JPS5818634A - 乾式直刷り平版印刷版の製造法 - Google Patents
乾式直刷り平版印刷版の製造法Info
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- JPS5818634A JPS5818634A JP11795981A JP11795981A JPS5818634A JP S5818634 A JPS5818634 A JP S5818634A JP 11795981 A JP11795981 A JP 11795981A JP 11795981 A JP11795981 A JP 11795981A JP S5818634 A JPS5818634 A JP S5818634A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ム脅鳴は平ｊＩＩ…Ｊ１１Ｊ［を利用しに乾式置網り半
１［＠ＪｊｉＩＩ臘のｌ１ｉｋ法に関する。
１［＠ＪｊｉＩＩ臘のｌ１ｉｋ法に関する。
直刷り平版印−決（ダイレクト９ツツグラフイー、以下
ダイリソと称ｆ、）は、従来か、６＃ｌし水を用いる方
法で感１元性平Ｍ （Ｐｒ４１１１・ｎ１０１ｍ＠櫨Ｐ
ｌａｎ・、以下２８版と称す、）を利用してＩｊｋ闘印
闘士−鎗に実用化されている。
ダイリソと称ｆ、）は、従来か、６＃ｌし水を用いる方
法で感１元性平Ｍ （Ｐｒ４１１１・ｎ１０１ｍ＠櫨Ｐ
ｌａｎ・、以下２８版と称す、）を利用してＩｊｋ闘印
闘士−鎗に実用化されている。
一般の平版即＠版をダイリソ直二［崩Ｔやときは、湿し
水とインキｔ−おのおのＡｌ［４二供輪し、臘と被ｇＩ
一体とをＩＩＩＬｇＩ！触れさせて印刷する。し謝しな
ａｈ コノ７＆テハ水供ｍ１Ｍ１１１）！ｍ１ｌｌ魯、
Ｔｈ＆ｗ綱のパラツキがもたらされるはか、平原である
ため印圧が上がらず、そのためインキｍ１１１不艮によ
る一臂の低下が避けられないため＾＠ｆＩＪ刷物を得る
方法としてはふされしくない。
水とインキｔ−おのおのＡｌ［４二供輪し、臘と被ｇＩ
一体とをＩＩＩＬｇＩ！触れさせて印刷する。し謝しな
ａｈ コノ７＆テハ水供ｍ１Ｍ１１１）！ｍ１ｌｌ魯、
Ｔｈ＆ｗ綱のパラツキがもたらされるはか、平原である
ため印圧が上がらず、そのためインキｍ１１１不艮によ
る一臂の低下が避けられないため＾＠ｆＩＪ刷物を得る
方法としてはふされしくない。
一方、濃し水を用いない方法も実用化されているが、こ
の場合ｇ二はインキ反発！ｌ：材料か６なる非幽纏都と
親インキ性材料からなる一纏一とを＠Ｔ４Ｎ＆用いるた
め温し水は不要であって、濃し水を使わないため、印ｊ
ｉｌＩＩＩｋのゆがみやインキの乳化等の橘象がおきず
、高印刷製置で安電したｆＥＪｊｌｌを行なえるが、印
圧を＾（できない点線依然として残り、インキ転移不良
による画質低下はやはり避けられず、ａ１式ダイッッよ
りも多少印刷の安定性は同上するものの乾式ダイッソに
よってもｉ＆ＩＩ＆ａＪ刷物の名に値するものは得られ
ない。
の場合ｇ二はインキ反発！ｌ：材料か６なる非幽纏都と
親インキ性材料からなる一纏一とを＠Ｔ４Ｎ＆用いるた
め温し水は不要であって、濃し水を使わないため、印ｊ
ｉｌＩＩＩｋのゆがみやインキの乳化等の橘象がおきず
、高印刷製置で安電したｆＥＪｊｌｌを行なえるが、印
圧を＾（できない点線依然として残り、インキ転移不良
による画質低下はやはり避けられず、ａ１式ダイッッよ
りも多少印刷の安定性は同上するものの乾式ダイッソに
よってもｉ＆ＩＩ＆ａＪ刷物の名に値するものは得られ
ない。
乾式であると湿式であるとを関わず、グイリソシニよる
＆４ＪＩＩＩＩ４は網版写真印刷などの場合≦二は凸版
ＦｉＪＩＩ４より４丁ぐれているが、オフセットＡ４Ｊ
