JPS58166736A - エツチング装置 - Google Patents
エツチング装置Info
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- JPS58166736A JPS58166736A JP4913882A JP4913882A JPS58166736A JP S58166736 A JPS58166736 A JP S58166736A JP 4913882 A JP4913882 A JP 4913882A JP 4913882 A JP4913882 A JP 4913882A JP S58166736 A JPS58166736 A JP S58166736A
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- cartridge
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- etched
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエツチング装置に関する。
半導体装置の製造工種において、牛導体博板（ウェハ）
の処！プロセスの一つＶｃ１ウェハ衣面に形成したアル
ミニウム膜を部分的にエツチング除去して配−パターン
を形成する１機がある。この場合のエツチングは、複数
のウェハｔカートリッジに収容した後、エツチング槽、
洗浄槽に順次浸漬させて行なう方法、ある％／Ａは一枚
のウェハをエツチング檜、洗浄権と順次移動させる方法
とがある。
の処！プロセスの一つＶｃ１ウェハ衣面に形成したアル
ミニウム膜を部分的にエツチング除去して配−パターン
を形成する１機がある。この場合のエツチングは、複数
のウェハｔカートリッジに収容した後、エツチング槽、
洗浄槽に順次浸漬させて行なう方法、ある％／Ａは一枚
のウェハをエツチング檜、洗浄権と順次移動させる方法
とがある。
しかし、前者のバツ′チ処瑠では、ウニ八表面のアルミ
ニウム膜の摩さにバラツキがあることから。
ニウム膜の摩さにバラツキがあることから。
一定時間の浸漬エツチングではエツチング不足するＬ／
′ｈｉｊエツチング過多が起き易く、再処１１に必要と
したり、あるいは不良品化による歩留の低下を来たして
しまい生産性が低い欠点がある。また。
′ｈｉｊエツチング過多が起き易く、再処１１に必要と
したり、あるいは不良品化による歩留の低下を来たして
しまい生産性が低い欠点がある。また。
後者の１枚処理では、１枚ずつエツチングの状況音観察
等したりして行なうことから、適正なエツチングが行な
われる可ｍ性か馬すか、１枚処１であることから、作業
性か低く生ｍ性か低い一点がある。
等したりして行なうことから、適正なエツチングが行な
われる可ｍ性か馬すか、１枚処１であることから、作業
性か低く生ｍ性か低い一点がある。
したがって１本発＠Ｏ目的は適正なエツチングか行なえ
かつ生産性Ｏ高いエツチング装置を提供すること！／ｃ
Ｔｏる。
かつ生産性Ｏ高いエツチング装置を提供すること！／ｃ
Ｔｏる。
このようなら的を達成するために本ｌｉ明は、複数の普
エツチング物會収容しｔカートリッジ會エツチング権、
洗浄槽と順次浸漬させて複エツチング物會エツチングす
るエツチング載置におＡで、エツチング前の各被エツチ
ング物の複エツチング厚さ’ｋｉｌＪ定する測定機構と
、一定の被エツチング層さ領域ＯＩＩエツチング物群暫
単−のカートリッジに収容する機構と、このカートリッ
ジ？ｒｓｍするとともに前記測定機構による情報に基い
て所定時間カートリッジ？エツチング槽に浸漬さぜるハ
ンドク機榊と、？有するものであって、以下実施ガによ
り本発明？説明する。
エツチング物會収容しｔカートリッジ會エツチング権、
