JPS58219090A - 光学記録媒体 - Google Patents

光学記録媒体

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JPS58219090A
JPS58219090A JP57102579A JP10257982A JPS58219090A JP S58219090 A JPS58219090 A JP S58219090A JP 57102579 A JP57102579 A JP 57102579A JP 10257982 A JP10257982 A JP 10257982A JP S58219090 A JPS58219090 A JP S58219090A
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laser
film
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片桐 一春
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小口 芳弘
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザ特に半導体レーザによる書込み記録に
適した光学記録媒体に関し、詳しくは光デイスク技術に
用いうる改善された光学記録媒体に関するものである。
一般に、光ディスクは、基体の上に設けた薄い記録層に
形成されへ光学的に検出可能な小さな(例えば、約1μ
ピツトをらせん状又は円形のトラック形態にして高密度
情報を記憶することができる。この様なディスクに情報
を書込むには、レーザ感応層の表面に集束したレーザを
走査し、仁のレーザ光線が照射された表面のみがピット
を形成し、このピットをらせん状又は円形トラックの形
態で形成する。レーザ感応層は、レーザ・エネルギーを
吸収して光学的に検出可能なピットを形成できる。例え
ば、ヒートモード記録方式では、レーザ感応層は熱エネ
ルギーを吸収し、その個所に蒸発又は融解によシ小さな
凹部(ピット)を形成できる。また、別のヒートモード
記録方式では、照射されたレーザ・エネルギーの吸収に
よυ、その個所に光学的に検出可能な濃度差を有するピ
ットを形成できる。
この光ディスクに記録された情報は、レーザをトラック
に沿って走査し、ビットが形成された部分とビットが形
成されていない部分の光学的変化を読み取ることによっ
て検出される。例えば、レーザがトラックに沿って走査
され、ディスクにより反射されたエネルギーがフォトデ
ィテクターによってモニターされる。ビットが形成され
ていない時、フォトディテクターの出力は低下し、一方
ビットが形成されている時はレーザ光線は下層の反射面
によって充分に反射されフォトディテクターの出力は大
きくなる。
この様な光ディスクに用いる記録媒体として、これまで
アルミニウム蒸着膜などの金属薄膜、ビスマス薄膜、酸
化テルル薄膜やカルコゲナイド系非晶質ガラス膜などの
無機物質を主に用いたものが提案されている。これらの
薄膜は、一般[350〜800nm付近の波長光で感応
性であるとともに、レーザ光に対する反射率が高いため
、レーザ光の利用率が低いなどの欠点がある0 この様なことから、近年比較的長波長(例えば、780
nm以上)の光エネルギーで光学的な物性変化可能な有
機被膜の研究がなされている。
この様な有機薄膜は、例えば発振波長が830nm付近
の半導体レーザによυピットを形成できる点で有効なも
のである。
しかし、一般に長波長側に吸収特性をもつ有機化合物は
、熱に対して不安定で、しかも昇華性の点でも技術的な
問題点があるなどから、必ずしも特性上、満足できる有
機被膜が開発されているものとは言えないのが現状であ
る。
本発明の目的は、長波長側に吸収帯をもつ有機被膜を有
する光学記録媒体を提供するとと“に。
ある。
本発明の別の目的は、熱に対して安定な有機被膜を有す
る光学記録媒体を提供することにある0 本発明の光学記録媒体は、下記一般式(1)で示される
ポリメチン化合物を含有する有機被膜を有することに特
徴を有している。
一般式(1) R,、R,、R8、R4およびR5は水素原子又はアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、n −プロピル
基、1so−プロピル基、n−ブチル基、+1ee−ブ
チル基、1so−ブチル基、t−ブチル基、n−アミル
基、t−アミル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、
t−オクチル基など)を示し、さらに他のアルキル基、
例えば置換アルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル
基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル
基、2−アセトキシエチル基、カルボキシメチル基、2
−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、2
−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、4−スルホ
ブチル基s 3−スルフエートグロビル基、4−スルフ
ェートブチル基、N−(メチルスルホニル)−カルノ(
ミルメチル基、3−(アセチルスルファミル)プロピル
基%4  (アセチルスルファミル)ブチル基など)、
環式アルキル基(例えば、シクロヘキシル基など)、ア
リル基(CI(、=CH−CHt−)、アラルキル基(
例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチ
ル基、β−ナフチルメチル基など)、置換アラルキル基
(例えば、カルボキシベンジル基、スルホベンジル基、
ヒドロキシエチル基など)を包含する。さらに、Ro、
R2、R8、R4およびR8は置換もしくは未置換のア
リール基(例菟ば、フェニル基、ナフチル基、トリル基
、キシリル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニ
ル基、トリメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
ジメチルアミノ71エニル基、ジエチルアミノフェニル
基、ジプロピルアミノフェニル基、ジベンジルアミノフ
ェニル基、ジフェニルアミノフェニル基なト)、置換も
しくは未置換の複素環基(例えば、ピリジル基、キノリ
ル基、レピジル基、メチルビリジル基、フリル基、チェ
ニル基、インドリル基、ピロール基、カルバゾリル基、
N−エチルカルバゾリル基など)又は置換もしくは未置
換のスチリル基(例えば、スチリル基、メトキシスチリ
ル基、ジメトキシスチリル基、トリメトキシスチリル基
、エトキシスチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジ
エチルアミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル基
、ジベンジルアミノスチリル基、ジフェニルアミノスチ
リル基、2.2−)フェニルビニル基s  2−、rユ
ニルー2−メチルビニル基、2−(ジメチルアミノフェ
ニル)−2−フェニルビニル基%2−(’):r−チル
アミノフェニル)−2−フェニルビニル基、2−(ジベ
ンジルアミノフェニル)−2−フェニルビニル基、2.
