JP2530443B2 - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
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- JP2530443B2 JP2530443B2 JP62040417A JP4041787A JP2530443B2 JP 2530443 B2 JP2530443 B2 JP 2530443B2 JP 62040417 A JP62040417 A JP 62040417A JP 4041787 A JP4041787 A JP 4041787A JP 2530443 B2 JP2530443 B2 JP 2530443B2
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- JP
- Japan
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- optical recording
- recording medium
- thin film
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B7/247—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes methine or polymethine dyes
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レーザ光、特に半導体レーザによる書き込
み記録に適した光学的記録媒体に関し、詳しくは光ディ
スクまたは光カード技術に用いうる改善された光学的記
録媒体に関するものである。
み記録に適した光学的記録媒体に関し、詳しくは光ディ
スクまたは光カード技術に用いうる改善された光学的記
録媒体に関するものである。
［従来の技術］ 一般に、光ディスクおよび光カードは、基体の上に設
けた薄い記録層に形成された光学的に検出可能な小さな
（例えば、約１μ）ピットをらせん状又は円形および直
線状のトラック形態にして高密度情報を記憶することが
できる。
けた薄い記録層に形成された光学的に検出可能な小さな
（例えば、約１μ）ピットをらせん状又は円形および直
線状のトラック形態にして高密度情報を記憶することが
できる。
この様なディスクに情報を書込むには、レーザ感応層
の表面に集束したレーザを走査し、このレーザ光線が照
射された表面のみがピットを形成し、このピットをらせ
ん状又は円形および直線状トラックの形態で形成する。
レーザ感応層は、レーザ・エネルギーを吸収して光学的
に検出可能なビットを形成できる。例えば、ヒートモー
ド記録方式では、レーザ感応層は熱エネルギーを吸収
し、その個所に蒸発又は融解により小さな凹部（ピッ
ト）を形成できる。また、別のヒートモード記録方式で
は、照射されたレーザ・エネルギーの吸収により、その
個所に光学的に検出可能な濃度差を有するピットを形成
できる。
の表面に集束したレーザを走査し、このレーザ光線が照
射された表面のみがピットを形成し、このピットをらせ
ん状又は円形および直線状トラックの形態で形成する。
レーザ感応層は、レーザ・エネルギーを吸収して光学的
に検出可能なビットを形成できる。例えば、ヒートモー
ド記録方式では、レーザ感応層は熱エネルギーを吸収
し、その個所に蒸発又は融解により小さな凹部（ピッ
ト）を形成できる。また、別のヒートモード記録方式で
は、照射されたレーザ・エネルギーの吸収により、その
個所に光学的に検出可能な濃度差を有するピットを形成
できる。
この光ディスクおよび光カードに記録された情報は、
レーザ光をトラックに沿って走査し、ピットが形成され
た部分とピットが形成されていない部分の光学的変化を
読み取ることによって検出される。例えば、光ディスク
の場合、レーザ光がトラックに沿って走査され、ディス
クにより反射されたエネルギーがフォトディテクターに
よってモニターされる。ピットが形成されている部分
は、レーザ光は反射が低くなりフォトディテクターの出
力は小さくなる。一方ピットが形成されていない部分
は、充分反射されフォトディテクターの出力は大きくな
る。
レーザ光をトラックに沿って走査し、ピットが形成され
た部分とピットが形成されていない部分の光学的変化を
読み取ることによって検出される。例えば、光ディスク
の場合、レーザ光がトラックに沿って走査され、ディス
クにより反射されたエネルギーがフォトディテクターに
よってモニターされる。ピットが形成されている部分
は、レーザ光は反射が低くなりフォトディテクターの出
力は小さくなる。一方ピットが形成されていない部分
は、充分反射されフォトディテクターの出力は大きくな
る。
この様な光ディスクおよび光カードに用いる光学的記
録媒体として、これまでアルミニウム、金蒸着膜などの
金属薄膜、ビスマス薄膜、酸化テルル薄膜やカルコゲナ
イト系非晶質ガラス膜などの無機物質を主に用いたもの
が提案されている。これらの薄膜は、保存性が悪い、分
解能が低い、記録密度が低い、コスト高になるなどの欠
点を有する。
録媒体として、これまでアルミニウム、金蒸着膜などの
金属薄膜、ビスマス薄膜、酸化テルル薄膜やカルコゲナ
イト系非晶質ガラス膜などの無機物質を主に用いたもの
が提案されている。これらの薄膜は、保存性が悪い、分
解能が低い、記録密度が低い、コスト高になるなどの欠
点を有する。
また、最近になって比較的長波長の光で物性変化し得
る有機色素薄膜を記録層に用いることが提案されてい
る。もの有機色素薄膜は、上記欠点を除去するものであ
るが、一般に長波長側に吸収特性をもつ有機色素は、熱
および光に対して安定性が低いなどの問題点がある。
る有機色素薄膜を記録層に用いることが提案されてい
る。もの有機色素薄膜は、上記欠点を除去するものであ
るが、一般に長波長側に吸収特性をもつ有機色素は、熱
および光に対して安定性が低いなどの問題点がある。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、長波長側に吸収帯をもつ有機被膜を
有する光学的記録媒体を提供することにある。
有する光学的記録媒体を提供することにある。
本発明の別の目的は、熱および光に対して安定な保存
