JPS58172267A - 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 - Google Patents
熱間静水圧プレス用試料の製造方法Info
- Publication number
- JPS58172267A JPS58172267A JP57054277A JP5427782A JPS58172267A JP S58172267 A JPS58172267 A JP S58172267A JP 57054277 A JP57054277 A JP 57054277A JP 5427782 A JP5427782 A JP 5427782A JP S58172267 A JPS58172267 A JP S58172267A
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- JP
- Japan
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- sample
- ceramic
- hip
- manufacture
- thermal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）をする時、セラミ
ックに均一な圧力を及ぼすことが可能な熱間静水圧プレ
ス用試料の製造方法に係るものである。
ックに均一な圧力を及ぼすことが可能な熱間静水圧プレ
ス用試料の製造方法に係るものである。
従来よりＨＩＰの試料としては、理論密度比９６％以上
のセラミック、圧力媒体となる均質緻密なガラス相を表
面に均一に形成させたセラミック。
のセラミック、圧力媒体となる均質緻密なガラス相を表
面に均一に形成させたセラミック。
または金属カプセルに封入されたセラミック等が使用さ
れてきた。これら試料を用いることによりセラミックに
均一な圧力を及ぼすことが可能となる。しかしながら、
これらの最大の欠点は、ＨＩＰを使用する必要のあるセ
ラミックに難焼結性のものが多く理論密度比９６％以上
を達成することが困難な点である。また、ガラス相を表
面に形成させる場合は、セラミックとのなじみや反応等
を考慮する必要があり、ガラス成分の決定が非常に困難
である。そして、金属カプセルに封入する場合。
れてきた。これら試料を用いることによりセラミックに
均一な圧力を及ぼすことが可能となる。しかしながら、
これらの最大の欠点は、ＨＩＰを使用する必要のあるセ
ラミックに難焼結性のものが多く理論密度比９６％以上
を達成することが困難な点である。また、ガラス相を表
面に形成させる場合は、セラミックとのなじみや反応等
を考慮する必要があり、ガラス成分の決定が非常に困難
である。そして、金属カプセルに封入する場合。
児全密封にする必要があり、高度な密封技術を駆使しな
ければならず量産に不向きであり且つコスト高となる。
ければならず量産に不向きであり且つコスト高となる。
これらの解決には、セラミック表面へのコーティング技
術の開発や、材料面よりセラミックとのなじみ１反応等
を考慮した熱間静水圧プレス用試料の製造方法を開発す
ることである。
術の開発や、材料面よりセラミックとのなじみ１反応等
を考慮した熱間静水圧プレス用試料の製造方法を開発す
ることである。
本発明は係る従来の欠点を除去す２ｅともに、 ′ＨＩ
Ｐをする時セラミックに均一な圧力を及ぼすことが可能
な熱間静水圧プレス用試料の與造方法を提供するもので
ある。
Ｐをする時セラミックに均一な圧力を及ぼすことが可能
な熱間静水圧プレス用試料の與造方法を提供するもので
ある。
すなわち、本発明に係る熱間静水圧プレス用試料の製造
方法は、セラミック成型板焼体またはセラミック焼結体
の表面に、Ｎｉ、 Ｇｏ、 Ｆｅ、 Ｃｒ；＆−の１種
または２種以上を主成分とするメタライズペースト層を
形成させた後、７００℃〜１４００℃の非酸化雰囲気中
でメタライジングを行い、セラミック表面にメタル層を
形成させること、メタル層の厚さを２μｍ〜２ｏｏｇｍ
とすること、また以上の処理を理論密度比６０％〜９４
％のセラミックに行うことを特徴とする。
方法は、セラミック成型板焼体またはセラミック焼結体
の表面に、Ｎｉ、 Ｇｏ、 Ｆｅ、 Ｃｒ；＆−の１種
または２種以上を主成分とするメタライズペースト層を
形成させた後、７００℃〜１４００℃の非酸化雰囲気中