綱に比べてはるかに劣り、他方、文字や繊幽の印−〇場
合にはオフセットＷＪＩｉＩよりもや中上するが、凸版
Ｗ刷に比べれば劣るのが実普である。
＆４ＪＩＩＩＩ４は網版写真印刷などの場合≦二は凸版
ＦｉＪＩＩ４より４丁ぐれているが、オフセットＡ４Ｊ
綱に比べてはるかに劣り、他方、文字や繊幽の印−〇場
合にはオフセットＷＪＩｉＩよりもや中上するが、凸版
Ｗ刷に比べれば劣るのが実普である。
また處富の印１ｌＩＩ法においては印綱鞠の一質−のス
ムース季スに闘してはオフセット印刷がもっともすぐれ
ている。
ムース季スに闘してはオフセット印刷がもっともすぐれ
ている。
オフセラ＃印−がＴぐれている通出はブランケットを＃
！崩する点にあり、平原印＠版上のインキを一度プラン
ケツ）Ｌ−＆移させ、ついでプランゲットか６１ｍ印刷
体上５ニインキを再転移さ着るため、ブランケットのゴ
ムの弾性により龜１ＩＰｂのインキの＆移が均一に行な
われ、父、被ｆｉｇ一体への＆移−にも、被印刷体のＳ
幽の凸画をゴ＾のＲｓにより解ｍｆるものである。
！崩する点にあり、平原印＠版上のインキを一度プラン
ケツ）Ｌ−＆移させ、ついでプランゲットか６１ｍ印刷
体上５ニインキを再転移さ着るため、ブランケットのゴ
ムの弾性により龜１ＩＰｂのインキの＆移が均一に行な
われ、父、被ｆｉｇ一体への＆移−にも、被印刷体のＳ
幽の凸画をゴ＾のＲｓにより解ｍｆるものである。
織ってダイヲソによる印Ｊｉｌはブランケットを使用し
ないため版と被印刷体とのなじみが蟲（インキの転移性
が悪く、繻質の低下が避けられず、これを解綱するには
ａｔ圧を高める方法もあるが、Ｗ７ｉ−の損傷が早＜、
Ｉ［ＪＩ上遍さない。
ないため版と被印刷体とのなじみが蟲（インキの転移性
が悪く、繻質の低下が避けられず、これを解綱するには
ａｔ圧を高める方法もあるが、Ｗ７ｉ−の損傷が早＜、
Ｉ［ＪＩ上遍さない。
ダイリソ直二よる印刷においてＫｍの損傷を避け、しか
も印圧を上げる方法としては−ｍｓを凸状にして、−線
部の印圧を１４ｓ的に上げる方法があり、このためＣ；
紘第４ＷＡＬ−示Ｔような基を 板１上にインキ反脅！！ｌ材料からなる非−纏Ｓ曇と、
非−ａＳ中に罵出する非−線部よりも比較的厚みの厚い
親インキ１！！ｗ科からなる一纏ｓ２とを有するような
印廟版を［１する必要が畠り、Ｘ脅−はかかる平版印Ｊ
ｌｌＩ１版の製造の一方法に関するものである。かかる
構造の印ｌ７Ｉ４１ｉＬを製造ＴるにはＩ［々の方法が
あり、−例を示せば、感電！ＩＶ５コーンを用いる方法
、Ｖｙココ−と感光性物質との誕金物を用いる方法等が
ある。
も印圧を上げる方法としては−ｍｓを凸状にして、−線
部の印圧を１４ｓ的に上げる方法があり、このためＣ；
紘第４ＷＡＬ−示Ｔような基を 板１上にインキ反脅！！ｌ材料からなる非−纏Ｓ曇と、
非−ａＳ中に罵出する非−線部よりも比較的厚みの厚い
親インキ１！！ｗ科からなる一纏ｓ２とを有するような
印廟版を［１する必要が畠り、Ｘ脅−はかかる平版印Ｊ
ｌｌＩ１版の製造の一方法に関するものである。かかる
構造の印ｌ７Ｉ４１ｉＬを製造ＴるにはＩ［々の方法が
あり、−例を示せば、感電！ＩＶ５コーンを用いる方法
、Ｖｙココ−と感光性物質との誕金物を用いる方法等が
ある。
しかしながらいずれの万流においてもνｊ２−ンの一鄭
を改変若しくは異物ｔ＃−会しｒ：４のを用いるためＶ
９コーンのインキＪＩｌ：脅箇の低いものしか得られな
いとい５欠点がある。
を改変若しくは異物ｔ＃−会しｒ：４のを用いるためＶ
９コーンのインキＪＩｌ：脅箇の低いものしか得られな
いとい５欠点がある。
Ｘｉｌ明は上記従来法の欠点を克服し、オルガノボッシ
ミキチンからなるインキ反発性の非−纏ｓｔ−有し、イ
ンキ反発性の低下がない印ｍ’ｓ性のすぐれた乾式置網