安定性にすぐれ、光劣化および再生劣化の少ない有機薄
膜を有する光学的記録媒体を提供することにある。
安定性にすぐれ、光劣化および再生劣化の少ない有機薄
膜を有する光学的記録媒体を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］および［作用］ 即ち、本発明は下記一般式［Ｉ］で示される化合物を
含有する有機薄膜を有することを特徴とする光学的記録
媒体である。
含有する有機薄膜を有することを特徴とする光学的記録
媒体である。
一般式［Ｉ］ （式中、Ｙ は または を示す。
A,B,DおよびＥは水素原子、置換または未置換のアル
キル基、アラルキル基、アリール基、スチリル基、複素
環基、アルケニル基および環式アルキル基を示す。R1,R
2,R3およびR4は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル
基を示す。ｍおよびｎは0,1または２の整数を示す。） 以下、本発明を詳細に説明する。
キル基、アラルキル基、アリール基、スチリル基、複素
環基、アルケニル基および環式アルキル基を示す。R1,R
2,R3およびR4は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル
基を示す。ｍおよびｎは0,1または２の整数を示す。） 以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の光学的記録媒体は、前記一般式［Ｉ］で示さ
れるポリメチン化合物を含有する有機被膜を有すること
に特徴を有している。
れるポリメチン化合物を含有する有機被膜を有すること
に特徴を有している。
前記一般式［Ｉ］において、 または を示す。
A,B,DおよびＥは水素原子またはアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、iso−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、iso−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基など）を
示し、さらに他のアルキル基、例えば置換アルキル基
（例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプ
ロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−アセトキシエ
チル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル
基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチル基、
３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−スル
フェートプロピル基、４−スルフェートブチル基、Ｎ−
（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、３−（ア
セチルスルファミル）プロピル基、４−（アセチルスル
ファミル）ブチル基など）、環状アルキル基（例えば、
シクロヘキシル基など）、アルケニル基（ビニル基、ア
リル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘ
キセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ドデシニル
基、プレニル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジ
ル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフ
チルメチル基など）、置換アラルキル基（例えば、カル
ボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベン
ジル基など）を包含する。
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、iso−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、iso−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基など）を
示し、さらに他のアルキル基、例えば置換アルキル基
（例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプ
ロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−アセトキシエ
チル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル
基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチル基、
３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−スル
フェートプロピル基、４−スルフェートブチル基、Ｎ−
（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、３−（ア
セチルスルファミル）プロピル基、４−（アセチルスル
ファミル）ブチル基など）、環状アルキル基（例えば、
シクロヘキシル基など）、アルケニル基（ビニル基、ア
リル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘ
キセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ドデシニル
基、プレニル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジ
ル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフ
チルメチル基など）、置換アラルキル基（例えば、カル
ボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベン
ジル基など）を包含する。
さらに、A,B,DおよびＥは置換もしくは未置換のアリ