2−ジ(ジエチルアミノフェニル)ビニル基、2.2−
ジ(メトキシフェニル)ビニル基、2,2−ジ(エトギ
ンフェニル)ビニル基、2−(ジエチルアミノフェニル
)−2−メチルビニル基%2  (ジエチルアミノフェ
ニル)−2−エチルビニル基など)を示す。
mは、0又は1であり、nは0,1又は2である。Xe
は、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過
塩素酸塩イオン、ベンゼンスルホン酸塩イオン、P−)
ルエンスルホン酸塩イオン、メチル硫酸塩イオン、エチ
ル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩イオンなどの陰イオン
を表わす。
次に、前記一般式(1)で示されるポリメチン化合物の
代表例を挙げる。
■O 鳴 「) \−−−−」              し−一−J
■ 0 Φ            ト           
 の^                e9    
     9Φ                  
 d           dQ          
       會            98   
               に5        
     d■。
燭 ■。
0 Q            Δ 3         0         9B   
         ピ            d91
          雲         8=5  
                 6これらのポリメ
チン化合物は、Bernard S、WildiらのJ
、 Am、Chem、Soc (ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカルソサ千ティ)803772〜377
7(1958)やHoSchmidtらのAnn (リ
ービッヒ・アンナーレンデル・ケミ−) 623204
〜216あるいはRoWJzingerらのHe1n、
 Chim。
Acta(ヘルペテイカ・シミ力・アクタ)24369
などに開示された合成法に準じて合成することKよって
容易に得られる。
本発明の有機被膜は、光デイスク記録に用いることがて
きる。例えば、第1図に示す様な基板lの上に前述の有
機被膜2を形成した記録媒体とすることができる。かか
る有機被膜2は。
前述の一般式(1)で示される化合物を真空蒸着によっ
て形成でき、またバインダー中に前述のポリメチン化合
物を含有させた塗工液を塗布することによっても形成す
ることができる。塗工によって被膜を形成する際、前述
のポリメチン化合物はバインダー中に分散状態で含有さ
れていてもよく、あるいは非晶質状態で含有されていて
もよい。好適なバインダーとしては、広範な樹脂から選
択することができる。具体的にはニトロセルロース、リ
ン酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸セルロース、フ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ミリスチン酸
セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・プロピオ
ン酸セルロース、酢酸會酪酸セルロースなどのセルロー
スエステル類、メチルセルロース、エチルセルロース、
クロビルセルロース、ブチルセルロース、などのセルロ
ースエーテル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル。
ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹
脂類、スチレイーブタジエンコボリマー、スチレン−ア
クリロニトリルコポリマー、スチレンーブタジエンーア
クリロニトリルコ永すマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコ
ポリマーなどの共重合樹脂類、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート
、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルア
ミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂類、ポ
リエチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリ
(4,4’−イソプロヒリテン、ジ:5 、z、、をニ
ー=し・フーコー1.4−シクロヘキシレンジメチレン
カーボネート)。
ポリ(エチレンジオキシ−3,3′−フェニレンチオカ
ーボネート)、ポリ(4,4’−イソブロピリデンジフ
エニレンカーボネートーコーテレ7タレート)、ポリ(
4,4’−イソプロピリデンジフエニレンカーボネート
)、ポリ(4,4−sec−)。
テリデンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4゜4′
−イソプロピリデンジフェニレンカーボネートーブロッ
クーオキシエチレン)などのボリアリレート樹脂類、あ
るいはポリアミド類、ポリイミド類、エポキシ樹脂類、
フェノール樹脂類、ポリエチレン、ポリゾロピレン、塩
素化ポリエチレンなどのポリオレフィン類などを用いる
ことができる0 塗工の際に使用できる有機溶剤は、ツクインダーの種類
