JPS58194854A - ビスアントラニル酸誘導体の製造法 - Google Patents
ビスアントラニル酸誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS58194854A JPS58194854A JP7655082A JP7655082A JPS58194854A JP S58194854 A JPS58194854 A JP S58194854A JP 7655082 A JP7655082 A JP 7655082A JP 7655082 A JP7655082 A JP 7655082A JP S58194854 A JPS58194854 A JP S58194854A
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- dihalide
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- dicarboxylic
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はビスアントラニル酸誘導体の製造法に関し、そ
の目的は無水酢酸等の脱水剤と反応させて閉環すること
により高純度のビスベンゾオキサジノン類を生成し得る
ビスフントラニル酸誘導体を収率よ（安価に製造する方
法を提供するにある。
の目的は無水酢酸等の脱水剤と反応させて閉環すること
により高純度のビスベンゾオキサジノン類を生成し得る
ビスフントラニル酸誘導体を収率よ（安価に製造する方
法を提供するにある。
ヒスベンゾオキサジノン類は、従来から各種医薬化合物
の合りに中間ｆイ・として知らオフ、また最近ポリエフ
チル、ポリアミド等の鎖伸長剤として用いることが提案
さＪ″ｌている。更にこのヒスベンゾオキサジノン類の
中には紫夕Ｌ ｍＤ １ｐｌ（豚汁のすぐれたもののあ
ることが、本発明者を含めた共同研究によって明らかに
なった。
の合りに中間ｆイ・として知らオフ、また最近ポリエフ
チル、ポリアミド等の鎖伸長剤として用いることが提案
さＪ″ｌている。更にこのヒスベンゾオキサジノン類の
中には紫夕Ｌ ｍＤ １ｐｌ（豚汁のすぐれたもののあ
ることが、本発明者を含めた共同研究によって明らかに
なった。
従来、ヒスベンゾオキサジノン類の合成法として無水イ
サト酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とをピリジン等の
存在１で反応させろ方法が提案されて（・る（特開昭５
１−１０００８６月公報）。
サト酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とをピリジン等の
存在１で反応させろ方法が提案されて（・る（特開昭５
１−１０００８６月公報）。
この方法は、特開昭５１−１０００８６号公報の実施例
２３．２４に示されているように、脱酸剤としてのビリ
ピンを溶媒を兼ねて大過剰に用いろ場合には収率良く高
純度でビスベンゾオキサジ７ノ類を得ろことができるが
、ピリジンを脱酸剤としての理論量乃至２倍量程度用い
かつ例えはトルエン等を溶媒として用いる場合−は収率
、純度とも大幅に低下するという間踊のあることが明ら
かとなった。
２３．２４に示されているように、脱酸剤としてのビリ
ピンを溶媒を兼ねて大過剰に用いろ場合には収率良く高
純度でビスベンゾオキサジ７ノ類を得ろことができるが
、ピリジンを脱酸剤としての理論量乃至２倍量程度用い
かつ例えはトルエン等を溶媒として用いる場合−は収率
、純度とも大幅に低下するという間踊のあることが明ら
かとなった。
また、ヒスベンゾオキサジノン類の合成法としてアント
ラニル酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とをピリジン等
の溶液中で反応させ、次いで無水酢酸で脱水閉環させる
方法も知られている（アメリカ特許第ａ １１ （ｌ
ｓ ３２６″ｉ４ｉ明細書）。しかし、この方法には、
前記特開昭５ｌ−４００（１８６号公報にも記載されて
いるように、ジカルボン酸ジハロゲン化物が脱水剤どし
ても作用するため収率が低く、またジカルボン酸ジハロ
ゲン化物を過剰に用いると種々の副生成物を生成するた
め純ハ上の扁い目的物を収率良く得ろことが難しい欠点
がある。
ラニル酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とをピリジン等
の溶液中で反応させ、次いで無水酢酸で脱水閉環させる
方法も知られている（アメリカ特許第ａ １１ （ｌ
ｓ ３２６″ｉ４ｉ明細書）。しかし、この方法には、
前記特開昭５ｌ−４００（１８６号公報にも記載されて
いるように、ジカルボン酸ジハロゲン化物が脱水剤どし
ても作用するため収率が低く、またジカルボン酸ジハロ
ゲン化物を過剰に用いると種々の副生成物を生成するた
め純ハ上の扁い目的物を収率良く得ろことが難しい欠点
がある。
庫発明者は、従来法の問題点な解消し、かつ特別に精製
をし４「＜ても無水酢ｒ＃！等の脱水剤と反応さセろこ
とにより尚純度のビスベンゾオキサジノン類を生成り得
るビスフントラニル酸誘嘴体を高収率で製造する方法に
ついて鋭倉検討した結果、本発明に到達］−だ。
をし４「＜ても無水酢ｒ＃！等の脱水剤と反応さセろこ
とにより尚純度のビスベンゾオキサジノン類を生成り得
るビスフントラニル酸誘嘴体を高収率で製造する方法に