ール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、
キシリル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル
基、トリメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジ
メチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、
ジプロピルアミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニ
ル基、ジフェニルアミノフェニル基など）、置換もしく
は未置換の複素環基（例えば、ピリジル基、キノリル
基、レピジル基、メチルピリジル基、フリル基、チエニ
ル基、インドリル基、ピロール基、カルバゾリル基、Ｎ
−エチルカルバゾリル基など）又は置換もしくは未置換
のスチリル基（例えば、スチリル基、メトキシスチリル
基、ジメトキシスチリル基、トリメトキシスチリル基、
エトキシスチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジエ
チルアミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル基、
ジベンジルアミノスチリル基、ジフェニルアミノスチリ
ル基、2,2−ジフェニルビニル基、２−フェニル−２−
メチルビニル基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２
−フェニルビニル基、２−（ジエチルアミノフェニル）
−２−フェニルビニル基、２−（ジベンジルアミノフェ
ニル）−２−フェニルビニル基、2,2−ジ（ジエチルア
ミノフェニル）ビニル基、2,2−ジ（メトキシフェニ
ル）ビニル基、2,2−ジ（エトキシフェニル）ビニル
基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２−メチルビニ
ル基、２−（ジエチルアミノフェニル）−２−エチルビ
ニル基など）を示す。
ール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、
キシリル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル
基、トリメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジ
メチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、
ジプロピルアミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニ
ル基、ジフェニルアミノフェニル基など）、置換もしく
は未置換の複素環基（例えば、ピリジル基、キノリル
基、レピジル基、メチルピリジル基、フリル基、チエニ
ル基、インドリル基、ピロール基、カルバゾリル基、Ｎ
−エチルカルバゾリル基など）又は置換もしくは未置換
のスチリル基（例えば、スチリル基、メトキシスチリル
基、ジメトキシスチリル基、トリメトキシスチリル基、
エトキシスチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジエ
チルアミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル基、
ジベンジルアミノスチリル基、ジフェニルアミノスチリ
ル基、2,2−ジフェニルビニル基、２−フェニル−２−
メチルビニル基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２
−フェニルビニル基、２−（ジエチルアミノフェニル）
−２−フェニルビニル基、２−（ジベンジルアミノフェ
ニル）−２−フェニルビニル基、2,2−ジ（ジエチルア
ミノフェニル）ビニル基、2,2−ジ（メトキシフェニ
ル）ビニル基、2,2−ジ（エトキシフェニル）ビニル
基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２−メチルビニ
ル基、２−（ジエチルアミノフェニル）−２−エチルビ
ニル基など）を示す。
R1,R2,R3およびR4は水素原子、ハロゲン原子（塩素原
子、臭素原子）又はアルキル基（メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、アミル基など）を示す。
子、臭素原子）又はアルキル基（メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、アミル基など）を示す。
ｍおよびｎは0,1または２の整数である。
次に、前記一般式［Ｉ］で示されるポリメチン化合物
の代表例を挙げるが、本発明においては必ずしもこれら
に限定されない。
の代表例を挙げるが、本発明においては必ずしもこれら
に限定されない。
化合物の代表例の中でＹは で表わす。
本発明の光学的記録媒体は、例えば第１図に示すごと
き構造とすることができる。第１図に示す光学記的録媒
体は、基板１上に前記一般式［Ｉ］で示される化合物を
含有させた有機薄膜２を設けることによって形成でき
る。かかる有機薄膜２は前記の一般式［Ｉ］で示される
化合物を真空蒸着または、有機溶媒中に溶解もしくは分
散させた塗工液を塗布することによって形成することが
できる。
き構造とすることができる。第１図に示す光学記的録媒
体は、基板１上に前記一般式［Ｉ］で示される化合物を
含有させた有機薄膜２を設けることによって形成でき
る。かかる有機薄膜２は前記の一般式［Ｉ］で示される
化合物を真空蒸着または、有機溶媒中に溶解もしくは分
散させた塗工液を塗布することによって形成することが
できる。
また、有機薄膜２の形成にあたって、前記一般式
［Ｉ］で示される化合物を２種以上組合せて用いること
ができ、さらに他の染料、例えば、前記一般式［Ｉ］の
化合物以外のポリメチン系、アズレン系、ピリリウム
系、スクアリウム系、クロコニウム系、トリフェニルメ
タン系、キサンテン系、アントラキノン系、シアニン
系、フタロシアニン系、ジオキサジン系、テトラヒドロ
コリン系、トリフェノチアジン系、フェナンスレン系、