り平版印１１Ｊ［を製造する方法に関Ｔる。
ミキチンからなるインキ反発性の非−纏ｓｔ−有し、イ
ンキ反発性の低下がない印ｍ’ｓ性のすぐれた乾式置網
り平版印１１Ｊ［を製造する方法に関Ｔる。
以下Ｘ！１’！１ｉｔ−＃ａｉｌＣ［Ｆｊｆ４゜本ｍ鳴
５二おいて用いる半版印ｍ履の基Ｗ１としてはステンレ
ス、７にミニクム等の金属材料、ボッエステルフィルム
、ボッイミドフィルム、ポツカーポ率−トフィルム、（
ルσ−ス１七テートフィルム等のプラスデックフィルム
又はシート、これらプラスデックフィルム又はｒ−ｔと
金属との複合体、ガラス繊−強化エポキＶフィルム等の
複合フィルム又は＆−）など、印崗履の１質としての機
械崎強度と平−性を備えてい番ものであればいずれのも
のでもｆＩＩ！層しうる。
５二おいて用いる半版印ｍ履の基Ｗ１としてはステンレ
ス、７にミニクム等の金属材料、ボッエステルフィルム
、ボッイミドフィルム、ポツカーポ率−トフィルム、（
ルσ−ス１七テートフィルム等のプラスデックフィルム
又はシート、これらプラスデックフィルム又はｒ−ｔと
金属との複合体、ガラス繊−強化エポキＶフィルム等の
複合フィルム又は＆−）など、印崗履の１質としての機
械崎強度と平−性を備えてい番ものであればいずれのも
のでもｆＩＩ！層しうる。
上記ａｊ＆［１ｊ二、ＩＩ １ ｍｇ：承Ｔ１５ ｇｌ
ｋｍｌｌ自とは鴬の反射率の輿なる凸状−纏ｓ２を設け
４ ｊ：、は１例えば１ルミニクム板やステンレス板畳
の党の反射性のすぐれたｊｋＪｋ上（：ＩＩ４えば感元
性樹ＪＩＩＬ−党重合−始剤、安ｆ＃Ｉ１％＊項剤、顔
料、艶消剤等を添加してなるものを使用し、公知のコー
ティング方法、鉤えば、グツビアコート。
ｋｍｌｌ自とは鴬の反射率の輿なる凸状−纏ｓ２を設け
４ ｊ：、は１例えば１ルミニクム板やステンレス板畳
の党の反射性のすぐれたｊｋＪｋ上（：ＩＩ４えば感元
性樹ＪＩＩＬ−党重合−始剤、安ｆ＃Ｉ１％＊項剤、顔
料、艶消剤等を添加してなるものを使用し、公知のコー
ティング方法、鉤えば、グツビアコート。
ａ−ルコート、スプレーコー）、ｆ４ツ’：１２−ト、
スビνナーコーか、かけ流し、キスコート等のコーティ
ング方法６二より塗布犀みとしてはＳ Ａｍ〜１００１
１ｒｔｓ、 好ＩＬ Ｌ（ａ １０ Ｊａｍ′１０１１
ｍであり、＊用土支障のない極度にＩＩＬ議させてなる
平版ａｔｍ＊材にパターン厘覚し、現像してなるものや
或いは、プラスデックフィルム、紙嶋の尤の反射性が低
い基板に金属層を貼り会わせたり、ａｍ、めっき等１二
より＾反射性の繻を設けてなるものを通常のレジストを
用いたエツテング等により非−８８部の金属を除去して
なるもの畳ｔ＃使用しりる。後者の例では両者の例とは
ｊ！１；剛線−の反射率の方が非−ａＳのに耐重より大
きい０本発明において用いる平Ｊ［＃４ＪＪｌ！ＩＪＩ
［としては以上のようなものをＩｊｌ崩するが、＾体卿
−二は鳩富のＰＢ版を使用して作成してなる平原ｌ刷版
やその他の＋ｍ印刷版ならびに凸厭が錬趨ＩＩ能である
。
スビνナーコーか、かけ流し、キスコート等のコーティ
ング方法６二より塗布犀みとしてはＳ Ａｍ〜１００１
１ｒｔｓ、 好ＩＬ Ｌ（ａ １０ Ｊａｍ′１０１１
ｍであり、＊用土支障のない極度にＩＩＬ議させてなる
平版ａｔｍ＊材にパターン厘覚し、現像してなるものや
或いは、プラスデックフィルム、紙嶋の尤の反射性が低
い基板に金属層を貼り会わせたり、ａｍ、めっき等１二
より＾反射性の繻を設けてなるものを通常のレジストを
用いたエツテング等により非−８８部の金属を除去して
なるもの畳ｔ＃使用しりる。後者の例では両者の例とは
ｊ！１；剛線−の反射率の方が非−ａＳのに耐重より大
きい０本発明において用いる平Ｊ［＃４ＪＪｌ！ＩＪＩ