洗浄槽と順次浸漬させて複エツチング物會エツチングす
るエツチング載置におＡで、エツチング前の各被エツチ
ング物の複エツチング厚さ’ｋｉｌＪ定する測定機構と
、一定の被エツチング層さ領域ＯＩＩエツチング物群暫
単−のカートリッジに収容する機構と、このカートリッ
ジ？ｒｓｍするとともに前記測定機構による情報に基い
て所定時間カートリッジ？エツチング槽に浸漬さぜるハ
ンドク機榊と、？有するものであって、以下実施ガによ
り本発明？説明する。
＠１図は本発明の一実施例によるエツチング装置の外ｌ
！を示す斜視図、第２図は同じく各部の機構を示す斜捗
図である。
！を示す斜視図、第２図は同じく各部の機構を示す斜捗
図である。
このエツチング装置ｔは第１図に示すように、左から右
に向かってウェハ供給部１．被エツチング物であるウェ
ハ２の被エツチング換の摩さｔ測定する測定機構３．測
定機＠３によって測定され友ウェハ２を収容するカート
リッジｌ−支持するエツチング用供給部５．エツチング
檜６．洗浄槽７゜テーブル部８と並んでいる。
に向かってウェハ供給部１．被エツチング物であるウェ
ハ２の被エツチング換の摩さｔ測定する測定機構３．測
定機＠３によって測定され友ウェハ２を収容するカート
リッジｌ−支持するエツチング用供給部５．エツチング
檜６．洗浄槽７゜テーブル部８と並んでいる。
つぎに、前記各部および各部ｒ連結する機構群について
、第２図をも参癌しながら説明する。
、第２図をも参癌しながら説明する。
ウェハ供給ｓ１はカートリッジ昇降機構９を有している
。このカートリッジ昇降機１１１９Ｆｉウエハ２ケそれ
ぞれ１対の溝で支持する構造のカートリッジ４ｒその挿
脱ロｔ−掬定機構３霧に対面させて支持する支持台１０
を有している。この支持台１０はモータＩＩＫよる正逆
回転によって、昇降する。
。このカートリッジ昇降機１１１９Ｆｉウエハ２ケそれ
ぞれ１対の溝で支持する構造のカートリッジ４ｒその挿
脱ロｔ−掬定機構３霧に対面させて支持する支持台１０
を有している。この支持台１０はモータＩＩＫよる正逆
回転によって、昇降する。
ま几、支持台１０に載置され九カー） １７ツジ４の背
１ｊ７Ｊｌｌにはブツシャ１２が配設されている。この
ブツシャ１２はロンド１８を突出させた際、先端の送９
片１４ｔカートリッジ４の背面かう内ＩＳに挿入して一
定高さに位置するウェハ２１１：押し、カートリッジ番
の前方に送ｐ出すようになっている。
１ｊ７Ｊｌｌにはブツシャ１２が配設されている。この
ブツシャ１２はロンド１８を突出させた際、先端の送９
片１４ｔカートリッジ４の背面かう内ＩＳに挿入して一
定高さに位置するウェハ２１１：押し、カートリッジ番
の前方に送ｐ出すようになっている。
また、ウェハ供給ｉｌｌとエツチング用供ＭＷとの関に
は２条のローブ１５からなる前後進かつ途中停止可能な
コンベア１６が配設され、前記ブツシャ１２１ｃよって
送ｐ出され几ウェハ２を搬送するようになっている。エ
ツチング用供給部６にもウェハ供給部ｌと同様にモータ
１７によって昇降する支持台１８’に一’Ｎするカート
リッジ昇降機構１９１ｒ有している。しかし、この支持
台１８は載置するカートリッジ４の背面ｒも支持するよ
うにＬ字形となっている。また、この支持台１８は他の
モータ２０の正逆回動によってカートリッジ番の背面１
１１１に９０［揺（ロ）動するようになっている。さら
に、この支持台１８［は図示はしないかＵ字形の切欠き
か設けられ、前記コンベア１６の一端ｓＩＩが臨むよう
になっている。このため、エツチング用供給部５０カー
） ＩＪツジ４内にウェハ２が人っていない伏動でに干
渉することなく支持台１８およびカートリッジ４は昇降
できる。したかって、この支持台１８上のカートリッジ
４に前記コンベア１６で違はれて来たウェハ２″’に収
容する際には、カー） ＩＪツジ４の最上段の溝から下