金属キレート錯体系染料など、あるいは金属および金属
化合物など、例えばAl,Te,Bi,Sn,In,Se,SnO,TeO2,As,Cd
などと混合分散あるいは積層してもよい。
［Ｉ］で示される化合物を２種以上組合せて用いること
ができ、さらに他の染料、例えば、前記一般式［Ｉ］の
化合物以外のポリメチン系、アズレン系、ピリリウム
系、スクアリウム系、クロコニウム系、トリフェニルメ
タン系、キサンテン系、アントラキノン系、シアニン
系、フタロシアニン系、ジオキサジン系、テトラヒドロ
コリン系、トリフェノチアジン系、フェナンスレン系、
金属キレート錯体系染料など、あるいは金属および金属
化合物など、例えばAl,Te,Bi,Sn,In,Se,SnO,TeO2,As,Cd
などと混合分散あるいは積層してもよい。
また、前記一般式［Ｉ］の化合物をバインダー中に分
散状態または溶解状態で含有されていてもよい。例え
ば、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロ
ース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸
セルロース、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セ
ルロース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸
セルロースなどのセルロースエステル類、メチルセルロ
ース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチル
セルロールなどのセルロースエーテル類、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類、スチレ
ン−ブタジエンコポリマー、スチレン−アクリロニトリ
ルコポリマー、スチレン−ブタジエン−アクリロニトリ
ルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーなど
の共重合樹脂類、ポリメチルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリア
クリロニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリエチレンテ
レフタレートなどのポリエステル類、ポリ（4,4′−イ
ソプロピリデンジフェニレン−コ−1,4−シクロヘキシ
レンジメチレンカーボネート）、ポリ（エチレンジオキ
シ−3,3′−フェニレンチオカーボネート）、ポリ（4,
4′−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−コ
−テレフタレート）、ポリ（4,4′−イソプロピリデン
ジフェニレンカーボネート）、ポリ（4,4′−sec−ブチ
リデンジフェニレンカーボネート）、ポリ（4,4′−イ
ソプロピリデンジフェニレンカーボネート−ブロック−
オキシエチレン）などのポリアリレート樹脂類、あるい
はポリアミド類、ポリイミド類、エポキシ樹脂類、フェ
ノール樹脂類、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化
ポリエチレンなどのポリオレフィン類などを用いること
ができる。
散状態または溶解状態で含有されていてもよい。例え
ば、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロ
ース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸
セルロース、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セ
ルロース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸
セルロースなどのセルロースエステル類、メチルセルロ
ース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチル
セルロールなどのセルロースエーテル類、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類、スチレ
ン−ブタジエンコポリマー、スチレン−アクリロニトリ
ルコポリマー、スチレン−ブタジエン−アクリロニトリ
ルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーなど
の共重合樹脂類、ポリメチルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリア
クリロニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリエチレンテ
レフタレートなどのポリエステル類、ポリ（4,4′−イ
ソプロピリデンジフェニレン−コ−1,4−シクロヘキシ
レンジメチレンカーボネート）、ポリ（エチレンジオキ
シ−3,3′−フェニレンチオカーボネート）、ポリ（4,
4′−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−コ
−テレフタレート）、ポリ（4,4′−イソプロピリデン
ジフェニレンカーボネート）、ポリ（4,4′−sec−ブチ
リデンジフェニレンカーボネート）、ポリ（4,4′−イ
ソプロピリデンジフェニレンカーボネート−ブロック−
オキシエチレン）などのポリアリレート樹脂類、あるい
はポリアミド類、ポリイミド類、エポキシ樹脂類、フェ
ノール樹脂類、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化
ポリエチレンなどのポリオレフィン類などを用いること
ができる。
また、有機薄膜２中に界面活性剤、帯電防止剤、安定
剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤などを含有されてい
てもよい。
剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤などを含有されてい
てもよい。
塗工の際に使用できる有機溶剤は、分散状態とする
か、あるいは溶解状態にするかによって異なるが、一般
