JPS58168641A - 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 - Google Patents
安定化ポリオレフイン樹脂組成物Info
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- JPS58168641A JPS58168641A JP5338582A JP5338582A JPS58168641A JP S58168641 A JPS58168641 A JP S58168641A JP 5338582 A JP5338582 A JP 5338582A JP 5338582 A JP5338582 A JP 5338582A JP S58168641 A JPS58168641 A JP S58168641A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は熱および酸化および光に対してきわめで優れた
安定性を有するポリオレフィン樹脂組成物に関する。
安定性を有するポリオレフィン樹脂組成物に関する。
ポリオレフィン樹脂は優れた物理的、化学的、電気的性
質を有しているため、吹込成形、押出成形、射出成形ま
たはカレンダー加工などの各種の方法により成形品、パ
イプ、シート、フィルムなどに加工され、多くの分野で
使用されている。しかしポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン樹脂はそれ単独で用いられるとき
は加工時または使用時において、熱および酸素あるいは
光の作用により劣化し、軟化、脆化または変色などの現
象を伴ってその物性が著しく低下することもよく知られ
ている。 貸このような熱および酸化によ
る劣化を防止する目的で従来より、例えば2.6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール、n−オクタデシル
−β−(8,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフエ
ニlし)プロピオネート、テトラキス〔メチレン−8−
(8,5−ジ−t−ブチル−4−ハイドロキシフェニル
)フロビオ*−)]メタン、1,8.5−)リフチル−
2,4,6−トリス(8,6−ジーt−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)ベンゼン、1,1.!l−トリス(
2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル
)ブタン、ビスCa、a−ビス(4−ヒドロキシ−B−
t−ブチルフェニル)酪酸〕クリコールエステル、トリ
ス(2,6−ジ−メチル−4−ブチル−8−ヒドロキシ
ベンジル)イソシア賀レート等の各種フェノール系酸化
防止剤を、更に酸化防止性能を向上させる目的でこれら
フェノール系酸化防止剤と、例えばジラウリル−8,8
′−チオジプロピオネート、シミリスチル−8,8′−
チオジプロピオネート、ジステアリル−8,81−チオ
ジプロピオネート等のイオウ系酸化防止剤が併用され、
東には光による劣化を防止する目的で、例えば2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフヱノン、2−ヒドロキシ
−4−n−オクトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン系、2(2’−ヒドロキシ−6I−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキシ−8′−t
−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベン
ツトリアソール等のベンゾ、トリアゾール系、ビス(2
,2゜6.6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケ
ート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6゜6−チトラ
メチルピペリジン等のヒンダード型ピペリジン系等の光
安定剤が、ポリオレフィン係 樹脂の製造、加工ニー中に添加され使用されている。し
かし、これらの方法は熱および酸化および光に対する安
定性の点でまだ充分満足すべきものではない。
質を有しているため、吹込成形、押出成形、射出成形ま
たはカレンダー加工などの各種の方法により成形品、パ
イプ、シート、フィルムなどに加工され、多くの分野で
使用されている。しかしポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン樹脂はそれ単独で用いられるとき
は加工時または使用時において、熱および酸素あるいは
光の作用により劣化し、軟化、脆化または変色などの現
象を伴ってその物性が著しく低下することもよく知られ
ている。 貸このような熱および酸化によ
る劣化を防止する目的で従来より、例えば2.6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール、n−オクタデシル
−β−(8,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフエ
ニlし)プロピオネート、テトラキス〔メチレン−8−
(8,5−ジ−t−ブチル−4−ハイドロキシフェニル
)フロビオ*−)]メタン、1,8.5−)リフチル−
2,4,6−トリス(8,6−ジーt−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)ベンゼン、1,1.!l−トリス(
