温度に保たれている。この
ように、電子の速度エネルギー(電子温度)と分子の熱
連動(ガス温度)が分離した系は低温プラズマと呼ばれ
、ここでは化学種が比較的原形を保ったまま重合等の加
酸的化学反応を進めうる状況を創出しており、本発明り
この状況を利用して基体にプラズマ重合膜を形成せんと
するものである。低温プラズマを利用する為、基体の熱
影響は全くない。
プラズマ重合により基体となる物品表面に有機金属重合
体薄膜を形成する装置例が第1及び2図に示しである◇
第1図り高周波放電によるプラズマ重合装置であり、そ
して第2図はマイクル波放電によるプラズマ重合装置で
ある。
第1図において、重合反応容器Rには、モノマーガス源
1及びキャリヤーガス源2からそれぞれのマスフローコ
ント田−ラ3及び4を経て供給されるモノマーガス及び
キャリヤーガスが混合器5において混合された後送給さ
れる。七ノマ−ガスは反応容器において重合される原料
となるもので、本発明においては、前述した重合可能な
有機全組、代表的には有機錫、有機チタン、有機アルミ
ニウム、有機ゲルマニウム、有機鉛のガス或いはこれら
有機金属を有機溶剤に溶解した時の発生ガスから選択さ
れる。キャリヤーガスとしては、Ar。
H6,H2,N2等から適宜選択される。モノマーガス
は1〜100m/分そしてキャリヤーガスは50〜50
0sd/分の流量範囲をとりうる。反応容器R内には、
被処理物品支持装置が設置され、ここではフィルム処理
を目的として繰出しp−ル9と巻取りロール10とが示
しである。被処理物品の形態に応じて様々の物品支持装
置が使用でき、例えばプラスチック射出成形品の場合に
はその一部をつかんで物品を回転せしめうる型式の支持
装置が使用されうる。被処理物品を間に挾んで対向する
電極7,7−が設けられて巷、□1.す、一方のII電
極は高周波電源6に接続され、そして他方の電極7′は
8にて接地されている。更に、反応容器Rには、容器内
を排気する為の真空系統が配備され、これは液体窒素ト
ラップ11、油回転ポンプ12及び真空フン)1−−ラ
16を含む。これら真空系統は反応容器内をα01〜1
0 Torr  の真空度の範囲に維持する。
操作においては、反応容器R内が先ず10−31’or
r  以下になるまで油回転ポンプにより容器内を排気
し、その後モノマーガス及びキャリヤーガスが所定の流
量において容器内に混合状態で供給される。反応容器内
の真空はα01〜10Torrの範Hに管理される。被
処理物、ここではフィルムの移行速度並びにモノマーガ
ス及びキャリヤーガスの流量が安定すると、高周波電源
がONにされる。こうして、移行中のフィルム上にプラ
ズマ重合膜が付着される。
第2図はマイクル波放電によるプラズマ重合装置を示す
。第1図と同じ構成要業には同じ符号を付しである。こ
こでは反応容器Rには放電プラズマ室15が形成され、
その外端にキャリヤーガス源2からのキャリヤーガスが
供給されるようになっている。キャリヤーガスは供給後
マグネトロン6の発振によりプラズマ化されそして安定
化される。モノマーガスはプラズマ室15の内端近くに
開口するノズル16から反応容器内に導入される。
プラズマ室15と整列して処理物品支持装置が取付けら
れ、この場合にはフィルム繰出し及び巻取りp−ル?及
び10が垂直に配向されている。この他の要素は第1図
におけるのと同一である。
プラズマ発生源としては、上述した高周波放電、マイク
ル波放電の他に、直流放電、交流放電等いずれでも利用
できる。
付着される薄膜の厚さは、0.001〜10μで十分良
好な帯電防止性能を発揮し、フィルム、シート等の生産
性が必要な場合には0.001〜α1μの厚さにおいて
連続生産が可能とされる。
プラズマ重合により基体にきわめて強固に付着する三次
元的に発達した均一厚の薄膜が生成される。この重合体
膜は洗浄、M擦等に対してもきわめて長期間帯電防止効
釆を持続し、非常に耐久性に富む本のである。
実施例1 第1図と同じ装置を使用してモノマーガスとしてテトラ
メチルスズを用いプラスチックフィルム上に重合薄膜を
付着せしめた。
プラズマ重合条件は次の通りとした: モノマーガス:テトラメチルスズ モノマ−ガス流Ji!ID5g/分 キャリヤーガス:アルゴン キャリヤーガス流量:SO−7分 真空度: 0.5 Torr 高周波電源: 13.56MHz、200W被処理フィ