方に向かって一段ずつウェハ２１１−収容する。
は２条のローブ１５からなる前後進かつ途中停止可能な
コンベア１６が配設され、前記ブツシャ１２１ｃよって
送ｐ出され几ウェハ２を搬送するようになっている。エ
ツチング用供給部６にもウェハ供給部ｌと同様にモータ
１７によって昇降する支持台１８’に一’Ｎするカート
リッジ昇降機構１９１ｒ有している。しかし、この支持
台１８は載置するカートリッジ４の背面ｒも支持するよ
うにＬ字形となっている。また、この支持台１８は他の
モータ２０の正逆回動によってカートリッジ番の背面１
１１１に９０［揺（ロ）動するようになっている。さら
に、この支持台１８［は図示はしないかＵ字形の切欠き
か設けられ、前記コンベア１６の一端ｓＩＩが臨むよう
になっている。このため、エツチング用供給部５０カー
） ＩＪツジ４内にウェハ２が人っていない伏動でに干
渉することなく支持台１８およびカートリッジ４は昇降
できる。したかって、この支持台１８上のカートリッジ
４に前記コンベア１６で違はれて来たウェハ２″’に収
容する際には、カー） ＩＪツジ４の最上段の溝から下
方に向かって一段ずつウェハ２１１−収容する。
一方、前記測定ａ構３はコンベア１６の中間に位置して
いる。この測定機構３は一般公知の差電圧検出方式とな
っていて、コンベア１６によって搬送さｎるウェハ２の
上方に励振コイル２１’）、下方に検出コイル２２１ｒ
それぞれ配置した構造となってｂる。また、囚示はしな
いがこの機構内には補償コイルｔ４有している。そして
、ウェハ２の異面の仮エツチング膜（たとえはアルイニ
ウムｇｌ）の岸さ１１−測定する場合には、励振コイル
２１と検出コイル２２間にウェハ２を位置させ、励振コ
イル２１とウェハ２間、ウェハ２と検出コイル２２間の
相互電磁電鐸導によって生じた誘起起電力を検出コイル
２２と補償コイルとの偏差電圧として取り出し、ウェハ
の豪エツチング換の厚さｔ測定するものである。したが
って、この測定機構ではＩＩ＠定物は導電性のものに＠
られる。なお、測定機構として静寛容量電位針等によっ
て豪エツチング鱗の厚さの測定【行なってもよい。前記
測定情報は装置内に内ｌＥされている制御系に送られる
。
いる。この測定機構３は一般公知の差電圧検出方式とな
っていて、コンベア１６によって搬送さｎるウェハ２の
上方に励振コイル２１’）、下方に検出コイル２２１ｒ
それぞれ配置した構造となってｂる。また、囚示はしな
いがこの機構内には補償コイルｔ４有している。そして
、ウェハ２の異面の仮エツチング膜（たとえはアルイニ
ウムｇｌ）の岸さ１１−測定する場合には、励振コイル
２１と検出コイル２２間にウェハ２を位置させ、励振コ
イル２１とウェハ２間、ウェハ２と検出コイル２２間の
相互電磁電鐸導によって生じた誘起起電力を検出コイル
２２と補償コイルとの偏差電圧として取り出し、ウェハ
の豪エツチング換の厚さｔ測定するものである。したが
って、この測定機構ではＩＩ＠定物は導電性のものに＠
られる。なお、測定機構として静寛容量電位針等によっ
て豪エツチング鱗の厚さの測定【行なってもよい。前記
測定情報は装置内に内ｌＥされている制御系に送られる
。
また、測定機ｔｌｌｌ１１３によって測定さｎたウェハ
２ｔウエハ供給ｓ５０前方からカートリッジ６内にｆｓ
ｐ込むブツシャ２３−ｆｉ配般されている。このプラシ
ャ２３はモータ２４の正逆回転によってコンベア１６の
移動方向に沿って往復動するとともに、ブツシャ昇降＠
＠２５によって昇降するようになっていて、常時に上昇
位置＆’ｌす、コンベア１６によって搬送されるウニ／
％２と干渉しないようになっている。すなわち、コンベ
ア１６上のウニ・・２ｔウエハ供給ｓ５のカートリッジ
４ＩＩｃ再び挿入する際には下降した後、前進してコン
ベア１６上のウェハ２を押してカートリッジ４内に挿入
