JPS58172268A - 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 - Google Patents
熱間静水圧プレス用試料の製造方法Info
- Publication number
- JPS58172268A JPS58172268A JP57054278A JP5427882A JPS58172268A JP S58172268 A JPS58172268 A JP S58172268A JP 57054278 A JP57054278 A JP 57054278A JP 5427882 A JP5427882 A JP 5427882A JP S58172268 A JPS58172268 A JP S58172268A
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- JP
- Japan
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- ceramic
- manufacture
- thermal
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）をする時。
セラミックに均一な圧力を及ぼすことが可能な熱間静水
圧プレス用試料の製造方法に係るものである。
圧プレス用試料の製造方法に係るものである。
従来よりＨＩＰの試料としては、理論密度比９５％以上
のセラミック、圧力媒体と々る均質緻密なガラス相を表
面に均一に形成させたセラミック、または金属カプセル
に封入されたセラミック等が使用されてきた。これら試
料を用いることにより、セラミックに均一な圧力を及ぼ
すことが可能となる。しかしながら、これらめ最大の欠
点はＨＩＰを使用する必要のあるセラミックに難焼結性
のものが多く、理論密度比９６％以上を達成することが
困難な点である。また、ガラス相を表面に形成させる場
合は、セラミックとのなじみや反応等を考慮する必要が
あり、ガラス成分の決定が非常に困難である。そして、
金属カプセルに封入する場合は完全密封にす、る必要が
あり、高度な密封技術を駆使しなければならず量産に不
向きであり、且つコスト高となる。
のセラミック、圧力媒体と々る均質緻密なガラス相を表
面に均一に形成させたセラミック、または金属カプセル
に封入されたセラミック等が使用されてきた。これら試
料を用いることにより、セラミックに均一な圧力を及ぼ
すことが可能となる。しかしながら、これらめ最大の欠
点はＨＩＰを使用する必要のあるセラミックに難焼結性
のものが多く、理論密度比９６％以上を達成することが
困難な点である。また、ガラス相を表面に形成させる場
合は、セラミックとのなじみや反応等を考慮する必要が
あり、ガラス成分の決定が非常に困難である。そして、
金属カプセルに封入する場合は完全密封にす、る必要が
あり、高度な密封技術を駆使しなければならず量産に不
向きであり、且つコスト高となる。
これらの解決には、セラミック表面へのコーティング技
術の開発や、材料面よりセラミックとのなじみ０反応等
を考慮した熱間静水圧プレス用試料の製造方法を開発す
ることである。
術の開発や、材料面よりセラミックとのなじみ０反応等
を考慮した熱間静水圧プレス用試料の製造方法を開発す
ることである。
本発明は係る従来の欠点を除去するとともに、ＨＩＰを
する時セラミックに均一な圧力を及ぼすことが可能な熱
間静水圧プレス用試料の製造方法を提供するものである
。
する時セラミックに均一な圧力を及ぼすことが可能な熱
間静水圧プレス用試料の製造方法を提供するものである
。
すなわち１本発明に係る熱間、計本導ブレス用試料の製
造方法は、セラミック成型板焼体またはセラミック焼結
体の表面に金鵬メッキをすること、金属メッキ層の厚さ
を２μｍ〜２００μｍ とすること、また以上の処理を
理論密度比６０％〜９４％のセラミックに行うこと等を
特徴とする。
造方法は、セラミック成型板焼体またはセラミック焼結
体の表面に金鵬メッキをすること、金属メッキ層の厚さ
を２μｍ〜２００μｍ とすること、また以上の処理を
理論密度比６０％〜９４％のセラミックに行うこと等を