ルム:ポリエチレンテレ7タレートフイルム移行速度:
1m/分 生成薄膜は多重干渉法及びエリプソメータで測定して2
50人の厚さを有する均一性のよいもので、フーリエ変
換赤外分光光度計、E8CAにより測定してスズを含む
重合薄膜であることを確認した。
未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムと帯電防止
薄膜付きの同フィルムの表面固有抵抗並びに後者のフィ
ルムをエタノール中で30分間舶音波洗浄(IKW)し
た後の表向固有抵抗の測定結果を示す。
(−)  未処理フィルム           1.
5Xj(115(b)  帯電防止薄膜付きフィルム 
     2.2x1010(bつ(b)をエタノール
中超音波洗浄    !、lX1010実用的に帯電障
害を解決するためには表面固有抵抗が1012Ω以下に
なることが必要と云われており、上記結果は本発明に従
う帯電防止薄膜付き物品が帯電防止効果において十分に
満足すべきものであることを示す。更に、エタノール中
で30分間超音波洗浄しても固有抵抗がほとんど変化し
ないことは帯電防止薄膜と物品との強固な付着性及び有
機溶剤への耐久性を実証するものである。
更に、上記5 flfl (a) 、 (b)及び(b
つのフィルムにスロナ帯電させた後の帯電電圧ア゛変化
の様相を第3、″ 図のグラフに示す。この結果、本発明に従う(b)のフ
ィルムは帯電電圧の半減期が1秒未満であり、従って非
常に実用性のある帯電防止薄膜付きフィルムが得られた
ことを裏づける。前記洗浄後の(b′)のフィルムの帯
電電圧の変化の様相は(b)と較べてあまり変らず、こ
の事実は先きの固有抵抗測定結果と併せて考慮する時、
プラズマ重合により三次元的な′#l#が基体のフィル
ム−Lに強固に付着していることを示している。
実施例2 第2図の装置を使用してマイクロ波放電によるプラズマ
重合法によりポリエチレンフィルム上に重合体皮膜を形
成せしめた。
先ず、1000ノ/分の排気速度を持つ油回転ポンプ1
2で反応容器R及び放電プラズマ室15の内部を10”
” Torr  以下の圧力に排気した。キャリヤーガ
スとしてアルゴンを1001ne/分の流量で送入した
。反応容器内の真空紘真空コントローラ13によりα5
 Torr  に管理した。マグネトロン6の発振によ
る周波数2450 MHzの電力1″11.15.。
500Wを印加し、プラズマを安定化させた。次に、ア
セチルアセトンチタニウムを50mt/分の流量でノズ
ル16に供給した。ポリエチレンフィルムはα5 m 
7分の速度で繰出しロール9から巻取りp−ル10へと
移行させた。210人の重合膜が生成された。
生成されたフィルムの固有抵抗を測定した。未処理ポリ
エチレン フィルム(C)、本発明に従う薄膜付きポリ
エチレンフィルム(d)及び(d)のフィルムをエタノ
ール中で30分間超音波洗浄(IKW)したフィルム(
dつの結果を示す: (Jl)  未処理フィルム        ?X10
”(b)  薄膜付きフィルム      五Ox10
1゜(C)  エタノール超音波洗浄後   3.8X
H11゜また、これら3種フィルムの実施例1と同様の
帯電位データを第4図に示す。
これら固有抵抗及び帯電位測定データも本発明が耐久性
のある高帯電防止能を持つMMを有する物品を提供する
ことを実証する。
実施例3 実施例1と同一条件にてジメチルマグネシウムをモノ!
−として重合膜を生成した。膜厚は250人であった。
実施例4 実施例1と同一条件にてフェニル銅を七ツマ−として重
合膜を生成した。膜厚は380人であった。
実施例1と同一条件にてジメチル亜鉛をモノマーとして
重合膜を生成した。膜厚は200人であった。
実施例6 実施例1と同一条件にてトリメチルアルミニウムをモノ
マーとして重合膜を生成した。膜厚は250人であった
実施例7 実施例1と同一条件にてテトラエチルスズをモノマーと
して重合膜を生成した。膜厚#1xoo!であった。
実施例8 実施例1と同一条件にて7エエル銀を七ツマ−として重
合膜を生成した。膜厚は450AであつたO 比較例1 実施例1と同一条件にてエチレンをモノ!−として重合
膜を生成した。膜厚は650Aであった。
比較例2 実施例1と同一条件にてピリジンをモノマーとして重合
膜を生成した。膜厚柱1500Aであった。