［としては以上のようなものをＩｊｌ崩するが、＾体卿
−二は鳩富のＰＢ版を使用して作成してなる平原ｌ刷版
やその他の＋ｍ印刷版ならびに凸厭が錬趨ＩＩ能である
。
＆６６二上のようなＷ＠版に４１Ｍに対す４縮解性若し
くは膨潤性を有する光反応性樹脂からなる層を設ける。
くは膨潤性を有する光反応性樹脂からなる層を設ける。
溶剤に対する溶解性若しくは０ジアゾ化合物、アジド化
合物◆による光分解Ｏシンナモイル基、ｒアｌｊｌ＆、
アジド轟、アク９ｔｘイル基等に二よるｊｔ殖橋寵のも
の０アクリル１ｔド、アクリル鐙エステル、ステレジに
ｅエテルホルメエート又はｅエテルマレ−）ｔ−１１ま
たもの等の尤恵舎性そツマ−を不麹如ポリエステル、ポ
ラフレタン等に貞合したもの 等の樹ｉｍｃ、趨電、元重合開始Ｍ、安定燗◆を鎖線し
てなるＸＩＩ的には造明若しくは半道明のものｔ＃錬趨
し、１１１ｉ１１した半ｌＩＬ印刷版材を作威す４１１
に感覚性−一を基板に温布するのと崗纏な万績によりＩ
ｋ有し、職燥させる０光反応性樹脂としては舗紀の鍔の
ように厘尤−が硬化する尤鏝化性のものであっても、
ＩＩＪ！：錫が党分壊するものであってもよい、なお、
ここにおいて夷いるｊｔ＆Ｉｃ応性樹鮨からなる層はＩ
ｌ述する凸状崗纏部上に＃鋼により溶解若しくはｊＨＩ
Ｉｆる■脱層ｔ＃彫威するものであり、元反応性ｍａｒ
党硬化性であるときは厘尤鄭が光分層性であるときは末
篇元部が、ｍ像後にそのよ５な性質をｌｒＴるものをａ
ｍする。
合物◆による光分解Ｏシンナモイル基、ｒアｌｊｌ＆、
アジド轟、アク９ｔｘイル基等に二よるｊｔ殖橋寵のも
の０アクリル１ｔド、アクリル鐙エステル、ステレジに
ｅエテルホルメエート又はｅエテルマレ−）ｔ−１１ま
たもの等の尤恵舎性そツマ−を不麹如ポリエステル、ポ
ラフレタン等に貞合したもの 等の樹ｉｍｃ、趨電、元重合開始Ｍ、安定燗◆を鎖線し
てなるＸＩＩ的には造明若しくは半道明のものｔ＃錬趨
し、１１１ｉ１１した半ｌＩＬ印刷版材を作威す４１１
に感覚性−一を基板に温布するのと崗纏な万績によりＩ
ｋ有し、職燥させる０光反応性樹脂としては舗紀の鍔の
ように厘尤−が硬化する尤鏝化性のものであっても、
ＩＩＪ！：錫が党分壊するものであってもよい、なお、
ここにおいて夷いるｊｔ＆Ｉｃ応性樹鮨からなる層はＩ
ｌ述する凸状崗纏部上に＃鋼により溶解若しくはｊＨＩ
Ｉｆる■脱層ｔ＃彫威するものであり、元反応性ｍａｒ
党硬化性であるときは厘尤鄭が光分層性であるときは末
篇元部が、ｍ像後にそのよ５な性質をｌｒＴるものをａ
ｍする。
以上のようにして凸状幽１ｌｉＩＶｔもっ平原印―履上
にａｍに対す６＃跡性若しくは膨潤性を育ＴるｊＥ：に
応性Ｉ！１ｉ縮からなる層壜を設けた後１元反応性樹脂
からなる層の全一を露光し橿像Ｔる。
にａｍに対す６＃跡性若しくは膨潤性を育ＴるｊＥ：に
応性Ｉ！１ｉ縮からなる層壜を設けた後１元反応性樹脂
からなる層の全一を露光し橿像Ｔる。
Ｎ光層の元としてはＨ紀元反応性樹脂を眞応喜せる党で
あればいずれでもよいが、好ましくは趨＾圧水銀灯、＾
出水銀灯、ケミカルランプ。
あればいずれでもよいが、好ましくは趨＾圧水銀灯、＾
出水銀灯、ケミカルランプ。
メタルハクイドランプ、カーボンアーク、クセノンアー
クなどの光源による紫外線を用いるとよい。
クなどの光源による紫外線を用いるとよい。
以上のｊＩｊＩｔにより下地である蕪板表−と凸状剛線
−貴一の党の反射率の菱により、基板表−上及び凸状＊
ｍ顧表―上のｔ、楓応髄樹縮の楓応のｍ行度に曹達を生
じ、元硬化性樹鮨に島っては上記下地のうち光反射率が
より高い部分の上の樹脂がその他の部分の上の樹脂にく
らべてより一層硬化の度合が進行し、光分解性樹脂にあ
っては上記下地のうち光反射率がより高い部分の上の樹