ついて鋭倉検討した結果、本発明に到達］−だ。
すなわち、本発明はアントラニル酸とジカルボン酸ジハ
ロゲン化物とを反応させてビスアントラニル酸誘導体を
製造するに際し、アントラニル酸のアルカリ水溶液゛と
該アントラニル酸に対し５０モル％ Ｊ：Ｊ、下のジカ
ルボン酸ジハロゲン化物の有機溶媒溶液とを混合するこ
とを特徴と−ｊるヒフアントラニル酸誘導体の製造法で
ある。
ロゲン化物とを反応させてビスアントラニル酸誘導体を
製造するに際し、アントラニル酸のアルカリ水溶液゛と
該アントラニル酸に対し５０モル％ Ｊ：Ｊ、下のジカ
ルボン酸ジハロゲン化物の有機溶媒溶液とを混合するこ
とを特徴と−ｊるヒフアントラニル酸誘導体の製造法で
ある。
本発明で洒−うビスアントラニル酸誘導体とは下記式（
１）で示される化合物である。
１）で示される化合物である。
０
１１１
ここで、Ｒはハｐゲン、ニトロ、低級アルキル、低級ア
ルコキシ、アルケニルオキシ等であり、ｎは０又は１〜
４の整数１１１ である。またーｏ−ｃ−ｘ−ｃ−ｏ−はジカルホン！！
＃残基である。
ルコキシ、アルケニルオキシ等であり、ｎは０又は１〜
４の整数１１１ である。またーｏ−ｃ−ｘ−ｃ−ｏ−はジカルホン！！
＃残基である。
本発明で用いるアントラニル酸とは、下記式（２）で示
さｉする化合物である。
さｉする化合物である。
ここで、Ｒはハｐゲン、ニドｐ、低級フルキル、低級ア
ルコキシ、アルケニルオキシ蝉であり、ｎは０又は１〜
４の整数であく）。
ルコキシ、アルケニルオキシ蝉であり、ｎは０又は１〜
４の整数であく）。
上記式（２）で示される化合物のうち特にｎ＝。
のアントラニル酸が好１し、く用いられる。またｎ＝１
の置換７ントラニル酸、例えばニドｐアントラニル酸、
クロロアントラニル酸、プｐモ７ントラニル酸、メチル
アントラニル酸、エチル７ントラニル酸、メトキシ７ン
トラニル酸。
の置換７ントラニル酸、例えばニドｐアントラニル酸、
クロロアントラニル酸、プｐモ７ントラニル酸、メチル
アントラニル酸、エチル７ントラニル酸、メトキシ７ン
トラニル酸。
エトキシアントラニル酸、フェノキシ７ントラニル酸等
も好ましく用（・られる。
も好ましく用（・られる。
アルカリ水溶液としては、ナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、亜炭酸塩などの水溶液
が好±Ｌ（・。アルカリの使用量はアントラニル酸（前
記式（２）で示される化合物）Ｋ対し当員以上、好まし
くは２倍当刊以下である。
ルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、亜炭酸塩などの水溶液
が好±Ｌ（・。アルカリの使用量はアントラニル酸（前
記式（２）で示される化合物）Ｋ対し当員以上、好まし
くは２倍当刊以下である。
更に、本発明で用いるジカルボン酸ジハロゲン化物どし
ては、例えばアジピン酸、セパチン−５− 酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、シク
ロヘキサンジカルボン酸、テレフタルｌ！２．イソフタ
ル酸、メチルテレフタル酸、メチルインクタル酸、２，
６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナツタレンジカ
ルホン酸、ｌ、５−ナフタレンジカルボン酸、 ４．
４’−ジフェニルジカルボン酸 ３ 、３′−ジフェニ
ルジカルボン酸、４゜４′−ジフェニルメタンジカルボ
ン酸、 ３．３’−ジフェニルメタンジカルボン酸、
４．４’−ジフェニルスルホンジカルボン ーテルジカルボン酸，ジフェノキシエタンジカルボン酸
等の如き脂肪族，脂環族，芳香族ジカルボン酸の酸ハｐ
ゲン化物、好ましくは酸塩化物が例示される。
ては、例えばアジピン酸、セパチン−５− 酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、シク
ロヘキサンジカルボン酸、テレフタルｌ！２．イソフタ
ル酸、メチルテレフタル酸、メチルインクタル酸、２，
６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナツタレンジカ
ルホン酸、ｌ、５−ナフタレンジカルボン酸、 ４．
４’−ジフェニルジカルボン酸 ３ 、３′−ジフェニ
ルジカルボン酸、４゜４′−ジフェニルメタンジカルボ
ン酸、 ３．３’−ジフェニルメタンジカルボン酸、
４．４’−ジフェニルスルホンジカルボン ーテルジカルボン酸，ジフェノキシエタンジカルボン酸
等の如き脂肪族，脂環族，芳香族ジカルボン酸の酸ハｐ
ゲン化物、好ましくは酸塩化物が例示される。
ジカルボン酸ジハロゲン化物の使用量は、アントラニル
酸に対し５０モルチ以下であり、好ｉ Ｌ ＜ ４？．
４ ０〜５０モルチ、特に好ましくは４５〜５０モル
チである。
酸に対し５０モルチ以下であり、好ｉ Ｌ ＜ ４？．
４ ０〜５０モルチ、特に好ましくは４５〜５０モル
チである。
ジカルボン酸ジハロゲン化物の溶媒として用いる有機溶
剤としては、例えばベンゼン、キシ ６ − レン、トルエン等の如き芳香族炭化水素類、メチルエチ
ルケトン、アセトン、シクロヘキサノン等の如きケトン
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル
等の如きエーテル類、り＋：＋ρホルム、塩化メチレン
等の如きハｐグン化炭化水素類等が好ましく例示される
。