比較例3 実施例1と同一条件にてスチレンをモノY−として重合
膜を生成した。膜厚は800Aであった。
比較例4 実施例1と同一条件にてテトラフルオロエチレンをモノ
マーとして重合膜を生成した。膜厚は7Xであった。
実施例3〜8における帯電位のデータを測定すると第3
図の曲線すとほぼ同門1.なカーブが得られた。比較例
1〜5における帯電′i′位のデータは第3図の直線a
と同一であった。
実施例3〜8及び比較例1〜4について固有抵抗の測定
結果を次に示す: 斯様に、本発明は、有機金属重合体薄膜をプラスチック
等の耐電性の物品にプラズマ重合法によって形成するこ
とにより、従来よりも高い帯電防止効果とその持続効果
を有する帯電防止薄膜付き物品を提供するものであり、
電気、電子、機械等身、。
の要素として組込まれる様々の形態のプラスチック等の
物品に広く応用しうるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は高周波放電プラズマ重合装置の概略図であり、
第2図はマイクロ波放電プラズーr重合装置の概略図で
あり、そして第3図及び第4図はプラスチックフィルム
における帯電電圧の経時変化を示すグラフである。 1:モノマーガス源 2:キャリヤーガス源 3.4:マスフローコントローラ 5:混合器 6:高周波電源、!グネトpン 7.7’!電極 ’s10:繰出し及び巻取りp−ル 11:液体窒素トラップ 12@油回転ポンプ 13:真空コントルーラ R:反応容器 !、層、IN1%I賊ト W←箒題〉 手続補正書 昭和58年7月6日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 事件の表示 昭和57年 特願第105927号発明の
名称 帯電防止薄膜付き物品 補正をする者 事件との関係           特許出願人代理人 〒103 住 所  東京都中央区日本橋3丁目13番11号油脂
工業会館−補−正甚は→屑軸P緋←発明Φ数− 補正の対象 一綱1幕冊騙11− 明細書の発明◇痛崩−辱昨請求め莱Uμ発明の詳細な説
明の欄補正の内容  別紙の通り 特願昭57−103927号明細書を以下の通り補正し
ます。 t 第7頁、3〜18行「テトラメチルゲルマン、・・
・・・n−フロビルトリクpルゲルマン」とあるを以下
の通り改めます。 「テトラメチルゲルマニウム、テトラエチルゲルマニウ
ム、ジエチルシクロゲルマノヘ−+tン、テトラフェニ
ルゲルマニウム、メチルゲルマニウム、エチルゲルマニ
ウム、n−プ資ビルゲルマニウム、トリエチルゲルマニ
ウム、ジフェニルゲルマニウム、トリフェニルゲルマニ
ウム、トリメチルブロムゲルマニウム、トリメチルブロ
ムゲルマニウム、トリエチルフルオルゲルマニウム、ト
リエチルフルルゲルマニウム、ジエチルジクロルゲルマ
ニウム、メチルトリクロルゲルマニウム、ジエチルジク
ロルゲルマニウム、ジエチルジブロムゲルマニウム、ジ
フェニルジブ四ムゲルマニウム、ジフェニルツク0ルゲ
ルマニウム、エチルトリクロルゲルマニウム、エチルト
リブOJ−,ゲルマニウム、n−7’oピルトリクロル
ゲルマニウム、」2、 第8頁、9行「ゲルマン」とあ
るを「ゲルマニウム」と訂正します。 3、 第9頁、下から7行及び第10頁、4行に2ケ所
「速度」とあるをいずれも「運動」と改めます。 4、 第13頁、10行「できる。」の後に「ただし、
直流放電及び交流放電については、内部電極方式でプラ
ズマ重合を行うことができる。」を追加します。 5、第17頁、10行にr (a) Jとあるをr (
c)Jに、同11行16月とあるをr (d) Jに、
そして同12行r (C) Jとあるをr(d’)Jと
訂正します。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)プラズマ重合有機金属重合体から成る帯電防止用薄
    膜を具備する帯電防止薄膜付き物品。
JP57103927A 1982-06-18 1982-06-18 帯電防止薄膜付き物品 Granted JPS58222115A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57103927A JPS58222115A (ja) 1982-06-18 1982-06-18 帯電防止薄膜付き物品