する。
２ｔウエハ供給ｓ５０前方からカートリッジ６内にｆｓ
ｐ込むブツシャ２３−ｆｉ配般されている。このプラシ
ャ２３はモータ２４の正逆回転によってコンベア１６の
移動方向に沿って往復動するとともに、ブツシャ昇降＠
＠２５によって昇降するようになっていて、常時に上昇
位置＆’ｌす、コンベア１６によって搬送されるウニ／
％２と干渉しないようになっている。すなわち、コンベ
ア１６上のウニ・・２ｔウエハ供給ｓ５のカートリッジ
４ＩＩｃ再び挿入する際には下降した後、前進してコン
ベア１６上のウェハ２を押してカートリッジ４内に挿入
する。
その後、後退した後再び上昇して停止する。
他方、エツチング用供＃＠ｓ５からテーブル部８に亘る
側部（背面）に沿って往復動し〃・つカートリッジ４ｋ
Ｎ持するクランパ２６ＱＪする・・ンドラ２７が配設さ
れてしる。また、クランパ２６に支持するアーム２８に
昇降可能となり、床付したカートリッジ４ケエツチング
檜６内のエツチング液２９や洗浄４！１７内の洗浄ＷＩ
２３中に浸漬できるようになっている。
側部（背面）に沿って往復動し〃・つカートリッジ４ｋ
Ｎ持するクランパ２６ＱＪする・・ンドラ２７が配設さ
れてしる。また、クランパ２６に支持するアーム２８に
昇降可能となり、床付したカートリッジ４ケエツチング
檜６内のエツチング液２９や洗浄４！１７内の洗浄ＷＩ
２３中に浸漬できるようになっている。
つぎに、一連のエツチング動作について説明する。ウェ
ハ供給ｓｌのカートリッジ４円に収容さｎたウニ・・２
は最上段あるいは最下段から順次１枚ずつコンベア１６
上にブツシャ１２によって送り出される。送り出された
ウニ／１２はコンベア１６によって測定機構３０励振コ
イル２１と検出コイル２２との間に這ｄｆ′Ｌ為。静止
したウニ／−２に対して、膜厚検出が行なわれ、ウニＩ
２Ｏ真面の豪エツチング展であるアルイニウムｇｏ厚さ
ｔ検出する。この測定情報は制御系に人力される。その
後、コンベア１６Ｗｒ！ｍｌ−させてウェハ２を後退さ
ゼ、ウェハ供給部１のカートリッジ４前方に位置させ、
このウェハ２ｔブツシヤ２３によって再びウェハ供給部
１のカートリッジ４内に収容する。
ハ供給ｓｌのカートリッジ４円に収容さｎたウニ・・２
は最上段あるいは最下段から順次１枚ずつコンベア１６
上にブツシャ１２によって送り出される。送り出された
ウニ／１２はコンベア１６によって測定機構３０励振コ
イル２１と検出コイル２２との間に這ｄｆ′Ｌ為。静止
したウニ／−２に対して、膜厚検出が行なわれ、ウニＩ
２Ｏ真面の豪エツチング展であるアルイニウムｇｏ厚さ
ｔ検出する。この測定情報は制御系に人力される。その
後、コンベア１６Ｗｒ！ｍｌ−させてウェハ２を後退さ
ゼ、ウェハ供給部１のカートリッジ４前方に位置させ、
このウェハ２ｔブツシヤ２３によって再びウェハ供給部
１のカートリッジ４内に収容する。
このようにして、ウニ／Ｓ供給５ＩＩＤ力−トリツジ番
内の全ウェハ２の豪エツチング膜Ｏ属厚を測定する。
内の全ウェハ２の豪エツチング膜Ｏ属厚を測定する。
つぎに、前記測定情＠に基いて、エツチング不足やエツ
チング過多が生じないｍ＊ｏａ厚のばらつき領域のウェ
ハ２のみｔｌｔＩＩＩＩＩ系によって制御し、ウェハ供
給部ｌのカートリッジ昇眸像構９を動作させるとともに
グツシャ１８によりてウニ／Ｓ２を送りＩｔｌ（、、コ
ンベア１６によってエツチング用供給部５のカートリッ
ジ４内に上方から下方に向かって順次収容する。そして
、一定の仮エツチング厚さ領域のウェハ２ｒエツチング
用供給ｓ５のカートリッジ４に収容した後、モータ２０
に正転させてＬ字形支持台１８？！−９０縦回動させて
倒す。
チング過多が生じないｍ＊ｏａ厚のばらつき領域のウェ
ハ２のみｔｌｔＩＩＩＩＩ系によって制御し、ウェハ供
給部ｌのカートリッジ昇眸像構９を動作させるとともに