でメタライジングを行い、セラミック表面にメタル層を
形成させること、メタル層の厚さを２μｍ〜２ｏｏｇｍ
とすること、また以上の処理を理論密度比６０％〜９４
％のセラミックに行うことを特徴とする。
尚、上記内容において、メタライジングする際の温度が
７００℃未満では、メタル化が完全でな（ＨＩＰ効果が
なくなる。また、１４００℃を越えた場合は、メタル層
の一部にふくれ、ピンホール等が発生し、セラミックと
ＨＩＰ雰囲気（一般に不活性ガス）間のしゃ断が完全で
はなくＨＩＰ効果がなくなる。さらに、非酸化雰囲気下
で焼成するのはメタルの酸化防止のためである。また、
メタライズ層の厚みが２μｍ未満ではメタル層の完全性
維持が困難であり、目的のＨＩＰ効果が期待できない。
７００℃未満では、メタル化が完全でな（ＨＩＰ効果が
なくなる。また、１４００℃を越えた場合は、メタル層
の一部にふくれ、ピンホール等が発生し、セラミックと
ＨＩＰ雰囲気（一般に不活性ガス）間のしゃ断が完全で
はなくＨＩＰ効果がなくなる。さらに、非酸化雰囲気下
で焼成するのはメタルの酸化防止のためである。また、
メタライズ層の厚みが２μｍ未満ではメタル層の完全性
維持が困難であり、目的のＨＩＰ効果が期待できない。
一方、２００μｍを越えた場合は、コスト的に割高とな
り、量産性に欠ける。そして、セラミックの理論密度比
が６０％未満の時はＨＩＰ効果がおちる。また、９４％
を越えた場合は表面コーティングなしでＨＩＰ効果があ
る。
り、量産性に欠ける。そして、セラミックの理論密度比
が６０％未満の時はＨＩＰ効果がおちる。また、９４％
を越えた場合は表面コーティングなしでＨＩＰ効果があ
る。
以下、本発明を実施例を挙げ具体的に説明する。
試料の調整工程としては工業用原料（純度９９％以−Ｆ
）であるＡβ２ｏ５． ＴｔＣ、ＴｔＣ２等を用い、混
合は不純物の混入を防止するためウレタン内張ボットを
用い湿式混合した。そして、試料作成の順序としては下
記第１表に示す組成比になるよう原料を調合し、成型は
機械プレスを用い４０φＸ２０ｔＴｒａｎの試料を成型
した。また、前焼成はＡｒガス中にて８００℃〜１ｅｏ
ｏ℃の間で行い、その後上記焼成体表面に第２表に示す
ペーストを塗布し、Ｎ２中６００℃〜１６ｏＯ℃の間で
メタライジングを行った。さらに、本焼成はムＩ−ガｒ
を媒体としたＨ Ｉ Ｐ （Ｈｏｔ ｌ５ｏｓｔａｔｉ
ｃ Ｐｒｅｓｓｉｎｇ ）により１５００Ａ１ｉ’／ｃ
ａ 〜２０００Ａｌｉ’／ｃＪ、 １２００°Ｃ〜１、
、ｊＯＯ℃の間で行った。このようにして得られた素子
は下記第３表のような各緒特性を示した。
）であるＡβ２ｏ５． ＴｔＣ、ＴｔＣ２等を用い、混
合は不純物の混入を防止するためウレタン内張ボットを
用い湿式混合した。そして、試料作成の順序としては下
記第１表に示す組成比になるよう原料を調合し、成型は
機械プレスを用い４０φＸ２０ｔＴｒａｎの試料を成型
した。また、前焼成はＡｒガス中にて８００℃〜１ｅｏ
ｏ℃の間で行い、その後上記焼成体表面に第２表に示す
ペーストを塗布し、Ｎ２中６００℃〜１６ｏＯ℃の間で
メタライジングを行った。さらに、本焼成はムＩ−ガｒ
を媒体としたＨ Ｉ Ｐ （Ｈｏｔ ｌ５ｏｓｔａｔｉ
ｃ Ｐｒｅｓｓｉｎｇ ）により１５００Ａ１ｉ’／ｃ
ａ 〜２０００Ａｌｉ’／ｃＪ、 １２００°Ｃ〜１、
、ｊＯＯ℃の間で行った。このようにして得られた素子
は下記第３表のような各緒特性を示した。
第 １ 表
第 ２ 表
第３表より明らかなように本発明範囲内の実施例はＡ１
〜Ａ了及びＡ Ｉ ０ 、１１であり、他は範囲外の比
較例である。
〜Ａ了及びＡ Ｉ ０ 、１１であり、他は範囲外の比
較例である。
本発明範囲内の試料はＨＩＰ効果が完全に出ており、は
ぼ理論密度に近い値を示している。またＡ８，９は範囲
外であり、密度が上がっておらずＨＩＰ効果がないこと
がわかる。尚、密度はＨｑ密度計を用い測定した。
ぼ理論密度に近い値を示している。またＡ８，９は範囲
外であり、密度が上がっておらずＨＩＰ効果がないこと
がわかる。尚、密度はＨｑ密度計を用い測定した。
ここで、ＨＩＰする時の状態及び試料を第１図及び第２
図に示している。第１図において、１は圧力容器であり
、内部にムｒガスが満たされている。２はルツボであり
、試料台３の上に載置さね。
図に示している。第１図において、１は圧力容器であり
、内部にムｒガスが満たされている。２はルツボであり