剤としては、例えばベンゼン、キシ ６ − レン、トルエン等の如き芳香族炭化水素類、メチルエチ
ルケトン、アセトン、シクロヘキサノン等の如きケトン
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル
等の如きエーテル類、り＋：＋ρホルム、塩化メチレン
等の如きハｐグン化炭化水素類等が好ましく例示される
。
本発明においては、前記アントラニル酸のアルカリ水溶
液とジカルボン酸ジ・・ロゲフ化物の有機溶媒溶液とを
混合し、反応させる。反応は、系が懸濁状態な（・し乳
化状態になるように良く攪拌、混合して行なうのが好ま
しい。反応温間４′１、好ましくは５０°Ｃ以下、更に
好ましくは３０℃以下である。
液とジカルボン酸ジ・・ロゲフ化物の有機溶媒溶液とを
混合し、反応させる。反応は、系が懸濁状態な（・し乳
化状態になるように良く攪拌、混合して行なうのが好ま
しい。反応温間４′１、好ましくは５０°Ｃ以下、更に
好ましくは３０℃以下である。
本発明によれば、高純度のビスベンゾオキサジノン類を
特別に精製処理しなくても無水酢酸等の脱水剤と反応さ
せることによって生成し得るビスアントラニル酸誘導体
を収率良く安価に製造することができる。
特別に精製処理しなくても無水酢酸等の脱水剤と反応さ
せることによって生成し得るビスアントラニル酸誘導体
を収率良く安価に製造することができる。
以下実施例を挙げて本発明を説明する。尚実施例中り部
］とあるは「重量部」を意味し、またＩＡル点は示差熱
分析装置を用い昇温速度８℃／分で測定した値で７１；
、る。
］とあるは「重量部」を意味し、またＩＡル点は示差熱
分析装置を用い昇温速度８℃／分で測定した値で７１；
、る。
実施例１
アントラニル１９１４．０部及び炭酪゛ナトリウム１１
．７部を水２５０部に溶解してアルカリ水溶液を調製し
、このアルカリ水浴液に攪拌下で、テレフタル酸ジクｐ
リド１０，１部をア七ドア６０部に溶Ｎ（−た有機溶媒
溶液を２０〜３０°Ｃで滴下し、？西下後室温下で２時
間、更にアセトン還流下で１時間混合し１反応させた。
．７部を水２５０部に溶解してアルカリ水溶液を調製し
、このアルカリ水浴液に攪拌下で、テレフタル酸ジクｐ
リド１０，１部をア七ドア６０部に溶Ｎ（−た有機溶媒
溶液を２０〜３０°Ｃで滴下し、？西下後室温下で２時
間、更にアセトン還流下で１時間混合し１反応させた。
次いで濃堪ｒ寂を加えて反応系を酸性にしてｊＪ遇し、
乾燥して１９．１部のテレフタルイルビスアントラニル
酸を得た。
乾燥して１９．１部のテレフタルイルビスアントラニル
酸を得た。
次にこのテレフタμイルビスアントラニル酸の全量に無
水酢酸１００部を加え、無水酢酸の還流下で２時間反応
させた。反応物を冷却した後ン」過、乾燥して１５．５
部の固体を得た。この固体（化合物）は２．２’ ＝（
ｐ−フェニレン）ビス−（３，１−ベンゾオキサジン−
チオン）であり、融点は３２０℃であった。プレフタル
酸ジクロリドからの全収率は８４％であった。
水酢酸１００部を加え、無水酢酸の還流下で２時間反応
させた。反応物を冷却した後ン」過、乾燥して１５．５
部の固体を得た。この固体（化合物）は２．２’ ＝（
ｐ−フェニレン）ビス−（３，１−ベンゾオキサジン−
チオン）であり、融点は３２０℃であった。プレフタル
酸ジクロリドからの全収率は８４％であった。
実施例２〜５
実施例１におけるプレフタル酸ジクロリドの代りに下表
に示したジカルボン酸ジノ＼ロゲン化物な所定蓋用い、
かつアセトンの代りに下表に示した有機溶媒を所定量用
い、その他は実施例１と同様に行なった。その結果を下
表に示す。
に示したジカルボン酸ジノ＼ロゲン化物な所定蓋用い、
かつアセトンの代りに下表に示した有機溶媒を所定量用
い、その他は実施例１と同様に行なった。その結果を下
表に示す。
＝ ９ −
Claims (1)
- アントラニル酸とジカルボン酸ジハロゲン化物とを反応
さセでビスアントラニル酸誘導体を製造するに際し、ア
ントラニル酸のアルカリ水溶液と該アントラニル酸に対
し５０モルチ以下のジカルボン酸ジハロゲン化物の有機
溶媒溶液とを混合することを特徴とするビスアントラニ
ル酸誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7655082A JPS58194854A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | ビスアントラニル酸誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7655082A JPS58194854A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | ビスアントラニル酸誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58194854A true JPS58194854A (ja) | 1983-11-12 |
| JPS6126981B2 JPS6126981B2 (ja) | 1986-06-23 |
Family