に、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジア
セトンアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレング
リコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、クロ
ロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭
素、トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロルベン
ゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族類あるいはｎ−ヘ
キサン、シクロヘキサン、リグロインなどの脂肪族炭化
水素類などを用いることができる。
か、あるいは溶解状態にするかによって異なるが、一般
に、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジア
セトンアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
などのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレング
リコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、クロ
ロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭
素、トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロルベン
ゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族類あるいはｎ−ヘ
キサン、シクロヘキサン、リグロインなどの脂肪族炭化
水素類などを用いることができる。
塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング
法、スピンナーコーティング法、ビートコーティング
法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティン
グ法、ローラーコーティング法、カーテンコーティング
法などのコーティング法を用いて行なうことができる。
法、スピンナーコーティング法、ビートコーティング
法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティン
グ法、ローラーコーティング法、カーテンコーティング
法などのコーティング法を用いて行なうことができる。
有機薄膜２の乾燥膜厚あるいは蒸着膜厚は50Å〜100
μｍ、好ましくは200Å〜１μｍが適当である。
μｍ、好ましくは200Å〜１μｍが適当である。
基板１としては、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
アミド、ポリイミドなどのプラスチック、ガラスあるい
は金属類などを用いることができる。
オレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
アミド、ポリイミドなどのプラスチック、ガラスあるい
は金属類などを用いることができる。
また、本発明は第２図から第４図に示すように、下引
き層３および／または保護層４を設けた構成にすること
もできる。
き層３および／または保護層４を設けた構成にすること
もできる。
下引き層は（ａ）接着性の向上、（ｂ）水またはガス
などのバリヤー、（ｃ）記録層の保存安定性の向上、
（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤からの基板の保護およ
び（ｆ）プレグルーブの形成などを目的として設けられ
る。（ａ）の目的に対しては高分子材料、例えばアイオ
ノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高
分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料もしくは
シランカップリング剤などの種々の物質を用いることが
でき、（ｂ）、（ｃ）の目的に対しては上記高分子材料
以外に無機化合物例えばSiO2,MgF2,SiO,TiO2,ZnO,TiN,S
iNなど、金属または半金属例えばZn,Cu,S,Ni,Cr,Ge,Se,
Cd,Ag,Alなどを用いることができる。（ｄ）の目的に対
しては金属例えばAl,Agなど、または金属光沢を有する
有機薄膜、例えばアズレン染料、メチン染料などを用い
ることができる。そして（ｅ），（ｆ）の目的に対して
は紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを
用いることができる。下引き層の膜厚は50Å〜100μ
ｍ、好ましくは200Å〜30μｍが適当である。
などのバリヤー、（ｃ）記録層の保存安定性の向上、
（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤からの基板の保護およ
び（ｆ）プレグルーブの形成などを目的として設けられ
る。（ａ）の目的に対しては高分子材料、例えばアイオ
ノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高
分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料もしくは
シランカップリング剤などの種々の物質を用いることが
でき、（ｂ）、（ｃ）の目的に対しては上記高分子材料
以外に無機化合物例えばSiO2,MgF2,SiO,TiO2,ZnO,TiN,S
iNなど、金属または半金属例えばZn,Cu,S,Ni,Cr,Ge,Se,
Cd,Ag,Alなどを用いることができる。（ｄ）の目的に対
しては金属例えばAl,Agなど、または金属光沢を有する
有機薄膜、例えばアズレン染料、メチン染料などを用い
ることができる。そして（ｅ），（ｆ）の目的に対して
は紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを
用いることができる。下引き層の膜厚は50Å〜100μ