、試料台３の上に載置さね。
モリブデンヒータ４に対向している。また、試料６はル
ツボ２内に入れられている。第２図で６はメタル層であ
砂、セラミック部７の外面を覆っている。
ツボ２内に入れられている。第２図で６はメタル層であ
砂、セラミック部７の外面を覆っている。
尚、上記実施例においてはメタル主成分としてＮｉ、
Ｇｏ、 Ｆｅ、 Ｏｒを用いているが、副成分には■叫
舎帳輔焼結補助剤としてＯｕ、ム１等が添加され卆いる
。すなわち、本発明でばＮｉ、 Ｇｏ、 Ｆｅ、 （３
ｒからなるメタル層により、セラミックとＨＩＰする時
の加圧用不活性ガスをしゃ断することを目的としている
ので、副成分、ペーストビヒクル分については特に限定
せず、上記の内容を十分満足するものであればよい。
Ｇｏ、 Ｆｅ、 Ｏｒを用いているが、副成分には■叫
舎帳輔焼結補助剤としてＯｕ、ム１等が添加され卆いる
。すなわち、本発明でばＮｉ、 Ｇｏ、 Ｆｅ、 （３
ｒからなるメタル層により、セラミックとＨＩＰする時
の加圧用不活性ガスをしゃ断することを目的としている
ので、副成分、ペーストビヒクル分については特に限定
せず、上記の内容を十分満足するものであればよい。
以上のように１本発明の熱間静水圧プレス用試料の製造
方法は、ＨＩＰを有効利用することにおいて非常に優れ
た性能を備えており、工業的量産化においても著しく安
定であり、産業的価値の大なるものである。
方法は、ＨＩＰを有効利用することにおいて非常に優れ
た性能を備えており、工業的量産化においても著しく安
定であり、産業的価値の大なるものである。
第１図は本発明方法を説明するＨＩＰする時の状態を示
す概略断面図、第２図は本発明方法により得られた試料
の断面図である。 ６・・・・・・試料、６・・・・・・メタル層、７・・
・・・・セラミック部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
す概略断面図、第２図は本発明方法により得られた試料
の断面図である。 ６・・・・・・試料、６・・・・・・メタル層、７・・
・・・・セラミック部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 理論密度比６０％〜９４％のセラミック成型板焼体また
はセラミック焼結体の表面にＮｉ、Ｇｏ。 Ｆｅ、 Ｏｒの１種または２種以上を主成分とするメタ
ライズペースト層を形成させたのち、７００’Ｃ〜１４
００’Ｃの非酸化雰囲気中でメタライジングを行い、セ
ラミック表面に厚さ２μｍ〜２００μｍのメタル層を形
成させることを特徴とする熱間静水圧プレス用試料の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054277A JPS58172267A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054277A JPS58172267A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58172267A true JPS58172267A (ja) | 1983-10-11 |
| JPS618035B2 JPS618035B2 (ja) | 1986-03-11 |
Family
ID=12966071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57054277A Granted JPS58172267A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58172267A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0453798Y2 (ja) * | 1986-11-26 | 1992-12-17 |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP57054277A patent/JPS58172267A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS618035B2 (ja) | 1986-03-11 |
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