脂がその他の部分の上の樹脂にくらべてより一層分解の
度合が進行するので、その後の一剤を用いた現像により
、溶解性の差違を生じるため、第２−囚に示すごと（基
板表面に凸状■線部上に光反応性樹脂からなる層が選択
的にツＶａキチｙからなる層４を形成する。ここで用い
るオルガノポリＶロキナンとしては、１１！奄後常温も
しくは加＠により架橋硬化してＶツコ＝ンゴ＾弾性体と
なるもので、けい素原子に納会する全有機基の９０モル
畳以上がメチル基で皐る高璽舎置オルガノポリｖｒｘキ
ナＶ（これはインキ反侮性にすぐれている）を主体とし
てなるものがよ（、こｔＬ（：は（１）分子鎖末端が水
酸基で封鎖された有機基の９０モル参以上がメチル基で
ある高重合度ジオルガノポリＶワキチン。
−貴一の党の反射率の菱により、基板表−上及び凸状＊
ｍ顧表―上のｔ、楓応髄樹縮の楓応のｍ行度に曹達を生
じ、元硬化性樹鮨に島っては上記下地のうち光反射率が
より高い部分の上の樹脂がその他の部分の上の樹脂にく
らべてより一層硬化の度合が進行し、光分解性樹脂にあ
っては上記下地のうち光反射率がより高い部分の上の樹
脂がその他の部分の上の樹脂にくらべてより一層分解の
度合が進行するので、その後の一剤を用いた現像により
、溶解性の差違を生じるため、第２−囚に示すごと（基
板表面に凸状■線部上に光反応性樹脂からなる層が選択
的にツＶａキチｙからなる層４を形成する。ここで用い
るオルガノポリＶロキナンとしては、１１！奄後常温も
しくは加＠により架橋硬化してＶツコ＝ンゴ＾弾性体と
なるもので、けい素原子に納会する全有機基の９０モル
畳以上がメチル基で皐る高璽舎置オルガノポリｖｒｘキ
ナＶ（これはインキ反侮性にすぐれている）を主体とし
てなるものがよ（、こｔＬ（：は（１）分子鎖末端が水
酸基で封鎖された有機基の９０モル参以上がメチル基で
ある高重合度ジオルガノポリＶワキチン。
架橋剤としてメチルへイドロジエンポツＶロキサンまた
はエテルポリシリケート、および繍舎触媒として有機酸
金属塩からなるもの、（！：ビニル基含有高重合度ジオ
ルガノポ９Ｖロキナン（ビニル基以外の有機基の９０モ
ル参以上がメｆｋｌｌｓ＞、架橋剤としてのメチルへイ
ドａジエンボッＶロキチン、および付加反応触媒として
の白金系触媒からなるもの、（Ｓ）分子鎖両末端が水酸
基で封鎖された有機基の９０モＡ／−以上がメチル基で
ある高重合度ジオルガノポ５ＶＵキチン、および架橋剤
として１分子中６；５個以上のアセトキレ基、アミノ基
、オキリム基またはプロペツキＶ基等の加水分解性基を
有するＶランまたは低重合度Ｖロキチン化舎物からなる
ものが例示される。本脅明においては上記（１）または
（！）に例示した種類のものが特に好適とされる。
はエテルポリシリケート、および繍舎触媒として有機酸
金属塩からなるもの、（！：ビニル基含有高重合度ジオ
ルガノポ９Ｖロキナン（ビニル基以外の有機基の９０モ
ル参以上がメｆｋｌｌｓ＞、架橋剤としてのメチルへイ
ドａジエンボッＶロキチン、および付加反応触媒として
の白金系触媒からなるもの、（Ｓ）分子鎖両末端が水酸
基で封鎖された有機基の９０モＡ／−以上がメチル基で
ある高重合度ジオルガノポ５ＶＵキチン、および架橋剤
として１分子中６；５個以上のアセトキレ基、アミノ基
、オキリム基またはプロペツキＶ基等の加水分解性基を
有するＶランまたは低重合度Ｖロキチン化舎物からなる
ものが例示される。本脅明においては上記（１）または
（！）に例示した種類のものが特に好適とされる。
上記のオルガノポリＶロキチｙｖＩＩＩ！ｉ有する方法
として前記した光反応性＃ＩＮからなる層を験−するの
と同様な方法により行なえる。又、上記のオルガノポリ
シロキチンの硬化は常温にて放置又はオゾン中で加熱す