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57103927A JPS58222115A (ja) 1982-06-18 1982-06-18 帯電防止薄膜付き物品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58222115A true JPS58222115A (ja) 1983-12-23
JPH0261499B2 JPH0261499B2 (ja) 1990-12-20

Family

ID=14367058

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57103927A Granted JPS58222115A (ja) 1982-06-18 1982-06-18 帯電防止薄膜付き物品

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58222115A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH024970A (ja) * 1987-12-08 1990-01-09 Ricoh Co Ltd 金属含有ポリマーフィルム
US4988573A (en) * 1988-07-14 1991-01-29 Tdk Corporation Medium related members
JP2001337201A (ja) * 2000-03-22 2001-12-07 Konica Corp 光学用フィルム及び液晶ディスプレイ
JP2006199931A (ja) * 2004-12-20 2006-08-03 Tohoku Ricoh Co Ltd ジケトン重合体及びその製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4927571A (ja) * 1972-07-11 1974-03-12
JPS55106503A (en) * 1979-02-09 1980-08-15 Ozawa Juichiro Manufacture of reverse-osmosis membrane
JPS5662827A (en) * 1979-10-30 1981-05-29 Toshiba Corp Antistatic treatment
JPS5765729A (en) * 1980-10-08 1982-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd Preparation of ultraviolet ray screening film or sheet
JPS57147527A (en) * 1981-03-06 1982-09-11 Mitsubishi Chem Ind Ltd Pretreating method of adhesive surface on molded resin article

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4927571A (ja) * 1972-07-11 1974-03-12
JPS55106503A (en) * 1979-02-09 1980-08-15 Ozawa Juichiro Manufacture of reverse-osmosis membrane
JPS5662827A (en) * 1979-10-30 1981-05-29 Toshiba Corp Antistatic treatment
JPS5765729A (en) * 1980-10-08 1982-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd Preparation of ultraviolet ray screening film or sheet
JPS57147527A (en) * 1981-03-06 1982-09-11 Mitsubishi Chem Ind Ltd Pretreating method of adhesive surface on molded resin article

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH024970A (ja) * 1987-12-08 1990-01-09 Ricoh Co Ltd 金属含有ポリマーフィルム
US4988573A (en) * 1988-07-14 1991-01-29 Tdk Corporation Medium related members
JP2001337201A (ja) * 2000-03-22 2001-12-07 Konica Corp 光学用フィルム及び液晶ディスプレイ
JP2006199931A (ja) * 2004-12-20 2006-08-03 Tohoku Ricoh Co Ltd ジケトン重合体及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0261499B2 (ja) 1990-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2137603C1 (ru) Способ усиления эффекта отделения от формы
CN113369107B (zh) 电子设备的纳米涂层保护方法
JP3488458B2 (ja) 物品のための保護フィルム及び方法
US5364665A (en) Method for rapid plasma treatments
JP2843670B2 (ja) 低温プラズマ処理およびプライマー処理を用いる鋼基体のコーティング方法
TW202138905A (zh) 用於光阻黏著及劑量減低的底層
JPH0848543A (ja) 種々の基板上への防曇及び耐引掻性コーティングのプラズマ強化化学蒸着法
JPH04323375A (ja) 難剥性被覆層を有する工作材料とその製造方法
JPS58222115A (ja) 帯電防止薄膜付き物品
US3457156A (en) Electrical discharge coating of surfaces with acetylene-oxygen polymers
CA1336249C (en) Procedure for the deposition of firmly adhering silver films
JPS59204625A (ja) 透明導電性フイルムの製造方法
JP3229312B2 (ja) 加工物の互いに表裏をなす表面領域に化学的にコーティングを施す方法及びそのための装置
JPS591505A (ja) 低摩擦薄膜付き物品
JPS58222114A (ja) 帯電防止処理方法
JPS5922912A (ja) 帯電防止膜付き物品の製造方法
EP3774077B1 (en) Apparatus and method for depositing a poly(p-xylylene) film on a component
KR20050074975A (ko) 8족 (ⅷ) 메탈로센 전구체를 사용한 증착 방법
JP2003089875A (ja) 酸化亜鉛薄膜の形成方法
JPH02248436A (ja) 酸化物膜被覆合成樹脂成形体およびその製造法
JPS62273207A (ja) フイラ−含有ポリオレフイン成形用組成物の製造方法
JP2003055771A (ja) プラズマ処理装置及び処理方法
JP2004035990A (ja) 薄膜製膜装置
JPH0649244A (ja) 表面改質されたフツ素樹脂成形品とその製造法
JPS63243263A (ja) 錫薄膜の形成方法