特徴とする。
尚、上記内容において金属メッキ層の厚さが２μｍ未満
ではメタル層の完全性維持が困難であり、目的のＨＩＰ
効果が期待でき々い。一方、２００μｍを越えた場合は
、コスト的に割高となり、量産性に欠ける。そして、セ
ラミックの理論密度比が６０％未満の時はＨＩＰ効果が
落ちる。また、９４％を越えた場合は表面５−ティング
なしでＨＩＰ効果がある。これはセラミック内にオープ
ン・ボアが存在しないためである。“ 以下、本発明を実施例を挙げ具体的に説明する。
ではメタル層の完全性維持が困難であり、目的のＨＩＰ
効果が期待でき々い。一方、２００μｍを越えた場合は
、コスト的に割高となり、量産性に欠ける。そして、セ
ラミックの理論密度比が６０％未満の時はＨＩＰ効果が
落ちる。また、９４％を越えた場合は表面５−ティング
なしでＨＩＰ効果がある。これはセラミック内にオープ
ン・ボアが存在しないためである。“ 以下、本発明を実施例を挙げ具体的に説明する。
試料の調整工程としては工業用原料（純度９９％以上）
であるＡ７Ｉ２ｏ３． Ｔｉｃ 、 Ｍｇｏ 、 Ｔｉ
Ｏ２等を用い、混合は不純物の混入を防止するためウレ
タン内張ポットを用い湿式混合した。そして、試料作成
の順序としては下記第１表に示す組成比になるよう原料
を調合し、成型は機械プレスを用い４ｏφ×２０ｔｍｍ
の試料を成型した。１だ、前焼成はＡｒガス中にてＳＯ
Ｏ℃〜１６００℃の間で行い、その後表面にＮｉメッキ
を施した。メッキとしては、活性方法として■Ｓｎイオ
ン、 Ｐｄイオンによるセラミックの活性化、■Ｐｔ
、 Ｐｄ 。
であるＡ７Ｉ２ｏ３． Ｔｉｃ 、 Ｍｇｏ 、 Ｔｉ
Ｏ２等を用い、混合は不純物の混入を防止するためウレ
タン内張ポットを用い湿式混合した。そして、試料作成
の順序としては下記第１表に示す組成比になるよう原料
を調合し、成型は機械プレスを用い４ｏφ×２０ｔｍｍ
の試料を成型した。１だ、前焼成はＡｒガス中にてＳＯ
Ｏ℃〜１６００℃の間で行い、その後表面にＮｉメッキ
を施した。メッキとしては、活性方法として■Ｓｎイオ
ン、 Ｐｄイオンによるセラミックの活性化、■Ｐｔ
、 Ｐｄ 。
ムｇ等によるセラミツ久の活性化等を行い１次いでＮｉ
メッキ液によりＮｉを析出°させる方法をとった。特に
多孔質の場合は液体成分が内部に浸透するのでＸｉメッ
キ後、一部に穴を開け１００℃程度で乾燥させ、次に穴
部に有機樹脂膜を形成させ、その穴部表面上を活性化し
、メッキを施すという方法を用いた。さらに、本焼成と
してはＡｒガスを媒体としたＨ Ｉ Ｐ （Ｈｏｔ Ｉ
ｓｏｓｔａｔｉｃｐｒｅｓｓｉｎｇ ）により１５００
ｋｇ／ｃｄ〜２ｏＯ０ｋｇ／ｒＪ 、 １２００℃〜
１４ｏＯ℃の間で行った。
メッキ液によりＮｉを析出°させる方法をとった。特に
多孔質の場合は液体成分が内部に浸透するのでＸｉメッ
キ後、一部に穴を開け１００℃程度で乾燥させ、次に穴
部に有機樹脂膜を形成させ、その穴部表面上を活性化し
、メッキを施すという方法を用いた。さらに、本焼成と
してはＡｒガスを媒体としたＨ Ｉ Ｐ （Ｈｏｔ Ｉ
ｓｏｓｔａｔｉｃｐｒｅｓｓｉｎｇ ）により１５００
ｋｇ／ｃｄ〜２ｏＯ０ｋｇ／ｒＪ 、 １２００℃〜
１４ｏＯ℃の間で行った。
このようにして得られた素子は下記第２表のよう々特性
を示した。
を示した。
（以下余白）
第１表
第２表
第２表より明らかなように本発明範囲内の実施例はｌ’
！Ｌ１〜ｆｋ６ 、 Ｉ’に８ 、９であり、他は範囲
外の比較例である。本発明範囲内の試」はＨＩＰ効果が
完全に出ており、はぼ理論密度に近い値を示している。
！Ｌ１〜ｆｋ６ 、 Ｉ’に８ 、９であり、他は範囲
外の比較例である。本発明範囲内の試」はＨＩＰ効果が
完全に出ており、はぼ理論密度に近い値を示している。
ま火、％７は範囲外であり、密度が上がっておらず、１
（ＩＰ効果がないことがわかる。尚、密度はＨｇ密度計
を用い測定した。
（ＩＰ効果がないことがわかる。尚、密度はＨｇ密度計
を用い測定した。
ここで、ＨＩＰする時の状態及び試料を第１図及び第２
図に示している。第１図において、１は圧力容器であり
、内部にＡｒガスが満たされている。２はルツボであり
、試料台３の一トに載置され、モリブデンヒータ４に対
向している。また、試料６はルツボ２内に入れられてい
る。第２図で６はＮｉ メッキ層であり、セラミック
部７の外面を覆っている。
図に示している。第１図において、１は圧力容器であり
、内部にＡｒガスが満たされている。２はルツボであり
、試料台３の一トに載置され、モリブデンヒータ４に対
向している。また、試料６はルツボ２内に入れられてい
る。第２図で６はＮｉ メッキ層であり、セラミック
部７の外面を覆っている。
尚、本発明では上記実施例においてＮｉメッキを用いて
いるが、ＨＩＰ効果を満たすメッキであれば、Ｎｉに限
定するものではｐ於。５．また、数種の複合メッキ（例
：Ｎｉ−０ｒ）でもかまわない。
いるが、ＨＩＰ効果を満たすメッキであれば、Ｎｉに限
定するものではｐ於。５．また、数種の複合メッキ（例
：Ｎｉ−０ｒ）でもかまわない。
以上のように１本発明の熱間静水圧プレス用試料の製造
方法は、ＨＩＰを有効利用することにおいて非常に優れ
た性能を備えており、工業的量産化においても著しく安
定であり、産業的価値の大なるものである。
方法は、ＨＩＰを有効利用することにおいて非常に優れ
た性能を備えており、工業的量産化においても著しく安
定であり、産業的価値の大なるものである。
第１図は本発明方法を説明するＨＩＰする時の状態を示
す概略断面図、第２図は本発明方法により得られた試料
の断面図である。 ６・・・・・・試料、６・・・・・・Ｎｉメッキ層、７
・・・・・・セラミック部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ｉｌ
１図 第２図 ３０Ｆ
す概略断面図、第２図は本発明方法により得られた試料
の断面図である。 ６・・・・・・試料、６・・・・・・Ｎｉメッキ層、７
・・・・・・セラミック部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ｉｌ
１図 第２図 ３０Ｆ
Claims (1)
- 理論密度比６０％〜９４％のセラミック成型板焼体また
はセラミック焼結体の表面に厚さ２μｍ〜２００μｍの
金属メッキを施すことを特徴とする熱間静水圧プレス用
試料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054278A JPS58172268A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054278A JPS58172268A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58172268A true JPS58172268A (ja) | 1983-10-11 |
Family
ID=12966096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57054278A Pending JPS58172268A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 熱間静水圧プレス用試料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58172268A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59205404A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-21 | Daido Steel Co Ltd | 粉末の固化方法 |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP57054278A patent/JPS58172268A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59205404A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-21 | Daido Steel Co Ltd | 粉末の固化方法 |
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