ｍ、好ましくは200Å〜30μｍが適当である。
また、保護層は、キズ、ホコリ、汚れなどからの保護
および記録層の保存安定性の向上および反射率の向上を
目的として設けられ、その材料としては下引き層と同じ
材料を使用することができる。保護層の膜厚は50Å以
上、好ましくは200Å以上が適当である。
および記録層の保存安定性の向上および反射率の向上を
目的として設けられ、その材料としては下引き層と同じ
材料を使用することができる。保護層の膜厚は50Å以
上、好ましくは200Å以上が適当である。
この際、下引き層および／または保護層中には本発明
の上記一般式［Ｉ］の化合物が含有されていてもよい。
また、下引き層または保護層には安定剤、分散剤、難燃
剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などが含有
されていてもよい。
の上記一般式［Ｉ］の化合物が含有されていてもよい。
また、下引き層または保護層には安定剤、分散剤、難燃
剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などが含有
されていてもよい。
さらに、本発明による光学的記録媒体の別の構成とし
ては、第１図から第４図に示した同一構成の２枚の記録
媒体（場合によりその１枚を基板のみとして）を用い有
機薄膜２を内側に配置して密封したいわゆるエアーサン
ドイッチ構造にしてもよいし、保護層４を介して接着し
たいわゆる密着構造（貼り合せ構造）にしてもよい。
ては、第１図から第４図に示した同一構成の２枚の記録
媒体（場合によりその１枚を基板のみとして）を用い有
機薄膜２を内側に配置して密封したいわゆるエアーサン
ドイッチ構造にしてもよいし、保護層４を介して接着し
たいわゆる密着構造（貼り合せ構造）にしてもよい。
本発明において、有機被膜は、アルゴンレーザ（発振
波長488nm）、ヘリウム−ネオンレーザ（発振波長633n
m）、ヘリウム−カドミウムレーザ（発振波長442nm）な
どのガスレーザの照射によって記録することも可能であ
るが、好ましくは750nm以上の波長を有するレーザ、特
にガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザ（発振波
長830nm）などの近赤外あるいは赤外領域に発振波長を
有するレーザ光線の照射によって記録する方法が適して
いる。また、読み出しのためには、前述のレーザ光線を
用いることができる。この際、書込みと読み出しを同一
波長のレーザで行なうことができ、また異なる波長のレ
ーザで行なうことができる。
波長488nm）、ヘリウム−ネオンレーザ（発振波長633n
m）、ヘリウム−カドミウムレーザ（発振波長442nm）な
どのガスレーザの照射によって記録することも可能であ
るが、好ましくは750nm以上の波長を有するレーザ、特
にガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザ（発振波
長830nm）などの近赤外あるいは赤外領域に発振波長を
有するレーザ光線の照射によって記録する方法が適して
いる。また、読み出しのためには、前述のレーザ光線を
用いることができる。この際、書込みと読み出しを同一
波長のレーザで行なうことができ、また異なる波長のレ
ーザで行なうことができる。
［実施例］ 以下、本発明を実施例に従って詳細に説明するが、こ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
実施例１ 直径130mmφ、厚さ1.2mmのポリメチルメタクリレート
（以下「PMMA」と略記する）基板上に、エポキシ−アク
リレート系紫外線硬化樹脂を用いて、2P法（フォト・ポ
リマー法）で、厚さ50μのプレグルーブを設け、その上
に前記化合物No.（13）の化合物２重量部をジクロルエ
タン98重量部に溶解させた液をスピナー塗工法により塗
布した後、乾燥して800Åの有機薄膜記録層を得た。
（以下「PMMA」と略記する）基板上に、エポキシ−アク
リレート系紫外線硬化樹脂を用いて、2P法（フォト・ポ
リマー法）で、厚さ50μのプレグルーブを設け、その上
に前記化合物No.（13）の化合物２重量部をジクロルエ
タン98重量部に溶解させた液をスピナー塗工法により塗
布した後、乾燥して800Åの有機薄膜記録層を得た。
この様にして作成した光学的記録媒体をターンテーブ
ル上に取り付け、ターンテーブルをモータで1800rpmに
回転させて、発振波長830nmの半導体レーザを用いて、
基板側より有機薄膜記録層にスポットサイズ1.5μｍ
φ、記録パワー6mW、記録周波数2MHzで情報を書き込
み、読み出しパワー1.0mWで再生し、その再生波形をス
ペクトル解析（スキャニングフィルター，バンド幅30KH
z）してC/N比（キャリヤ／ノイズ比）を測定した。
ル上に取り付け、ターンテーブルをモータで1800rpmに
回転させて、発振波長830nmの半導体レーザを用いて、
基板側より有機薄膜記録層にスポットサイズ1.5μｍ
φ、記録パワー6mW、記録周波数2MHzで情報を書き込
み、読み出しパワー1.0mWで再生し、その再生波形をス
ペクトル解析（スキャニングフィルター，バンド幅30KH
z）してC/N比（キャリヤ／ノイズ比）を測定した。
次に、前記測定条件で記録した部分を、繰り返し105
回読み出し後のC/N比を測定した。
回読み出し後のC/N比を測定した。
さらに、前記条件で作製した同一の記録媒体を60℃、
95％RHの条件下に2000時間放置して、環境保存安定性試
験を行なった後の透過率（830nm測定）およびC/N比を測
定した。また、同一の記録媒体に1000W/m2（300〜900n
m）のキセノンランプ光を70時間照射して、耐光安定性
試験を行なった後の透過率（830nm測定）およびC/N比を
測定した。その結果を表１に示す。
95％RHの条件下に2000時間放置して、環境保存安定性試
験を行なった後の透過率（830nm測定）およびC/N比を測
定した。また、同一の記録媒体に1000W/m2（300〜900n
m）のキセノンランプ光を70時間照射して、耐光安定性
試験を行なった後の透過率（830nm測定）およびC/N比を
測定した。その結果を表１に示す。
実施例２〜９ 実施例１で用いた化合物No.（13）を前記化合物No.