れば行なえる＝なお、オルガノポリシロキチンと非−線
部基板の密着性が不良の場合にはシランカップリング剤
、有機チタネート等の架橋剤を予め処理しておくことに
より改良しうる。
として前記した光反応性＃ＩＮからなる層を験−するの
と同様な方法により行なえる。又、上記のオルガノポリ
シロキチンの硬化は常温にて放置又はオゾン中で加熱す
れば行なえる＝なお、オルガノポリシロキチンと非−線
部基板の密着性が不良の場合にはシランカップリング剤
、有機チタネート等の架橋剤を予め処理しておくことに
より改良しうる。
次１：上記のオルガノポリシロキチンを瞼布、硬化させ
た中間体感二廖剤を作用させて現像を行なって離脱性層
Ｖ溶解若しくは膨潤させた後、表面を暢（研摩して離脱
性層を離脱させると同時に離脱性層上のオルガノポリシ
ロキチンからなる層を除去し、第４−に示すような印刷
版を得る。第４図中５は非−線部のオルガノポリシロキ
チン層を示す。研摩はやわらかいブラリ。
た中間体感二廖剤を作用させて現像を行なって離脱性層
Ｖ溶解若しくは膨潤させた後、表面を暢（研摩して離脱
性層を離脱させると同時に離脱性層上のオルガノポリシ
ロキチンからなる層を除去し、第４−に示すような印刷
版を得る。第４図中５は非−線部のオルガノポリシロキ
チン層を示す。研摩はやわらかいブラリ。
奄、紙のようなもので摩擦するか、或いはそれ上記の現
像に用いる溶剤は樹脂ごと６二適宜に選択したＩＩＪＩ
Ｉが使用できるが、現像は溶剤中５＝浸漬するか若しく
は瞼布によって前記したオル１１）１９Ｖロキナンから
なる層を通して行なうので、現像に用いる溶剤はオルガ
ノポリシロキチンからなる層を透過するものでなければ
なら鮮 ず、かつ、オルガツボ９Ｖロキチンを１ｌｌｌ＠Ｌない
ものでなければならない。かかる条件に合う溶剤として
は、アルコール類、ケトン類、エステル類、芳誉族類、
へロゲン化物類等の各種−版が得られる。
像に用いる溶剤は樹脂ごと６二適宜に選択したＩＩＪＩ
Ｉが使用できるが、現像は溶剤中５＝浸漬するか若しく
は瞼布によって前記したオル１１）１９Ｖロキナンから
なる層を通して行なうので、現像に用いる溶剤はオルガ
ノポリシロキチンからなる層を透過するものでなければ
なら鮮 ず、かつ、オルガツボ９Ｖロキチンを１ｌｌｌ＠Ｌない
ものでなければならない。かかる条件に合う溶剤として
は、アルコール類、ケトン類、エステル類、芳誉族類、
へロゲン化物類等の各種−版が得られる。
本発明は以上のような構成を有するものであるから、乾
式ダイリソに使用する際に版の損傷が少なく、印刷効果
のすぐれた印刷版を手帳に製造でき、非画繍部にはイン
キ反発性のすぐれたオルガノポリシロキチンを、それ自
身の改変なしに使用しうるものであるから、感光性Ｖ９
プーンやＶ５コーン感光性物質の混合物を用いる場合の
ようにインキ反発性が低下することもなく、又、いずれ
の工程も公知の方法、材料を使用して行なえるものであ
るから工業的（：行なにダイリソ用の印刷版に変更でき
るものである。
式ダイリソに使用する際に版の損傷が少なく、印刷効果
のすぐれた印刷版を手帳に製造でき、非画繍部にはイン
キ反発性のすぐれたオルガノポリシロキチンを、それ自
身の改変なしに使用しうるものであるから、感光性Ｖ９
プーンやＶ５コーン感光性物質の混合物を用いる場合の
ようにインキ反発性が低下することもなく、又、いずれ
の工程も公知の方法、材料を使用して行なえるものであ
るから工業的（：行なにダイリソ用の印刷版に変更でき
るものである。
以下本発明を実施例により更に具体的に説明する。
実施例
砂目立て及び脱脂された表面状１が調整されたアルミニ
クム基材褒函に活版用感光性樹脂嬉ｔＩＩＬ（ＪＩＩ化
威Ｓ＊、ムＰＲ使用）を脱酸素状態で鎗布した後、★パ