グツシャ１８によりてウニ／Ｓ２を送りＩｔｌ（、、コ
ンベア１６によってエツチング用供給部５のカートリッ
ジ４内に上方から下方に向かって順次収容する。そして
、一定の仮エツチング厚さ領域のウェハ２ｒエツチング
用供給ｓ５のカートリッジ４に収容した後、モータ２０
に正転させてＬ字形支持台１８？！−９０縦回動させて
倒す。
つぎに、・・ンドラ２７′ｐ！ｒ動作させて転倒して挿
脱口を上方とし之エツチング用供給部５のカートリッジ
４【クランパ２６でクランプした彼、搬送してカートリ
ッジ４にエツチング檜６円のエツチング液２９中ｔｌｃ
ＰｆＩ定時間浸漬させて各ウニＩ・２の表面のアルばニ
ウム膜のエツチングを行なう。この際のエツチング時間
は、前記測定機構３の測定情報に基すて自動的に設定す
る。エツチング後は、ハンドラ２７によってカートリッ
ジ４ｉ洗浄檜７の洗浄液３０中に所定時間浸漬させて洗
浄を行なった後に、カートリッジ４ｒテーブル部８に１
筺する。
脱口を上方とし之エツチング用供給部５のカートリッジ
４【クランパ２６でクランプした彼、搬送してカートリ
ッジ４にエツチング檜６円のエツチング液２９中ｔｌｃ
ＰｆＩ定時間浸漬させて各ウニＩ・２の表面のアルばニ
ウム膜のエツチングを行なう。この際のエツチング時間
は、前記測定機構３の測定情報に基すて自動的に設定す
る。エツチング後は、ハンドラ２７によってカートリッ
ジ４ｉ洗浄檜７の洗浄液３０中に所定時間浸漬させて洗
浄を行なった後に、カートリッジ４ｒテーブル部８に１
筺する。
この間、エツチング用供給Ｎ５５のＬ字形支持台ｌｓｔ
元Ｉｃ１ｊＣシた後、この支持台１８上に空のカートリ
ッジ４會載置し、この空カートリッジＬＩＣ他の被エツ
チング膜厚群のウエノ４’に収容して再度エツチング時
開音設定してエツチングを行なう。
元Ｉｃ１ｊＣシた後、この支持台１８上に空のカートリ
ッジ４會載置し、この空カートリッジＬＩＣ他の被エツ
チング膜厚群のウエノ４’に収容して再度エツチング時
開音設定してエツチングを行なう。
このような実施ＩＦ１によればエッチング不足、エツチ
ング過多が生じない程度の膜厚群のウニ・・を一群とし
、かつ適正なエツチング時間を選択してエツチングを行
なうことから、従来のようなエッチング不足、エツチン
グ過多は防止できるＣ３仁のため、エツチング不足によ
る再エツチングか工費となることから、再エツチング作
業が不費となる。
ング過多が生じない程度の膜厚群のウニ・・を一群とし
、かつ適正なエツチング時間を選択してエツチングを行
なうことから、従来のようなエッチング不足、エツチン
グ過多は防止できるＣ３仁のため、エツチング不足によ
る再エツチングか工費となることから、再エツチング作
業が不費となる。
また、エツチング過多による不良は発生しないことから
歩留の向上か図れる。また、パンチ処理によるため大量
にエツチングか行なえ生産株か向上する。
歩留の向上か図れる。また、パンチ処理によるため大量
にエツチングか行なえ生産株か向上する。
なお１本発明は前記！ｊ！施例に限定されない。たとえ
ば、被エツチング物は他の１のでもよ−、また、被エツ
チング物の厚さグループ毎に分類選別してエツチングを
行なう方法は、実ＮＡｆｌＩのようなウェットエツチン
グ以外のドライエツチングに一遍用できる〇 以上のように、本発明によれば適正なエツチングが行な
えかつ生産性の高いエツチング装筐會徒供することかで
きる。
ば、被エツチング物は他の１のでもよ−、また、被エツ
チング物の厚さグループ毎に分類選別してエツチングを
行なう方法は、実ＮＡｆｌＩのようなウェットエツチン
グ以外のドライエツチングに一遍用できる〇 以上のように、本発明によれば適正なエツチングが行な
えかつ生産性の高いエツチング装筐會徒供することかで
きる。