（３），（６），（７），（10），（17），（21），
（23），（25）にかえて、実施例１と同様の方法で記録
媒体を作製し、それぞれ実施例２〜９の光学的記録媒体
を作製した。
（３），（６），（７），（10），（17），（21），
（23），（25）にかえて、実施例１と同様の方法で記録
媒体を作製し、それぞれ実施例２〜９の光学的記録媒体
を作製した。
上記実施例２〜９の光学的記録媒体を実施例１と同様
の方法で測定した。その結果を表２に示す。
の方法で測定した。その結果を表２に示す。
実施例10および11 下記化合物No.（31）および（32）と前記化合物No.
（11）とをそれぞれ1:1の重量比でジクロルエタンに混
合し、実施例１と同様の方法で塗布し、乾燥膜厚850Å
の有機薄膜記録層を設け、それぞれ実施例10,11の光学
的記録媒体を作製した。
（11）とをそれぞれ1:1の重量比でジクロルエタンに混
合し、実施例１と同様の方法で塗布し、乾燥膜厚850Å
の有機薄膜記録層を設け、それぞれ実施例10,11の光学
的記録媒体を作製した。
この様にして作製した実施例10,11の光学的記録媒体
を実施例１と同様の方法で測定した。その結果を表３に
示す。
を実施例１と同様の方法で測定した。その結果を表３に
示す。
比較例１ 実施例10で用いた化合物No.（11）を除いた以外は、
実施例10と同様の方法で光学的記録媒体を作製し、同様
に測定した。その結果を表３に併示する。
実施例10と同様の方法で光学的記録媒体を作製し、同様
に測定した。その結果を表３に併示する。
実施例12 前記化合物No.（19）の化合物２重量部とニトロセル
ロース樹脂（オーハレスラッカー、ダイセル化学（株）
製）１重量部をメチルエチルケトン97重量部に混合させ
た液をスピナー塗布法により、プレグルーブを設けた直
径130mmφ、厚さ1.2mmのPMMA基板上に塗布し、乾燥膜厚
1000Åの有機薄膜記録層を得た。
ロース樹脂（オーハレスラッカー、ダイセル化学（株）
製）１重量部をメチルエチルケトン97重量部に混合させ
た液をスピナー塗布法により、プレグルーブを設けた直
径130mmφ、厚さ1.2mmのPMMA基板上に塗布し、乾燥膜厚
1000Åの有機薄膜記録層を得た。
この様にして作成した光学的記録媒体を実施例１と同
様の方法で測定した。その結果を表４に示す。
様の方法で測定した。その結果を表４に示す。
実施例13〜15 実施例12で用いた化合物No.（19）を前記化合物No.
（４），（14），（24）にかえて、実施例12と同様の方
法で記録媒体を作製し、それぞれ実施例13〜15の光学的
記録媒体を作製した。
（４），（14），（24）にかえて、実施例12と同様の方
法で記録媒体を作製し、それぞれ実施例13〜15の光学的
記録媒体を作製した。
上記実施例13〜15の光学的記録媒体を実施例１と同様
の方法で測定した。その結果を表４に示す。
の方法で測定した。その結果を表４に示す。
実施例16および17 前記の化合物No.（１）およびNo.（13）の化合物500m
gを蒸着用モリブデンボードに入れ、１×10-6mmHg以下
に排気した後、プレグルーブを設けた直径130mmφ、厚
さ1.2mmのPMMA基板上に蒸着した。蒸着中は真空室内の
圧力が10-5mmHg以上に上昇しない様にヒータを制御しな
がら、950Åの有機薄膜記録層を形成し、それぞれ実施
例16,17の光学的記録媒体を作製した。
gを蒸着用モリブデンボードに入れ、１×10-6mmHg以下
に排気した後、プレグルーブを設けた直径130mmφ、厚
さ1.2mmのPMMA基板上に蒸着した。蒸着中は真空室内の
圧力が10-5mmHg以上に上昇しない様にヒータを制御しな
がら、950Åの有機薄膜記録層を形成し、それぞれ実施
例16,17の光学的記録媒体を作製した。
この様にして作成した光学記的録媒体を実施例１と同
様の方法で測定した。その結果を表５に示す。
様の方法で測定した。その結果を表５に示す。
実施例18 ウォーレットサイズの厚さ0.4mmポリカーボネート
（以下「PC」と略記する）基板上に、熱プレス法により
プレグルーブを設け、その上に前記化合物No.（25）の
化合物４重量部をジアセトンアルコール中96重量部に混
合させた液をバーコート法により塗布した後、乾燥して
1000Åの有機薄膜記録層を得た。さらに、その上にエチ
レン−酢ビドライフィルムを介してウォーレットサイズ
の厚さ0.3mm PC基板と、熱ロール法により密着し、密着
構造の実施例18の光学的記録媒体を作製した。
（以下「PC」と略記する）基板上に、熱プレス法により
プレグルーブを設け、その上に前記化合物No.（25）の
化合物４重量部をジアセトンアルコール中96重量部に混
合させた液をバーコート法により塗布した後、乾燥して
1000Åの有機薄膜記録層を得た。さらに、その上にエチ
レン−酢ビドライフィルムを介してウォーレットサイズ
の厚さ0.3mm PC基板と、熱ロール法により密着し、密着
構造の実施例18の光学的記録媒体を作製した。
この様にして作製した実施例18の光学的記録媒体をＸ
−Ｙ方向に駆動するステージ上に取り付け、発振波長83
0nmの半導体レーザを用いて、厚さ0.4mmのPC基板側よ
り、有機薄膜記録層にスポットサイズ0.3μｍφ、記録
パワー4.0mWで記録パルス80μsecでＹ軸方向に情報を書
き込み、読み出しパワー4.0mWで再生し、そのコントラ
スト比 Ｂ＝記録部の信号強度）を測定した。
−Ｙ方向に駆動するステージ上に取り付け、発振波長83
0nmの半導体レーザを用いて、厚さ0.4mmのPC基板側よ
り、有機薄膜記録層にスポットサイズ0.3μｍφ、記録
パワー4.0mWで記録パルス80μsecでＹ軸方向に情報を書