や前述の化合物をノ(インダー中に含有させる際1分散
状態とするか、あるいは非晶質状態とするかによって異
なってくるが、一般には、メタノール、エタノール、イ
ンプロノくメールなどのアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトXILN
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのス
ルホキシド類、テトラヒドロンラン、ジオキサン、エチ
レングリコールモノメ゛チルエーテ“ルなどのエーテル
類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン
、四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの脂肪族/Sロ
ゲン化炭化水素類、あるいけベンゼン、トルエン、キシ
レン、リグロイン、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼンなどの芳香族類などを用いることができる。
塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法
、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、
マイヤーノく−コーティング法、ブレードコーティング
法、ローラーコーティング法、カーテンコーティング法
なξのコーティング法を用いて行なうことができる。
バインダーとともに有機被膜2を形成する際、前述のポ
リメチン化合物の含有量は、有機被膜2中において1〜
90重量%、好ましくは20〜70重量%である。また
、有機被膜2の乾燥膜厚あるいは蒸着膜厚は10ミクロ
ン以下、好ましくは2ミクロン以下である。
基板lとしては、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリオ
レフ3ン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリア
ミド、ポリイミドなどのグラスチック、ガラスあるいは
金属類などを用いることができる。
また、本発明は、第2図に示す様に基板lと有機被膜2
の間に反射層3を設けることができる。反射層3Vi、
アルミニウム、銀、クロムなどの反射性金属の蒸着層又
はラミネート層とする仁とができる。
有機被膜2は、第3図に示す集束されたレーザー光線4
の照射によってビット5を形成することができる。ビッ
ト5の深さを有機被膜2の膜厚と同一にすると、ビット
領域における反射率を増加させることができる。読み出
しの際、書込みに用いたレーザー光線と同一の波長を有
するが1強度の小さいレーザー光線を用いれば。
読み出し光がビット領域で大きく反射されるが、非ビッ
ト領域においてはい収される。また、別の方法は有機被
膜2が吸収する第1の波長のし一ザ光線で実時間書込み
を行ない、読み出しに有機被膜2を実質的に透過する第
2の波長のレーザ光線を用いることである。読み出しレ
ーザ光線は、ビット領域と非ビット領域における異なる
膜厚によって生じる反射層の変化に応答することができ
る。
本発明の有機被膜は、アルゴンレーザ(発振波長488
nm)、ヘリウム−ネオンレーザ(発振波長6a a 
nm ) 、ヘリウム−カドミウムレーザ(発振波長4
42nm)などのガスレーザーの照射によって記録する
ことも可能であるが、好ましくは750nm以上の波長
を有するレーザ、%にガリウムーアルミニウムーヒ素半
導体レーザ(発振波長780nm)などの近赤外ある赤
外領域に発振波長を有するレーザ光線の照射によって記
録する方法が適している。また、読み出しのためには、
前述のレーザ光線を用いることができる。この際、書込
みと読み出しを同一波長のレーザで行なうことができ、
また異なる波長のレーザで行なうことができる。
本発明によれば、十分に改善された8/N比を得ること
ができ、しかも本発明で用いる有機被膜は相反則不軌が
小さくsV−ザ光線の如く強照度エネルギー光線の利用
度を高くすることができる。さらに、発振波長750n
m以上の波長を有するレーザ光線による記録を可能にす
ることができる。
以下、本発明を実施例に従って詳細に説明する0 実施例1 ニトロセルロース溶液(ダイセル化学工業株)製;オー
ハーレスラッカー二ニトロセルロース25重量%のメチ
ルエチルヶ、トン溶液)12重量部、前述の化合物層(
8)の化合物3重量部およびメチルエチルケト770重
量部をボールミルで十分に混合した。この混合し友液を
アルミ蒸着ガラス板上に浸漬コーティング法により塗布
した後、乾燥してo、ag/ゴの記録層を得た。
こうして作成した光デイスク記録体をターンテーブル上
に取り付け、ター/テーブルをモータで180 Orp
mの回転を与えながら、スポットサイズ1.0ミクロン
に集束した5mWおよび8 MHzのガリウムーアルミ
ニウムーヒ素半導体レーザ(発振波長780nm)を記
録層面にトラック状で照射して記録を行4つだ。
この記録された光ディスクの表面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なビットが認められた0また、こ
の光ディスクに低出力のガリウムーアルミニウムーヒ素
半導体レーザを入射し、反射光の検知を行なったところ
、十分なS/N比を有する波形が得られた。
実施例2 前述の化合物A (5)の化合物を実施例1と同様の方