2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル
)ブタン、ビスCa、a−ビス(4−ヒドロキシ−B−
t−ブチルフェニル)酪酸〕クリコールエステル、トリ
ス(2,6−ジ−メチル−4−ブチル−8−ヒドロキシ
ベンジル)イソシア賀レート等の各種フェノール系酸化
防止剤を、更に酸化防止性能を向上させる目的でこれら
フェノール系酸化防止剤と、例えばジラウリル−8,8
′−チオジプロピオネート、シミリスチル−8,8′−
チオジプロピオネート、ジステアリル−8,81−チオ
ジプロピオネート等のイオウ系酸化防止剤が併用され、
東には光による劣化を防止する目的で、例えば2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフヱノン、2−ヒドロキシ
−4−n−オクトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン系、2(2’−ヒドロキシ−6I−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキシ−8′−t
−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベン
ツトリアソール等のベンゾ、トリアゾール系、ビス(2
,2゜6.6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケ
ート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6゜6−チトラ
メチルピペリジン等のヒンダード型ピペリジン系等の光
安定剤が、ポリオレフィン係 樹脂の製造、加工ニー中に添加され使用されている。し
かし、これらの方法は熱および酸化および光に対する安
定性の点でまだ充分満足すべきものではない。
本発明者らは、これらの点に解決をILるべく種々検討
の結果、特定のヒンダード型ピペリジン系光安定剤は、
通常の各種ヒンダードピペリジン系光安定剤と各種酸化
防止剤、特にイオウ系駿化防止剤との組み合せに見られ
る大巾な光安定性能低下挙動を有さないばかりでなく、
特定のイオウ系酸化防止剤および特定のフェノール系酸
化防止剤との組み合せにおいては従来の組み合せ技術か
らはとうてい予測できない驚くべき相乗効果が得られる
ことを見い出し、従来技術よりきわめて優れた熱および
酸化および光に対しての安定性を有することを見い出し
、本発明に至った。
の結果、特定のヒンダード型ピペリジン系光安定剤は、
通常の各種ヒンダードピペリジン系光安定剤と各種酸化
防止剤、特にイオウ系駿化防止剤との組み合せに見られ
る大巾な光安定性能低下挙動を有さないばかりでなく、
特定のイオウ系酸化防止剤および特定のフェノール系酸
化防止剤との組み合せにおいては従来の組み合せ技術か
らはとうてい予測できない驚くべき相乗効果が得られる
ことを見い出し、従来技術よりきわめて優れた熱および
酸化および光に対しての安定性を有することを見い出し
、本発明に至った。
すなわち本発明は、rすλしフィンfilltζ。
(I) 下記一般式で示されるヒンダード製ピペリジ
ン系化合物、 (式中、R1は水素原子またはメチル基を表わし、R2
は炭素数2〜18の環を形成していることもあるアルキ
レン基を表わす)(m テトラキス〔メチレン−8−(
8,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネート〕メタン、 (2) 下起一般式で示されるチオジプロピオネート、
および 1 8 (CH2CH2O−0−R3)2 (式中、R3は炭素数12〜18のアルキル基を表わす
) (IV)下記一般式で示されるイオウ系化合物1 (R4−8−CH2CH2C−0−CH2シrC。
ン系化合物、 (式中、R1は水素原子またはメチル基を表わし、R2
は炭素数2〜18の環を形成していることもあるアルキ
レン基を表わす)(m テトラキス〔メチレン−8−(
8,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネート〕メタン、 (2) 下起一般式で示されるチオジプロピオネート、
および 1 8 (CH2CH2O−0−R3)2 (式中、R3は炭素数12〜18のアルキル基を表わす
) (IV)下記一般式で示されるイオウ系化合物1 (R4−8−CH2CH2C−0−CH2シrC。
(式中、拘は炭素数4〜20のアルキル基を表わす)
ヲtx):(n):(uO: (■)=1〜20 :
1 :0〜15:0〜16であッテ、かツ(n):[
(uD+(IV)]=1:1〜15(重量比)の割合で
配合してなることを特徴とする安定化ポリオレフィン樹
脂組成物を提供するものである。 1本発
明に用いられる上記一般式で示されるヒンダード型ピペ
リジン系化合物において、置換基R1およびR2の意味
は先に述べたとおりであるが、R1は水素原子が好まし
く、R2は炭素数8〜18の環を形成しているCともあ
るアルキレン基が好ましい。かかるヒンダード製ピペリ
ジン系化合物としては などが例示される。
1 :0〜15:0〜16であッテ、かツ(n):[
(uD+(IV)]=1:1〜15(重量比)の割合で
配合してなることを特徴とする安定化ポリオレフィン樹
脂組成物を提供するものである。 1本発
明に用いられる上記一般式で示されるヒンダード型ピペ
リジン系化合物において、置換基R1およびR2の意味
は先に述べたとおりであるが、R1は水素原子が好まし
く、R2は炭素数8〜18の環を形成しているCともあ
るアルキレン基が好ましい。かかるヒンダード製ピペリ
ジン系化合物としては などが例示される。
このようなヒンダード型ピペリジン系化合物は2.2.