ーフィルムを介して写真のポジを密着させて紫外線によ
り露光し、Ｍ＊ＯＨ水溶波を用いて現像し厚み１５０趨
の凸状画線部を形成した０次にポリ型レジスト＜Ｖプレ
ー社製、ムＸ−１１１）を更に重ねて厚みが約Ｓｓｗ＋
になるよう瞼布し、１００℃の雰囲気で１０分間、乾燥
しつつ硬化せしめた。
クム基材褒函に活版用感光性樹脂嬉ｔＩＩＬ（ＪＩＩ化
威Ｓ＊、ムＰＲ使用）を脱酸素状態で鎗布した後、★パ
ーフィルムを介して写真のポジを密着させて紫外線によ
り露光し、Ｍ＊ＯＨ水溶波を用いて現像し厚み１５０趨
の凸状画線部を形成した０次にポリ型レジスト＜Ｖプレ
ー社製、ムＸ−１１１）を更に重ねて厚みが約Ｓｓｗ＋
になるよう瞼布し、１００℃の雰囲気で１０分間、乾燥
しつつ硬化せしめた。
１０秒間行なったあと現像液（Ｖブレー社製、ムＸ−！
ｉ０！ムの１０脩水希釈液）を用いて現像し前記のしｅ
スｔの非画線部上の未硬化部を濤解除去した後、水洗し
乾燥し、凸状−線部上に離脱性層を形成した。
ｉ０！ムの１０脩水希釈液）を用いて現像し前記のしｅ
スｔの非画線部上の未硬化部を濤解除去した後、水洗し
乾燥し、凸状−線部上に離脱性層を形成した。
次にシランカップリング剤（信越化学工業社製ｘｙａＭ
４０６’）の５−エチルシクロへキチン溶液を版全体に
ディッピングコートして１００℃のオゾン中で１０分乾
燥、硬化させた。
４０６’）の５−エチルシクロへキチン溶液を版全体に
ディッピングコートして１００℃のオゾン中で１０分乾
燥、硬化させた。
次に全面に熱硬化型オルガノポリシロキチン（信越化学
工業■製、ｘａ７７４ ）と白金系触媒（信越化学工業
■製、ＰＬ−５）とを原液で２００：１の割合に混合し
乾燥後の厚みが５０＃朧になるように働布、乾燥、硬化
した。
工業■製、ｘａ７７４ ）と白金系触媒（信越化学工業
■製、ＰＬ−５）とを原液で２００：１の割合に混合し
乾燥後の厚みが５０＃朧になるように働布、乾燥、硬化
した。
最後にメチルエチルケトンを用いて版画金体を湿潤し、
離脱性層を膨満させた後表函全体を柔かい紙で摩擦する
ことにより離脱性層と離脱性層上のオルガツボ９Ｖロキ
チン層を除去しダイリソ用印刷版を得、このダイリソ用
印刷版を用いて乾式ダイリソによる印刷を行なったとこ
ろ、文字や写真が鮮明に印刷でき、しかも版画の損傷も
殆んどなかった。
離脱性層を膨満させた後表函全体を柔かい紙で摩擦する
ことにより離脱性層と離脱性層上のオルガツボ９Ｖロキ
チン層を除去しダイリソ用印刷版を得、このダイリソ用
印刷版を用いて乾式ダイリソによる印刷を行なったとこ
ろ、文字や写真が鮮明に印刷でき、しかも版画の損傷も
殆んどなかった。
【図面の簡単な説明】
Ｉ１１閣ないし第４図は本発明の製造法の各工程におけ
る構成を示す図である。 １・・・・・・・・・・一基板 ２・・・・・・・・・・・・画線部 ３・・・・・・・・・・・・離脱性層 ４・・・・旧・・・・・オルガノポリシロキチンからな
る層５・・・・・・・・・・・・非画線部 特許出願人 大日本印刷株式金社 才１図 才 ２ 図 牙８図 牙４図
る構成を示す図である。 １・・・・・・・・・・一基板 ２・・・・・・・・・・・・画線部 ３・・・・・・・・・・・・離脱性層 ４・・・・旧・・・・・オルガノポリシロキチンからな
る層５・・・・・・・・・・・・非画線部 特許出願人 大日本印刷株式金社 才１図 才 ２ 図 牙８図 牙４図
Claims (1)
- ｊ＆板表幽ｒ−基板表−とは党の反射率の異なる＾状劇
纏５ｌｉｔ−設けてなる平版印刷層に、溶剤区二対する
＃Ｉｌ性若しくは廖＃Ｉ性を有する、元反応慣樹脂から
なる層を設け、次いで元反応性樹脂からなる盾金−を篇
尤したｔａｍＶｔ行なって繭紀凸状剛纏−上ｔ：、ｗｔ