法でアルミ蒸着ガラス板の上に浸漬コーティング法によ
り塗工して0.6g/ゴの記録層を有する光デイスク記
録体を作成した0 この光デイスク記録体に実施例1と同様の方法で情報を
記憶させてから再生したところ。
十分な8/N比を有する波形が認められた0又情報を書
き込みした後の記録層面を走査型電子顕微鏡で観察した
ところ、鮮明なビットが形成されていた。
実施例3 前述の化合物/16αqの化合物を実施例1と同様の方
法でアルミ蒸着ガラス板の上に浸漬コーティング法によ
り塗工して0.6g/ばの記録層を有する光デイスク記
録体を作成した。
仁の光デイスク記録体に実施例1と同様の方法で情報を
記憶させてから再生したところ、十分なS/N比を有す
る波形が認められfCo又。
情報管書き込みした後の記録層面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なビットが形成されていた。
実施例4 前述の化合物A(14)の化合物金実施例1と同様の方
法でアルミ蒸着ガラス板の上に浸漬コーティング法によ
り塗工して0.8g1rd の記録層を有する光デイス
ク記録体を作成した。
この光デイスク記録体に実施例1と同様の方法で情報を
記憶させてから再生したところ、十分な8/N比を有す
る波形が認められた0又。
情報を書き込みした後の記録層面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なビットが形成されていた。
実施例5 前述の化合物層Qnの化合物を実施例1と同様の方法で
アルミ蒸着ガラス板の上に浸漬コーティング法により塗
工して0.6g/m’ の記録層を有する光デイスク記
録体を作成したO この光デイスク記録体に実施例1と同様の方法で情報を
記憶させてから再生したところ、十分な87N比を有す
る波形が認められた。又、情報を書き込みした後の記録
層面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、鮮明なビッ
トが形成されていた。
実施例6 前述の化合物/f6(4)の化合物を実施例1と同様の
方法でアルミ蒸着ガラス板の上に浸漬コーティング法に
より塗工してg、 s g/m’の記録層を有する光デ
イスク記録体を作成した。
この光デイスク記録体に実施例1と同様の方法で情報を
記憶させてから再生したところ、十分な8/N比を有す
る波形が認められた。又。
情報を書き込みした後の記録層面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なピットが形成されていた。
実施例7 前述の化合物属(1)の化合物500 mg を蒸着用
モリブテンボートに入れ、l xl O(mmHg以下
に排気した後、アルミ蒸着ガラス板に蒸着した。蒸着中
は真空室内の圧力がI O’ +nmHg以上に上昇し
ない様にヒーターを制御しながら、0.2ミクロンの蒸
着膜を形成させた。
こうして作成した光ディスク記帰休に実施例1と同様の
方法で情報を記憶させたところ、実施例1と同様の鮮明
なピットが認められ、また実施例1と同様の方法で情報
を再生したが、この際十分な8/N比を有する波形が認
められた。
実施例8 前述の化合物慮(5)の化合物を実施例7と同様の方法
でアルミ蒸着ガラス板の上に蒸着して、0.2ミクロン
の記録層を有する光デイスク記録体を作成した。
この光デイスク記録体に実施例1と同様の方法で情報を
記憶させてから再生したところ、十分なS/N比を有す
る波形が認め、られた0又。
情報を書き込みした後の記録層面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なピットが形成されていた。
実施例9 前述の化合物、%Qil)の化合物を実施?lJ 7と
同様の方法でアルミ蒸着ガラス板の上に蒸着して、0.
2ミクロンの記録層を有する光デイスク記録体を作成し
た。
この光デイスク記録体に実施例1と同様の方法で情報を
記憶させてから再生したところ、十分な8/N比を有す
る波形が認められた。又、情報を書き込みした後の記録
層面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、鮮明なピッ
トが形成されていた。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は1本発明の者薇藪撓充光ディスク
記録体栂加匠た降の断面図で、第3図はこの光デイスク
記録体の実施態様を示す説明図である。 ■・・・基板     2・・・有機被膜3・・・反射
層    4・・・レーザ光線5・・・ピット 特許出願人 キャノン株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式(1)で示される化合物を含有する有機被膜
    を有することを特徴とする光学記録媒体。 一般式fl) 鳥 (式中、R11馬、R1、R1およびR5は、水素原子
    、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置
    換のアリール基、置換もしくは未置換のスチリル基又は
    置換もしくは未置換の複素環基を示す。mは、0又は1
    でありs nはO20 l又は2である。Xは、陰イオンである。)
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