6.6−テトラメチル−4−カルボキシピペリジンもし
くは1,2,2,6.6−ベンタメチルー4−カルボキ
シルピペリジンと一般式 %式% (式中、R2は前記と同じ意味を有する)で示されるジ
オール化合物を、たとえば米国特許第4.064,10
2号明細書に記載の公知の方法により、脱水縮合させる
ことによって容易に製造することができる。
6.6−テトラメチル−4−カルボキシピペリジンもし
くは1,2,2,6.6−ベンタメチルー4−カルボキ
シルピペリジンと一般式 %式% (式中、R2は前記と同じ意味を有する)で示されるジ
オール化合物を、たとえば米国特許第4.064,10
2号明細書に記載の公知の方法により、脱水縮合させる
ことによって容易に製造することができる。
また、上記一般式で示されるチオジプロピオネートおよ
びイオウ系化合物において、置換基R3、R4の意味は
先に述べたとおりであるが、R3は炭素数14〜18の
アルキル基が好ましい。
びイオウ系化合物において、置換基R3、R4の意味は
先に述べたとおりであるが、R3は炭素数14〜18の
アルキル基が好ましい。
また拘は炭素数B〜18のアルキル基が好ましく、とり
わけ炭素数12のアルキル基が最も好ましい。かかるチ
オジプロピオネートとしてはジラウリル−8,8′−チ
オジプロピオネート、シミリスチル−8,8′−チオジ
プロピオネート、ジステアリル−8,81−チオジプロ
ピオネートなどが例示され、またイオウ系化合物として
はペンタエリスリトール−テトラキス(β−へキシルチ
オプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラキ
ス(β−ドデシルチオプロピオ)、ペンタエリスリトー
ル−テトラキス(I−オクタデシルチオプロピオネート
)などが例示される。
わけ炭素数12のアルキル基が最も好ましい。かかるチ
オジプロピオネートとしてはジラウリル−8,8′−チ
オジプロピオネート、シミリスチル−8,8′−チオジ
プロピオネート、ジステアリル−8,81−チオジプロ
ピオネートなどが例示され、またイオウ系化合物として
はペンタエリスリトール−テトラキス(β−へキシルチ
オプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラキ
ス(β−ドデシルチオプロピオ)、ペンタエリスリトー
ル−テトラキス(I−オクタデシルチオプロピオネート
)などが例示される。
本発明の?リオレフィン樹脂組成物において、前記化合
物(I)、(If)、(2)および(IV)の総添加量
はポリオレフィン樹11100重量部に対して通常0.
01〜5重量部であり、好ましくは0.1〜1重量部で
ある。また、各化合物の使用割合は重量比t”(I):
(IO:01): (W)=1〜20 :1 :O〜1
5:Q−15であって、かつ(IQ : [”(至)+
(■)]=1:1〜16であるが、好ましくは化合物(
mに対して化合物(I)が2〜15重量倍、化合物(2
)と(■)の合計が2〜18重量倍である。
物(I)、(If)、(2)および(IV)の総添加量
はポリオレフィン樹11100重量部に対して通常0.
01〜5重量部であり、好ましくは0.1〜1重量部で
ある。また、各化合物の使用割合は重量比t”(I):
(IO:01): (W)=1〜20 :1 :O〜1
5:Q−15であって、かつ(IQ : [”(至)+
(■)]=1:1〜16であるが、好ましくは化合物(
mに対して化合物(I)が2〜15重量倍、化合物(2
)と(■)の合計が2〜18重量倍である。
ここで、化合物(I)および〔(2)+(■)〕が化合
物(田に対して1重量倍未満では目的とする効果が十分
に得られ―(、また化合物(1)が20重量倍を越えて
もそれに見合うだけの効果が得難く、経済的にも不利と
なる。化合物〔(至)+(■)〕が116重量を越える
とそれによる悪影響があらねれ易くなる。化合物(至)
と(IV)の使用割合はその合計量が化合物(Inに対
して1−15重量倍の範囲である限りにおいて任意であ
るが、一般には(2)または(W)のそれぞれ単独が用
いられる。
物(田に対して1重量倍未満では目的とする効果が十分
に得られ―(、また化合物(1)が20重量倍を越えて
もそれに見合うだけの効果が得難く、経済的にも不利と
なる。化合物〔(至)+(■)〕が116重量を越える
とそれによる悪影響があらねれ易くなる。化合物(至)
と(IV)の使用割合はその合計量が化合物(Inに対
して1−15重量倍の範囲である限りにおいて任意であ
るが、一般には(2)または(W)のそれぞれ単独が用
いられる。
本発明において、化合物(1)、(9)、(2)および
(酌をポリオレフィン樹脂に配合する方法としては、ポ
リオレフィン樹脂中に安定剤、顔料、充てん剤等を温和
配合する従来より公知の装置および操作法がそのまま適
用できる。
(酌をポリオレフィン樹脂に配合する方法としては、ポ
リオレフィン樹脂中に安定剤、顔料、充てん剤等を温和
配合する従来より公知の装置および操作法がそのまま適
用できる。
本発明の4リオレフイン樹脂組成物には他の添加剤、た
とえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、金属不活
性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電□゛防止剤
、難燃剤、原料および く充填剤などを含有して
もよい。
とえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、金属不活
性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電□゛防止剤
、難燃剤、原料および く充填剤などを含有して
もよい。
本発明により安定化されるポリオレフィン樹脂としては
、低密度ポリエチレン、中高密度プリエチレン、享ニヤ
ー低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチン−
1などのポリーーオレフイン、プロピレン−エチレンラ
ンダムまたはブロック共重合体、エチレン−ブテン−1
ランダム共重合体などのlすα−オレフィン共重合体、
無水マレイン酸変性ポリプロピレンなどのポリα−オレ
フィンとビニルモノマーの共重合体およびこれらの混合
物が例示されるが、この中で特にポリプロピレンに対し
て有効である。
、低密度ポリエチレン、中高密度プリエチレン、享ニヤ
ー低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチン−
1などのポリーーオレフイン、プロピレン−エチレンラ
ンダムまたはブロック共重合体、エチレン−ブテン−1
ランダム共重合体などのlすα−オレフィン共重合体、
無水マレイン酸変性ポリプロピレンなどのポリα−オレ
フィンとビニルモノマーの共重合体およびこれらの混合
物が例示されるが、この中で特にポリプロピレンに対し
て有効である。
次に実施例を挙げて本発明の詳細な説明するが、本発明
はξれにより限定されるものではない。
はξれにより限定されるものではない。
実施例1
下記配合物をミキサーで5分間混合したあと、シリンダ
一温度289〜24(1、ヘッドダイス温度25(1、
回転数20 rpmの押出機によって溶融混練して造粒
した。かくして得られたベレットを2tocの熱プレス
で厚さl■のシートに成形し、40X40X1■の試験
片を作成した。160℃のギヤーオーブン中で試験片面
積の80鴫が脆化するまでの時間を測定し、熱および鹸
化安定性を評価した。その結果を表−2に示す。
一温度289〜24(1、ヘッドダイス温度25(1、
回転数20 rpmの押出機によって溶融混練して造粒
した。かくして得られたベレットを2tocの熱プレス
で厚さl■のシートに成形し、40X40X1■の試験
片を作成した。160℃のギヤーオーブン中で試験片面
積の80鴫が脆化するまでの時間を測定し、熱および鹸
化安定性を評価した。その結果を表−2に示す。
また一方、150X80X1−の試験片を作成し、サン
シャインウェーザーメーター(光源;カーボンアーク、
ブラックパネル温度;83±8℃、スプレー周期;t2
O分、スプレ一時間;18分)中で光照射させ、60時
間毎にエビ状に折り曲げ、折れ切れるまでの時間を測定
し、耐候性を評価した。その結果を表−2に示す。
シャインウェーザーメーター(光源;カーボンアーク、
ブラックパネル温度;83±8℃、スプレー周期;t2
O分、スプレ一時間;18分)中で光照射させ、60時
間毎にエビ状に折り曲げ、折れ切れるまでの時間を測定
し、耐候性を評価した。その結果を表−2に示す。
〈配 合〉
未安定化ポリプロピレン i o o 重量sステア
リン酸カルシウム O6l 供試化合物 表に記載 なお、表−2における供試化合物において、記号I−1
〜I−5は表−1に示す耽ンダード型ピペリジン系化合
物を示・し、その他は下記のとおりである。
リン酸カルシウム O6l 供試化合物 表に記載 なお、表−2における供試化合物において、記号I−1
〜I−5は表−1に示す耽ンダード型ピペリジン系化合
物を示・し、その他は下記のとおりである。
夏−6ビスC2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)老バケー ト ■−74−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.6−チトラ
メチルピベリジン 1−8 キマソープ9者4Cキモサ社品)(ヒンダー
ド型ピペリジン系光安 定刻) I −9ホスタビン TMN−20(ヘキスト社品)(
ヒンダード型ピペリジン 系 光安定剤) ■ テトラキス〔メチレン−8−(8,6〜ジーt
−ブチル−4−ハイ ドロキシフエニ火)プロピオネ− トコメタン 1f−1ジラウリル−3,81−チオジプロピオネート 111−2 シミリスチル−8,8′−チオジプロピ
オネート m−a ジステアリル−8S8′−チオジプロピオネ
ート tv−t ペンタエリスリトール−テトラキス(β−
ドデシルチオプロピオネ ート) IV−2ペンタエリスリトール−テトラキス(β−オク
タデシルチオプロピ オネート) 表−1 表−1に示される化合物は本文中に説明したヒンダード
型ピペリジン系化合物の一般式に相当する構造を有し、
R1およびR2は咳一般式における置換基R1,HQに
それぞれ対応する。
リジル)老バケー ト ■−74−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.6−チトラ
メチルピベリジン 1−8 キマソープ9者4Cキモサ社品)(ヒンダー
ド型ピペリジン系光安 定刻) I −9ホスタビン TMN−20(ヘキスト社品)(
ヒンダード型ピペリジン 系 光安定剤) ■ テトラキス〔メチレン−8−(8,6〜ジーt
−ブチル−4−ハイ ドロキシフエニ火)プロピオネ− トコメタン 1f−1ジラウリル−3,81−チオジプロピオネート 111−2 シミリスチル−8,8′−チオジプロピ