き込み、読み出しパワー4.0mWで再生し、そのコントラ
スト比 Ｂ＝記録部の信号強度）を測定した。
さらに、前記条件で作製した同一記録媒体を実施例１
と同様の条件の環境保存安定性試験、および耐光安定性
試験を行ない、その後の透過率およびコントラスト比を
測定した。その結果を表６に示す。
と同様の条件の環境保存安定性試験、および耐光安定性
試験を行ない、その後の透過率およびコントラスト比を
測定した。その結果を表６に示す。
［発明の効果］ 上述のように本発明の光学的記録媒体は以下の効果を
奏することができる。
奏することができる。
（１）長波長帯に吸収を有し、半導体レーザ等の長波長
発振レーザを用いても高感度に記録できる。
発振レーザを用いても高感度に記録できる。
（２）良好なピット形状を形成でき、高いC/N比が得ら
れる。
れる。
（３）熱および光に対する安定性が高く、保存性に優
れ、再生劣化の少ない記録体が得られる。
れ、再生劣化の少ない記録体が得られる。
【図面の簡単な説明】 第１図乃至第４図は各々本発明の光学的記録媒体の構成
を示す断面図である。 １……基板 ２……有機薄膜 ３……下引き層 ４……保護層
を示す断面図である。 １……基板 ２……有機薄膜 ３……下引き層 ４……保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｂ 23/01 Ｃ０９Ｂ 23/01 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ａ (56)参考文献 特開 昭58−173696（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−181690（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−159087（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−100496（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−164594（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−187087（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−165181（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−207691（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−207693（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式［Ｉ］で示される化合物を含有
する有機薄膜を有することを特徴とする光学的記録媒
体。 一般式［Ｉ］ （式中、Ｙ は または を示す。 A,B,DおよびＥは水素原子、置換または未置換のアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、スチリル基、複素環
基、アルケニル基および環式アルキル基を示す。R1,R2,
R3およびR4は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基
を示す。ｍおよびｎは0,1または２の整数を示す。）
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62040417A JP2530443B2 (ja) | 1987-02-25 | 1987-02-25 | 光学的記録媒体 |
| US07/336,515 US4944981A (en) | 1987-02-25 | 1989-04-11 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62040417A JP2530443B2 (ja) | 1987-02-25 | 1987-02-25 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63207692A JPS63207692A (ja) | 1988-08-29 |
| JP2530443B2 true JP2530443B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=12580084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62040417A Expired - Fee Related JP2530443B2 (ja) | 1987-02-25 | 1987-02-25 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2530443B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH022066A (ja) * | 1988-06-15 | 1990-01-08 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体及び記録方法 |
-
1987
- 1987-02-25 JP JP62040417A patent/JP2530443B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63207692A (ja) | 1988-08-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |