JPS58180479A - 芳香族ビス(エ−テル酸無水物)の製造方法 - Google Patents
芳香族ビス(エ−テル酸無水物)の製造方法Info
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- JPS58180479A JPS58180479A JP58031901A JP3190183A JPS58180479A JP S58180479 A JPS58180479 A JP S58180479A JP 58031901 A JP58031901 A JP 58031901A JP 3190183 A JP3190183 A JP 3190183A JP S58180479 A JPS58180479 A JP S58180479A
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- C07C51/54—Preparation of carboxylic acid anhydrides
- C07C51/567—Preparation of carboxylic acid anhydrides by reactions not involving carboxylic acid anhydride groups
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- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
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- C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
- C07D307/89—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans with two oxygen atoms directly attached in positions 1 and 3
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルカリ金属ジフェノキシドとハロゲン又は二
1〜ロ基1u換芳香族酸無水物とを接触さμることによ
る芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法に関する
。
1〜ロ基1u換芳香族酸無水物とを接触さμることによ
る芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法に関する
。
本願と同時出願に係り本願の譲受人に対して出願権を譲
渡されたダーレルヒース([) arrel 1l−4
eath>および1〜−ルタケコシ(T ohru
T ake−koslli )による特許出願明細書中
に示され−Cいるように、芳香族ビス(]−−チル酸無
水物)はN−置換芳香族ビス(エーテルフタルイミド)
からビスイミドの対応するテトう酸塩への転化、この塩
のテ1〜う酸への酸性化およびテトラ酸の酸二無水物へ
の脱水を含む段階的な方法によつで製造づることができ
る。この段195的な方法によれば高収率族ビス(エー
テル酸無水物)が得られる。 この高収率が得ら扛るの
は、N−置換二トロフタルイミドに対して著しい程度の
開環を生じさせずにアルカリジフェノキシドを直接的に
用いることができるためである。
渡されたダーレルヒース([) arrel 1l−4
eath>および1〜−ルタケコシ(T ohru
T ake−koslli )による特許出願明細書中
に示され−Cいるように、芳香族ビス(]−−チル酸無
水物)はN−置換芳香族ビス(エーテルフタルイミド)
からビスイミドの対応するテトう酸塩への転化、この塩
のテ1〜う酸への酸性化およびテトラ酸の酸二無水物へ
の脱水を含む段階的な方法によつで製造づることができ
る。この段195的な方法によれば高収率族ビス(エー
テル酸無水物)が得られる。 この高収率が得ら扛るの
は、N−置換二トロフタルイミドに対して著しい程度の
開環を生じさせずにアルカリジフェノキシドを直接的に
用いることができるためである。
本発明は特定のジフェノキシドにより置換可能な官能基
を有する芳香族酸無水物、たとえばハロゲン置換無水フ
タル酸および無水二トロナフタル酸等に対してジフェノ
キシド類を直接的に接触させてすぐれた芳香族ビス(エ
ーテル酸無水物)の収率を得ることもできるという発見
に基いてなされたものである。 さらに詳細に述べれば
、芳香族ビス(エーテル酸無水物)をつくるための本発
明の実施に際しては、次式の無水ハロゲン置換フタル酸
: 1 および次式の無水ナフタル酸: Y O を用いることができる(式中、Xは)・ン素、塩素、臭
素および沃素の基からなる群より選ばれたI\ロゲンの
基であり、そしてYけニトロ基およびXで示す基からな
る群より選ばれた基である)。 芳香族ビス(エーテル
酸無水物)の収率が比較的低くても差し支えのないとき
には、Xがニトロ基であってもよいことが発見された。
を有する芳香族酸無水物、たとえばハロゲン置換無水フ
タル酸および無水二トロナフタル酸等に対してジフェノ
キシド類を直接的に接触させてすぐれた芳香族ビス(エ
ーテル酸無水物)の収率を得ることもできるという発見
に基いてなされたものである。 さらに詳細に述べれば
、芳香族ビス(エーテル酸無水物)をつくるための本発
明の実施に際しては、次式の無水ハロゲン置換フタル酸
: 1 および次式の無水ナフタル酸: Y O を用いることができる(式中、Xは)・ン素、塩素、臭
素および沃素の基からなる群より選ばれたI\ロゲンの
基であり、そしてYけニトロ基およびXで示す基からな
る群より選ばれた基である)。 芳香族ビス(エーテル
酸無水物)の収率が比較的低くても差し支えのないとき
には、Xがニトロ基であってもよいことが発見された。
本発明によれば、芳香族ビス(エーテル酸無水物)をつ
くるための方法が提供され、この方法は(1)有機溶媒
の存在下において次式のアルカリジフェノキシド: M−0−R−0−M (III)ヒー(3
) および前記式(1)および\(旧からなる群より選ばれ
た有機酸無水物とを反応させ、そして(2)l記の(1
)から芳香族ビス(エーテル酸無水物)を回収すること
を含み、上記式中のMけナトリウム、カリウム、リチウ
ム等からなる群より選ばれたアルカリ金属のイオン、R
は4〜30個の炭素原子を有する。2価の芳香族有機基
であり、そしてXおよびYは前記の定義の通りである。
くるための方法が提供され、この方法は(1)有機溶媒
の存在下において次式のアルカリジフェノキシド: M−0−R−0−M (III)ヒー(3
) および前記式(1)および\(旧からなる群より選ばれ
た有機酸無水物とを反応させ、そして(2)l記の(1
)から芳香族ビス(エーテル酸無水物)を回収すること
を含み、上記式中のMけナトリウム、カリウム、リチウ
ム等からなる群より選ばれたアルカリ金属のイオン、R
は4〜30個の炭素原子を有する。2価の芳香族有機基
であり、そしてXおよびYは前記の定義の通りである。
RvCよって含捷れるものとしては、(a)以下の2価
の有機基からなる群より選ばれた芳香族有機C1−13
CH3 ヒー(4) ならびに(b)次の一般で示される2価の有機基:1 −0−1および−S−の2価の基からなる群より選ばれ
た成分であってmidθ又け/であり、そしてyは/な
いしょの整数である)が含1f1.る。
の有機基からなる群より選ばれた芳香族有機C1−13
CH3 ヒー(4) ならびに(b)次の一般で示される2価の有機基:1 −0−1および−S−の2価の基からなる群より選ばれ
た成分であってmidθ又け/であり、そしてyは/な
いしょの整数である)が含1f1.る。
好−+1=<に、式(1)のX−置換無水フタル酸とし
では、無水3−フルオロフタル酸、および無水グーフル
オロフタル酸がある。 式(1)の無水フタル酸として
は又無水3−クロロフタル酸、無水≠−クロロフタル酸
等がある。 式(旧の無水ナフタル酸と12では式中の
Yが2父は≠位置を取ることのできるたとえば無水l−
ニトロナフタル酸、無水≠−ニトロナフタル酸、無水ノ
ークロロナフタル酸、無水≠−クロロナフタル酸等が含
捷れる。
では、無水3−フルオロフタル酸、および無水グーフル
オロフタル酸がある。 式(1)の無水フタル酸として
は又無水3−クロロフタル酸、無水≠−クロロフタル酸
等がある。 式(旧の無水ナフタル酸と12では式中の
Yが2父は≠位置を取ることのできるたとえば無水l−
ニトロナフタル酸、無水≠−ニトロナフタル酸、無水ノ
ークロロナフタル酸、無水≠−クロロナフタル酸等が含
捷れる。
本発明の方法によって与えられる芳香族ビス(エーテル
酸無水物)としては次式を有する化合物が含捷れる: O 11j 0 上記式中、R1は ヒー(力 H3 であって、Qlは一〇−1−S−1−〇−および0
CH31 −8−から選ばれる。
酸無水物)としては次式を有する化合物が含捷れる: O 11j 0 上記式中、R1は ヒー(力 H3 であって、Qlは一〇−1−S−1−〇−および0
CH31 −8−から選ばれる。
1
式(V)に含まれる酸二無水物としてはたとえげ、
2.2−ビス〔≠−(2,3−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル〕プロパン酸二無水物、 ≠、≠′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル酸二無水物、 /、3−ビス(,2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベ
ンゼン酸二無水物、 ≠、≠′−ビス(コ、3−ジカルホキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド酸二無水物、 /、≠−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼン酸二無水物、 ≠、IA’−ビス(,2,3−ジカルボキシフェノキシ
)ジフェニルスルホン酸二無水物等がある。
)フェニル〕プロパン酸二無水物、 ≠、≠′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル酸二無水物、 /、3−ビス(,2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベ
ンゼン酸二無水物、 ≠、≠′−ビス(コ、3−ジカルホキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド酸二無水物、 /、≠−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼン酸二無水物、 ≠、IA’−ビス(,2,3−ジカルボキシフェノキシ
)ジフェニルスルホン酸二無水物等がある。
式(Vl)および(■)に含まれる酸二無水物としヒー
(8) では、たとえば、 コ、2−ビス〔≠−<3.41− ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン酸二無水物、 ≠、t′−ビス(3,II−ジカルボキシフェノキシ)
ジフェニルエーテル酸二無水物、 ≠、41’−ビス(3,1lt−ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド酸二無水物、 /、3−ビス(3,クージカルボキシフェノキシ)ベン
セン酸二無水物、 /、4t−ビス(3,41−ジカルボキシフェノキシ)
ベンゼン酸二無水物、 g、11L’−ビス(3,弘−ジカルボキシフェノキシ
)ジフェニルスルホン酸二無水物、 ≠−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−≠′(3、
クージカルボキシフェノキシ)−1,,2−ジフェニル
プロパン酸二無水物等がある。
(8) では、たとえば、 コ、2−ビス〔≠−<3.41− ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン酸二無水物、 ≠、t′−ビス(3,II−ジカルボキシフェノキシ)
ジフェニルエーテル酸二無水物、 ≠、41’−ビス(3,1lt−ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド酸二無水物、 /、3−ビス(3,クージカルボキシフェノキシ)ベン
セン酸二無水物、 /、4t−ビス(3,41−ジカルボキシフェノキシ)
ベンゼン酸二無水物、 g、11L’−ビス(3,弘−ジカルボキシフェノキシ
)ジフェニルスルホン酸二無水物、 ≠−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−≠′(3、
クージカルボキシフェノキシ)−1,,2−ジフェニル
プロパン酸二無水物等がある。
上記の無水フタル酸の他に次のような式(■)の無水ナ
フタル酸も含捷れる。
フタル酸も含捷れる。
22.2−ビスC11−<IIJ−ジカルボキシナフト
キシ)フェニル〕プロパン酸二無水物、 !1.2−ビスC’1−(2,3−ジカルボキシナフト
キシ)フェニル〕プロパン酸二無水物、 ≠、4L′−ビス(≠、j−ジカルボキシナフトキシ)
ジフェニルエーテル酸二無水物、 /、3−ビス(≠、j−ジカルボキシナフトキシ)ベン
ゼン酸二無水物、 /、3−ビス(,2,3−ジカルボキシナフトキシ)ベ
ンゼン酸二無水物、 g、+’−ビス(I/L、t−ジカルボキシナフトキシ
)ジフェニルスルフィト酸二無水物、 グ、≠′−ビス(+、、1−ジカルボキシナフトキシ)
ジフェニルスルホン酸二無水物、 ≠−(l、3−ジカルボキシナフトキシ)−≠′(≠9
.5′−ジカルホキシフェノキシi、29.2−ジフェ
ニルプロパン酸二無水物。
キシ)フェニル〕プロパン酸二無水物、 !1.2−ビスC’1−(2,3−ジカルボキシナフト
キシ)フェニル〕プロパン酸二無水物、 ≠、4L′−ビス(≠、j−ジカルボキシナフトキシ)
ジフェニルエーテル酸二無水物、 /、3−ビス(≠、j−ジカルボキシナフトキシ)ベン
ゼン酸二無水物、 /、3−ビス(,2,3−ジカルボキシナフトキシ)ベ
ンゼン酸二無水物、 g、+’−ビス(I/L、t−ジカルボキシナフトキシ
)ジフェニルスルフィト酸二無水物、 グ、≠′−ビス(+、、1−ジカルボキシナフトキシ)
ジフェニルスルホン酸二無水物、 ≠−(l、3−ジカルボキシナフトキシ)−≠′(≠9
.5′−ジカルホキシフェノキシi、29.2−ジフェ
ニルプロパン酸二無水物。
上記式(1)のジフェノキシドのアルカリ金属塩として
は、以下の2価フェノール類のナトリウムおよびカリウ
ム塩が@捷れる。
は、以下の2価フェノール類のナトリウムおよびカリウ
ム塩が@捷れる。
、:z、z −ヒス(2−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2+≠′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス−
(、l!−ヒドロキシフェニル)メタン、以下「ビスフ
ェノールA」父けrBPAJとして記載される ノ、ノービス<1i−−ヒドロキシフェニル)プロパン
、/、/−ビス(41−ヒドロキシフェニル)エタン、
/、/ −ヒス(≠−ヒドロキシフェニル)プロパン、
ノウ2−ビス(≠−已ドロキシフェニル)ペンタン、3
.3−ビス(4L−ヒドロキシフェニル)ペンタン、t
、j′−ジヒドロキシビフェニル、 ≠、≠′−ジヒドロキシー3.3’、、!;、3’−テ
トラメチルビフェニル、 ノ、7′−ジヒドロキシベンゾフェノン、1、t、t′
−ジヒドロキシベンゾフェノン、グ、≠′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン、ノ、≠′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、≠、t′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホキシド、≠、≠′−ジヒドロキシジフェニルスルフィ
ド等。
ン、2+≠′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス−
(、l!−ヒドロキシフェニル)メタン、以下「ビスフ
ェノールA」父けrBPAJとして記載される ノ、ノービス<1i−−ヒドロキシフェニル)プロパン
、/、/−ビス(41−ヒドロキシフェニル)エタン、
/、/ −ヒス(≠−ヒドロキシフェニル)プロパン、
ノウ2−ビス(≠−已ドロキシフェニル)ペンタン、3
.3−ビス(4L−ヒドロキシフェニル)ペンタン、t
、j′−ジヒドロキシビフェニル、 ≠、≠′−ジヒドロキシー3.3’、、!;、3’−テ
トラメチルビフェニル、 ノ、7′−ジヒドロキシベンゾフェノン、1、t、t′
−ジヒドロキシベンゾフェノン、グ、≠′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン、ノ、≠′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、≠、t′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホキシド、≠、≠′−ジヒドロキシジフェニルスルフィ
ド等。
上記の「A群」の2価フェノール類の他にも、本発明に
おいては次のような「B群」の2価フェノール類のアル
カリ金属塩を用いて芳香族ビス(ヒーαυ エーテル酸無水物)をつ(ることかできる。 ハイドロ
キノン、レゾルシシ、3.IA’−ジヒドロキシジフェ
ニルメタン、および≠、4L′−ジヒドロキシベンゾフ
ェノンおよび≠、≠′−ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル等。
おいては次のような「B群」の2価フェノール類のアル
カリ金属塩を用いて芳香族ビス(ヒーαυ エーテル酸無水物)をつ(ることかできる。 ハイドロ
キノン、レゾルシシ、3.IA’−ジヒドロキシジフェ
ニルメタン、および≠、4L′−ジヒドロキシベンゾフ
ェノンおよび≠、≠′−ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル等。
式(III)のアルカリ金属ジフェノキシドは予め形成
して用いてもよく又はその場で生成させることもできる
。 予め形成するには水酸化アルカリ1.21[[1i
フエノールおよび炭化水素溶媒からなる水性混合物から
水を共沸的に蒸留してこの予備生成物がほとんど無水状
態となるようにしてつくることが好捷しい。 2価フェ
ノール/当fvC付いて水酸化アルカリを化字醍論的V
C2自量用いる。
して用いてもよく又はその場で生成させることもできる
。 予め形成するには水酸化アルカリ1.21[[1i
フエノールおよび炭化水素溶媒からなる水性混合物から
水を共沸的に蒸留してこの予備生成物がほとんど無水状
態となるようにしてつくることが好捷しい。 2価フェ
ノール/当fvC付いて水酸化アルカリを化字醍論的V
C2自量用いる。
本発明の実施に当っては、以下式(I)又は(旧の有機
酸無水物およびアルカリジフェノキシドをそれソ意味す
る「芳香族酸無水物」とアルカリジフェノキシドとを反
応させることによって芳香族ビス(エーテル酸無水物)
をつくることができる。
酸無水物およびアルカリジフェノキシドをそれソ意味す
る「芳香族酸無水物」とアルカリジフェノキシドとを反
応させることによって芳香族ビス(エーテル酸無水物)
をつくることができる。
約2モルの芳香族酸二無水物をアルカリジフェノキシド
の7モル当りに付いて用いられることヒー(12 が判明した。
の7モル当りに付いて用いられることヒー(12 が判明した。
ジフェノキシドと芳香族酸無水物との間の反応は、チッ
素等のような不活性雰囲気中においてほとんど無水状態
で行なうことが好捷しい。 芳芳香族ビス(エーテル酸
無水物)の形成を容易にするために用いることのできる
適当な有機溶媒は、中性の双極性有機溶媒であって、た
とえばジメチルホルムアミド、スルホラン、ジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサ−メチルリ
ン酸トリアミド等が含捷れる。 使用できる温度はたと
えば23℃ないし770℃、好1しくは100℃ないし
750℃である。
素等のような不活性雰囲気中においてほとんど無水状態
で行なうことが好捷しい。 芳芳香族ビス(エーテル酸
無水物)の形成を容易にするために用いることのできる
適当な有機溶媒は、中性の双極性有機溶媒であって、た
とえばジメチルホルムアミド、スルホラン、ジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサ−メチルリ
ン酸トリアミド等が含捷れる。 使用できる温度はたと
えば23℃ないし770℃、好1しくは100℃ないし
750℃である。
反応時間は反応の行々われる温度、攪拌の程度、等によ
って5分間又はそれ以下から7乙時間又はそれ以−にに
オで変えられる。 生成物の収率を最大にするためには
、場合によってはたとえば還流条件を与えることが好オ
しいことが判明した。
って5分間又はそれ以下から7乙時間又はそれ以−にに
オで変えられる。 生成物の収率を最大にするためには
、場合によってはたとえば還流条件を与えることが好オ
しいことが判明した。
反応生成物の回収は反応の完結時に反応生成混合物を塩
化水素酸および氷等のような希釈鉱酸中に注入すること
によって行なわれる。 これによって生じた沈澱物を濾
過等によって回収することができる。
化水素酸および氷等のような希釈鉱酸中に注入すること
によって行なわれる。 これによって生じた沈澱物を濾
過等によって回収することができる。
本発明の方法によって生成された芳香族酸二無水物は有
機ジアミン類との反応によってポリイミド等のようなポ
リマーをつくるだめの中間体として用いることができる
。 加えて、この酸二無水物はエポキシ樹脂のだめの硬
化剤およびポリエステル樹脂をつくるための中間体とし
ても用いることができる。
機ジアミン類との反応によってポリイミド等のようなポ
リマーをつくるだめの中間体として用いることができる
。 加えて、この酸二無水物はエポキシ樹脂のだめの硬
化剤およびポリエステル樹脂をつくるための中間体とし
ても用いることができる。
洒該技術分暗における通常の知識を有する者によって本
発明が容易に実施できるよう、以下にその実施例を示す
が、これらは説明のために記載したものであって本発明
を限定するものではない。
発明が容易に実施できるよう、以下にその実施例を示す
が、これらは説明のために記載したものであって本発明
を限定するものではない。
全べての部は重量部である。
例/
水酸化ナトリウムのjO係氷水溶液07部およびビスフ
ェノールA1部からなる混合物からビスフェノールAの
二ナトリウム塩を調製した。 この塩は反応混合物から
ベンゼンを用いて水を共沸的に除去することによってつ
くらt′した。
ェノールA1部からなる混合物からビスフェノールAの
二ナトリウム塩を調製した。 この塩は反応混合物から
ベンゼンを用いて水を共沸的に除去することによってつ
くらt′した。
上記の塩、J、7部の無水≠−ニトロナフタル酸および
約75部の無水のジメチルホルムアミドからなる混合物
をチッ素雰囲気下で7時間、室温で攪拌[7た。 全体
の反応生成混合物を水中に注入して生成した沈澱物を収
集して乾燥させ/、乙部の茶褐色の粉末を得た(収率乙
0%)。 酢酸から再結晶させてm、p、、25ど〜2
jり℃の試料が得らnた。 製造方法および赤外線およ
びNMRスペクトル分析f基いて、この生成物はノ、ノ
ービス〔グー(+、1−ジカルボキシナフトキシ)フェ
ニル〕プロパン酸二無水物であった。
約75部の無水のジメチルホルムアミドからなる混合物
をチッ素雰囲気下で7時間、室温で攪拌[7た。 全体
の反応生成混合物を水中に注入して生成した沈澱物を収
集して乾燥させ/、乙部の茶褐色の粉末を得た(収率乙
0%)。 酢酸から再結晶させてm、p、、25ど〜2
jり℃の試料が得らnた。 製造方法および赤外線およ
びNMRスペクトル分析f基いて、この生成物はノ、ノ
ービス〔グー(+、1−ジカルボキシナフトキシ)フェ
ニル〕プロパン酸二無水物であった。
例J
ビスフェノールAのニナトリウム塩θ、≠ム4t (0
,00/7モル)、無水3−フルオロフタル酸0、!;
7f1 ? (0−0033モL ) b ヨヒm水(
7)ジメチルホルムアミド//−からなる混合物をチッ
素雰囲気中において3時間、約/70℃の温度で攪拌]
また。 次いで混合物を室温迄冷却した。 この混合物
を7舅−〇/、2N塩化水素塩/氷の混合物に対1〜で
加えた。 白色の生成物が得られこれを濾過によって収
集した。 この生成物を7.2Nの塩化水素酸で洗浄し
乾燥して収率り7%として0.1077 fの粗生成物
質を傅た。 次いでこnを酢酸/無水酢酸の混合物から
再結晶させたところ融点/、5’/ 、 5〜/13℃
の物質が得られた。 製造方法および赤外線分析の結
果からこの生成物はl、2−ビス〔≠−(2,3−ジカ
ルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン酸二無水物で
あった。
,00/7モル)、無水3−フルオロフタル酸0、!;
7f1 ? (0−0033モL ) b ヨヒm水(
7)ジメチルホルムアミド//−からなる混合物をチッ
素雰囲気中において3時間、約/70℃の温度で攪拌]
また。 次いで混合物を室温迄冷却した。 この混合物
を7舅−〇/、2N塩化水素塩/氷の混合物に対1〜で
加えた。 白色の生成物が得られこれを濾過によって収
集した。 この生成物を7.2Nの塩化水素酸で洗浄し
乾燥して収率り7%として0.1077 fの粗生成物
質を傅た。 次いでこnを酢酸/無水酢酸の混合物から
再結晶させたところ融点/、5’/ 、 5〜/13℃
の物質が得られた。 製造方法および赤外線分析の結
果からこの生成物はl、2−ビス〔≠−(2,3−ジカ
ルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン酸二無水物で
あった。
例3
例2の方法にしだがって、無水3−フルオロフタル酸お
よび弘、≠′−ジヒドロキシビフェニルのナトリウム塩
の混合物を無水物の塩に対するモル間にわたって770
℃の油浴中で攪拌j−た。 次いでこの混合物を室温迄
冷却させた。 黄色生成物が3/ %の収率で得られた
。 生成物の融点は、M/〜、213℃であった。 製
造方法および赤外線分析の結果からこの生成物は≠、1
.t’−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ビフ
ェニル酸二無水物であった。
よび弘、≠′−ジヒドロキシビフェニルのナトリウム塩
の混合物を無水物の塩に対するモル間にわたって770
℃の油浴中で攪拌j−た。 次いでこの混合物を室温迄
冷却させた。 黄色生成物が3/ %の収率で得られた
。 生成物の融点は、M/〜、213℃であった。 製
造方法および赤外線分析の結果からこの生成物は≠、1
.t’−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ビフ
ェニル酸二無水物であった。
例≠
ビスフェノールAのニナトリウム塩/部、無水グーフル
オロフタル酸/、12部および無水のジメチルホルムア
ミド/4を部からなる混合物をチッ素雰囲気中で還流下
VC,2時間攪拌1〜だ。 混合物を室温迄冷却してこ
れを氷と混合されたん、2Nの)ICI /lC部に力
Ok−た。 生成した白色沈澱物を集めて乾燥させ/、
乙部(収率jY3%)の21.!−ビス〔≠−(3,I
A−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン酸二
無水物を得た。 この試料をトルエン/無水酢酸の混合
物から再結晶させてm、p。
オロフタル酸/、12部および無水のジメチルホルムア
ミド/4を部からなる混合物をチッ素雰囲気中で還流下
VC,2時間攪拌1〜だ。 混合物を室温迄冷却してこ
れを氷と混合されたん、2Nの)ICI /lC部に力
Ok−た。 生成した白色沈澱物を集めて乾燥させ/、
乙部(収率jY3%)の21.!−ビス〔≠−(3,I
A−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン酸二
無水物を得た。 この試料をトルエン/無水酢酸の混合
物から再結晶させてm、p。
/ど乙〜/g♂℃の物質が得られた。 この生成物は
その赤外線分析とプロトンおよび炭素原子のNM1tス
ペクトル分析によって同定さnた。
その赤外線分析とプロトンおよび炭素原子のNM1tス
ペクトル分析によって同定さnた。
以下本発明の好寸しい実施態様について記載する。
/、 芳香族ビス(エーテル酸無水物)を製造する方法
において、 fi1次式のアルカリジフェノキシド:M−〇−1(、
−0−M、 ならびに■ からなる群より選ばれた芳香族酸無水物を反応させ、そ
して (2)上記(1)の反応から上記芳香族ビス(エーテル
酸無水物)を回収することを含み、上記式中Xおよびy
hニトロ基およびハロゲンの基からなる群より選ばれ、
Mはアルカリ金属のイオンであり、そしてRは6〜30
個の炭素原子を有する2価の芳香族基である上記芳香族
ビス(エーテル酸無水物)の製造方法。
において、 fi1次式のアルカリジフェノキシド:M−〇−1(、
−0−M、 ならびに■ からなる群より選ばれた芳香族酸無水物を反応させ、そ
して (2)上記(1)の反応から上記芳香族ビス(エーテル
酸無水物)を回収することを含み、上記式中Xおよびy
hニトロ基およびハロゲンの基からなる群より選ばれ、
Mはアルカリ金属のイオンであり、そしてRは6〜30
個の炭素原子を有する2価の芳香族基である上記芳香族
ビス(エーテル酸無水物)の製造方法。
ノ、上記第1項記載の方法においてR,が(a)二次式
の2価芳香族基: Cf−13CH3 および(b)次式の2価の有機基: 〇 −0−および−8−の2価の基からなる群より選ばれる
成分であり、mはO又は/であってyは/ないしjの整
数である。)から選ばnる基である上記第1項記載の方
法。
の2価芳香族基: Cf−13CH3 および(b)次式の2価の有機基: 〇 −0−および−8−の2価の基からなる群より選ばれる
成分であり、mはO又は/であってyは/ないしjの整
数である。)から選ばnる基である上記第1項記載の方
法。
3、無水有機酸が無水3−フルオロフタル酸である上記
第1項記載の方法。
第1項記載の方法。
久 無水有機酸が無水≠−フルオロフタル酸である上記
第1項記載の方法。
第1項記載の方法。
左 無水芳香族酸が無水≠−ニトローへに一ナフタル酸
である上記第1項記載の方法。
である上記第1項記載の方法。
乙、 ジフェノキシドがビスフェノールAのアルカリ金
楕塩である上記第1項記載の方法。
楕塩である上記第1項記載の方法。
7 ジフェノキシドが4f−Il/−′−ジヒドロキシ
ビフェニルのアルカリ金属塩である上記第1項記載の方
法。
ビフェニルのアルカリ金属塩である上記第1項記載の方
法。
と 次式の芳香族ビス(エーテル酸無水物)式中、R1
は次式: H3 で示され、Qlは一〇−1−8−1−〇−および0
C馬 1 −8−から選ばれる。
は次式: H3 で示され、Qlは一〇−1−8−1−〇−および0
C馬 1 −8−から選ばれる。
1
9、 .2..2−ビス〔グー(l/l、j−ジカルボ
キシナフトキシ)−フェニル〕プロパン酸二無水化合物
。
キシナフトキシ)−フェニル〕プロパン酸二無水化合物
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 芳香族ビス(エーテル酸無水物)を製造する方法におい
て、 <a > 次式のアルカリジフェノキシド:M−0−
R−0−M ならびに 次式の芳香族酸無水物; を反応させ、そして (b) 上記(a )の反応から上記芳香族ビス(エ
ーテル酸無水物)を回収することを含み、上記式中Xは
ニトロ基おにびハロゲン基からなる群より選ばれ、Mは
アルカリ金属のイオンであり、そしでRは6ないし30
個の炭素原子を有する2価の芳香族基である−1−記芳
香族ビス(二[−チル醒無水物)の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US346471 | 1973-03-30 | ||
US00346471A US3850964A (en) | 1973-03-30 | 1973-03-30 | Method for making aromatic bis(ether anhydride)s |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58180479A true JPS58180479A (ja) | 1983-10-21 |
Family
ID=23359538
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JP58031901A Pending JPS58180479A (ja) | 1973-03-30 | 1983-03-01 | 芳香族ビス(エ−テル酸無水物)の製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49034776A Expired JPS604178B2 (ja) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | 芳香族ビス(エーテル酸無水物)の製造方法 |
Country Status (11)
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---|---|
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DD (1) | DD111369A5 (ja) |
DE (1) | DE2412467C2 (ja) |
DK (1) | DK156397C (ja) |
FR (1) | FR2223354B1 (ja) |
GB (1) | GB1469936A (ja) |
IT (1) | IT1004418B (ja) |
SE (1) | SE419640B (ja) |
SU (1) | SU547175A3 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US3944583A (en) * | 1975-02-27 | 1976-03-16 | General Electric Company | Bis-phenoxyphthalic acid anhydrides |
US4133182A (en) * | 1977-01-13 | 1979-01-09 | Societe Nationale Elf Aquitaine (Production) | Apparatus and method of connecting a flowline to a subsea station |
US4102905A (en) * | 1977-09-02 | 1978-07-25 | General Electric Company | Aromatic disulfone dianhydrides |
US4459414A (en) * | 1981-04-08 | 1984-07-10 | Ciba-Geigy Corporation | Tetrasubstituted phthalic acid derivatives, and a process for their preparation |
US4868316A (en) * | 1987-04-27 | 1989-09-19 | Occidental Chemical Corporation | Process for the preparation of diether diphthalic anhydrides |
DE4216796A1 (de) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Cassella Ag | Verfahren zur Herstellung von 4-(2-Aminophenylthio)- naphthalsäureanhydrid-Derivaten |
WO2006017787A2 (en) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Grain Processing Corporation | Tablet coating composition |
US7268237B2 (en) * | 2005-03-11 | 2007-09-11 | General Electric Company | Direct dianhydride synthesis |
US8080671B2 (en) | 2008-05-23 | 2011-12-20 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Production of low color polyetherimides |
US11898011B2 (en) | 2020-02-19 | 2024-02-13 | Dupont Electronics, Inc. | Polymers for use in electronic devices |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3787475A (en) * | 1971-01-20 | 1974-01-22 | Gen Electric | Process for making aryloxy derivatives of aromatic diesters and dinitriles |
-
1973
- 1973-03-30 US US00346471A patent/US3850964A/en not_active Expired - Lifetime
-
1974
- 1974-03-15 DE DE2412467A patent/DE2412467C2/de not_active Expired
- 1974-03-22 GB GB1286574A patent/GB1469936A/en not_active Expired
- 1974-03-26 FR FR7410288A patent/FR2223354B1/fr not_active Expired
- 1974-03-27 IT IT49729/74A patent/IT1004418B/it active
- 1974-03-28 DD DD177522A patent/DD111369A5/xx unknown
- 1974-03-28 DK DK172874A patent/DK156397C/da not_active IP Right Cessation
- 1974-03-29 BR BR2534/74A patent/BR7402534D0/pt unknown
- 1974-03-29 SU SU2011517A patent/SU547175A3/ru active
- 1974-03-29 JP JP49034776A patent/JPS604178B2/ja not_active Expired
- 1974-03-29 SE SE7404313A patent/SE419640B/xx not_active IP Right Cessation
-
1983
- 1983-03-01 JP JP58031901A patent/JPS58180479A/ja active Pending
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---|---|
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DD111369A5 (ja) | 1975-02-12 |
US3850964A (en) | 1974-11-26 |
JPS5024241A (ja) | 1975-03-15 |
SU547175A3 (ru) | 1977-02-15 |
FR2223354B1 (ja) | 1978-09-15 |
AU6738774A (en) | 1975-10-16 |
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SE419640B (sv) | 1981-08-17 |
DK156397C (da) | 1990-01-08 |
FR2223354A1 (ja) | 1974-10-25 |
BR7402534D0 (pt) | 1974-12-03 |
IT1004418B (it) | 1976-07-10 |
DE2412467A1 (de) | 1974-10-10 |
DE2412467C2 (de) | 1983-08-04 |
DK156397B (da) | 1989-08-14 |
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