オネート m−a ジステアリル−8S8′−チオジプロピオネ
ート tv−t ペンタエリスリトール−テトラキス(β−
ドデシルチオプロピオネ ート) IV−2ペンタエリスリトール−テトラキス(β−オク
タデシルチオプロピ オネート) 表−1 表−1に示される化合物は本文中に説明したヒンダード
型ピペリジン系化合物の一般式に相当する構造を有し、
R1およびR2は咳一般式における置換基R1,HQに
それぞれ対応する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ポリオレフィン樹脂1;、 (I) 下記一般式で示されるヒンダード型ピペリジ
ン系化合物、 (式中、R1は水素原子またはメチル基を表わし、R2
は炭素数2〜18の環を形成していることもあるアルキ
レン基を表わす) (6) テトラキス〔メチレン−8−(8,5−ジ−t
−フチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコ
メクン、 (2) 下記一般式で示されるチオジプロピオネート、
および 8+Cj!2CH2C−0−R3)2 (式中、R3は炭素数12〜18のアルキル基を表わす
) (IV)軍紀一般式で示されるイオウ系化合物1 (R4−8−CH2CH2C−0−CH2CH2(式中
、R4は炭素数4〜20のアルキル基を表わす) を(I):(10:OIO: (EV) =1〜20
: 1 :G−〜16: 0−16”C”!−3”
C”、カッ(Io: C(m + (fV) ]=1=
1〜15(重量比)の割合で配合してなることを特徴と
する安定化ポリオレフィン樹脂組成物 2)ポリオレフィン樹脂がポリプロピレンである特許請
求の範囲第1項に記載の安定化されたぼりオレフィン樹
脂組成物。 し鳳2−WLg である特許請求の範囲第2項に記載の安定化ポリオレフ
ィン樹脂組成物。 4)ヒンダード箪ピペリジン系化合物において、である
特許請求の範sag項に記載の安定化ポリオレフィン樹
脂組成物。 5)チオジプロピオネートがジラウリル−8゜8′−・
チオジプロピオネートである特許請求の範囲第8項及び
賂4項に記載の安定化& IJオレフィン樹脂組成物。 6)チオジプロピオネートがシミリスチル−8,8′−
チオジプロピオネートである特許請求の範囲第8項及び
第4項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物。 7)チオジプロピオネートがジステアリル−8,8′−
チオジプロピオネートである特許請求の範囲第8項及び
第4項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物。 8)イオウ系化合物がペンタエリスリトール−テトラキ
ス(β−ドデシルチオプロピオネート)である特許請求
の範囲第8項及び第4項に記載の安定化ポリオフィン樹
脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5338582A JPS58168641A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5338582A JPS58168641A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58168641A true JPS58168641A (ja) | 1983-10-05 |
Family
ID=12941351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5338582A Pending JPS58168641A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58168641A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62167338A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-23 | Chisso Corp | 難燃性ポリオレフイン組成物 |
US9388338B2 (en) | 2000-08-30 | 2016-07-12 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal mixture |
-
1982
- 1982-03-30 JP JP5338582A patent/JPS58168641A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62167338A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-23 | Chisso Corp | 難燃性ポリオレフイン組成物 |
JPS6352050B2 (ja) * | 1986-01-17 | 1988-10-17 | Chisso Corp | |
US9388338B2 (en) | 2000-08-30 | 2016-07-12 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal mixture |
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