ｔｓｔ＝対する溶解性若しくは廖＃ｔＥを有するｌｌｌ
Ｉｍ性層七彫威し、その後、金−Ｃニオルガノポリνロ
キチンからなる鵬を彫威し、しかる後、繭記＃１１１ｍ
！１層を廖調若しくは溶解する＃剤により現像を行なっ
て繭記ｍｍｓ層を−ｍさせる−と開時に＃１１１ＩＩ！
性暑上のオルガツボｙｖａキｔνかうなる層を除去する
ことを特徴とする乾式Ｉ［ＩＩＩり半Ｊｉ［印刷層の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11795981A JPS5818634A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 乾式直刷り平版印刷版の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11795981A JPS5818634A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 乾式直刷り平版印刷版の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5818634A true JPS5818634A (ja) | 1983-02-03 |
Family
ID=14724479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11795981A Pending JPS5818634A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 乾式直刷り平版印刷版の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5818634A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996020433A1 (en) * | 1994-12-23 | 1996-07-04 | Horsell Plc | Production of water-less lithographic plates |
| JP2008287176A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Jsr Corp | パターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法 |
-
1981
- 1981-07-28 JP JP11795981A patent/JPS5818634A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996020433A1 (en) * | 1994-12-23 | 1996-07-04 | Horsell Plc | Production of water-less lithographic plates |
| US6087073A (en) * | 1994-12-23 | 2000-07-11 | Kodak Polychrome Graphics L.L.C. | Production of water-less lithographic plates |
| JP2008287176A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Jsr Corp | パターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法 |
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