ID=13608365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7655082A Granted JPS58194854A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | ビスアントラニル酸誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58194854A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1314755A2 (en) * | 2001-11-20 | 2003-05-28 | Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha | Ultraviolet radiation absorbents for thermoplastic polymers and methods of producing the same |
| EP1312637A3 (en) * | 2001-11-20 | 2003-09-03 | Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha | Ultraviolet radiation absorbents for thermoplastic polymers and methods of producing same |
| JP2009096794A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | ベンゾオキサジノン系化合物の製造方法 |
| JP2009286717A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Kinkai Kagaku Kk | ビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法 |
| WO2011064897A1 (ja) | 2009-11-26 | 2011-06-03 | 帝人化成株式会社 | ビスベンゾオキサジノン化合物 |
-
1982
- 1982-05-10 JP JP7655082A patent/JPS58194854A/ja active Granted
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1314755A2 (en) * | 2001-11-20 | 2003-05-28 | Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha | Ultraviolet radiation absorbents for thermoplastic polymers and methods of producing the same |
| EP1314755A3 (en) * | 2001-11-20 | 2003-07-02 | Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha | Ultraviolet radiation absorbents for thermoplastic polymers and methods of producing the same |
| EP1312637A3 (en) * | 2001-11-20 | 2003-09-03 | Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha | Ultraviolet radiation absorbents for thermoplastic polymers and methods of producing same |
| JP2009096794A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | ベンゾオキサジノン系化合物の製造方法 |
| US8304538B2 (en) | 2007-09-27 | 2012-11-06 | Fujifilm Corporation | Method of producing benzoxazinone-based compound |
| JP2009286717A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Kinkai Kagaku Kk | ビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法 |
| WO2011064897A1 (ja) | 2009-11-26 | 2011-06-03 | 帝人化成株式会社 | ビスベンゾオキサジノン化合物 |
| JPWO2011064897A1 (ja) * | 2009-11-26 | 2013-04-11 | 帝人化成株式会社 | ビスベンゾオキサジノン化合物 |
| JP5749177B2 (ja) * | 2009-11-26 | 2015-07-15 | 帝人株式会社 | ビスベンゾオキサジノン化合物を含有する樹脂組成物 |
| EP3056488A1 (en) | 2009-11-26 | 2016-08-17 | Teijin Chemicals, Ltd. | Bisbenzoxazinone compound |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6126981B2 (ja) | 1986-06-23 |
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