第１図に本発明の一実施例によるエツチング装置の外観
を示す斜視図、第２図は同じく一部の機構を示す斜視図
である。 ｌ・・・ウェハ供給部、２・・・ウエノ・、３・・・測
定機構。 ４・・・カートリッジ、５・・・エツチング用供給部、
６・・・エツチング権、７・・・洗浄槽、８・・・テー
ブル部、１２・・・ブツシャ、１６・・・コンベア、２
１・・・励振コイル、２２・・・検出コイル、２３・・
・ブツシャ、２７・・・ハンドラ。 代理人 弁理士 薄 １）利 幸゛、
を示す斜視図、第２図は同じく一部の機構を示す斜視図
である。 ｌ・・・ウェハ供給部、２・・・ウエノ・、３・・・測
定機構。 ４・・・カートリッジ、５・・・エツチング用供給部、
６・・・エツチング権、７・・・洗浄槽、８・・・テー
ブル部、１２・・・ブツシャ、１６・・・コンベア、２
１・・・励振コイル、２２・・・検出コイル、２３・・
・ブツシャ、２７・・・ハンドラ。 代理人 弁理士 薄 １）利 幸゛、
Claims (1)
- １、複数の豪エツチング物會収容したカー） ＩＪツジ
ｔエツチング槽、洗浄槽と順次浸漬させて儂エツチング
物ｔエツチングするエツチング不足直において、エツチ
ング前の各蜜エツチング物の豪エツチング厚さを測定す
る測定機構と、一定の複エツチング厚さ領域の被エツチ
ング暢群を単一のカートリッジに収容する機構と、この
カートリッジを保持するとともに前記測定機構による情
報に基いて所定時間カートリッジｔエツチング檜に浸漬
させるハンドラ機構と、ｋＷすること１１：特徴とする
エツチング装置Ｆ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4913882A JPS58166736A (ja) | 1982-03-29 | 1982-03-29 | エツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4913882A JPS58166736A (ja) | 1982-03-29 | 1982-03-29 | エツチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58166736A true JPS58166736A (ja) | 1983-10-01 |
Family
ID=12822710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4913882A Pending JPS58166736A (ja) | 1982-03-29 | 1982-03-29 | エツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58166736A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278828A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 表面処理方法およびその装置 |
| KR100847582B1 (ko) | 2007-06-26 | 2008-07-21 | 세크론 주식회사 | 반도체소자 이송시스템 및 이를 이용하는 반도체소자이송방법 |
| CN105118802A (zh) * | 2015-09-06 | 2015-12-02 | 昊诚光电（太仓）有限公司 | 电池片背面抛光用水膜厚度控制装置 |
-
1982
- 1982-03-29 JP JP4913882A patent/JPS58166736A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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