JPS5816552A - 半導体素子用パッケ−ジ - Google Patents
半導体素子用パッケ−ジInfo
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- JPS5816552A JPS5816552A JP56114724A JP11472481A JPS5816552A JP S5816552 A JPS5816552 A JP S5816552A JP 56114724 A JP56114724 A JP 56114724A JP 11472481 A JP11472481 A JP 11472481A JP S5816552 A JPS5816552 A JP S5816552A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体素子を収容するセラ之ツクA=ッケー
ジに関する。
ジに関する。
半導体素子特にLSIなどの多数の端子を持つ素子のパ
ッケージには第1図に示すように1多層セラミック板を
利用したものがある。この図で10はLSIチップ、2
0は骸チップを搭載、収容するパッケージである。パッ
ケージ20の本体部は厚みα5−程度のグリーンシート
にタングステン(W)ベーメトで所要の配線を施した亀
のを所要枚数例えば4〜6枚程度重ね、圧着して例えば
1500〜1600℃の高温で焼結したもので、21.
22・・−・・25はその各層を示す0本例では層21
に半導体チップ10を取付社るステージパターン21m
が設けられ1層24にインナーパターン24mが−とて
最上部の層25にはシールパターン25mが般社られる
。これらの各パターンの平面形状を第5図に示す、この
85図に示すようにステージパターン21mは正方形又
は矩形であって、半導体チップ10よりや−大きい寸法
を持つ、インナーパターン24mは多数放射状に並ぶ(
図面では一部のみ示す)ポンディングパッド部であって
、半導体チップ10の外部端子数だ妙あり、該外部端子
とはワイヤ12により接続される。シールパターン25
mはインナーパターン24mを囲む角環状体で、ステー
ジパターンに半導体チップが取付けられ1インナーノゝ
ターンにワイヤボンディングがなされた後でキャップ1
4が取付けられる。
ッケージには第1図に示すように1多層セラミック板を
利用したものがある。この図で10はLSIチップ、2
0は骸チップを搭載、収容するパッケージである。パッ
ケージ20の本体部は厚みα5−程度のグリーンシート
にタングステン(W)ベーメトで所要の配線を施した亀
のを所要枚数例えば4〜6枚程度重ね、圧着して例えば
1500〜1600℃の高温で焼結したもので、21.
22・・−・・25はその各層を示す0本例では層21
に半導体チップ10を取付社るステージパターン21m
が設けられ1層24にインナーパターン24mが−とて
最上部の層25にはシールパターン25mが般社られる
。これらの各パターンの平面形状を第5図に示す、この
85図に示すようにステージパターン21mは正方形又
は矩形であって、半導体チップ10よりや−大きい寸法
を持つ、インナーパターン24mは多数放射状に並ぶ(
図面では一部のみ示す)ポンディングパッド部であって
、半導体チップ10の外部端子数だ妙あり、該外部端子
とはワイヤ12により接続される。シールパターン25
mはインナーパターン24mを囲む角環状体で、ステー
ジパターンに半導体チップが取付けられ1インナーノゝ
ターンにワイヤボンディングがなされた後でキャップ1
4が取付けられる。
パッケージ20の最下部の層25には端子ビン16が取
付けられ、これらの端子ビンはインナーパターンの各々
に、パッケージ20の各層の配線および各層を貫通する
スルーホール部の配線(点線30で示す)を通して接続
される。この端子ピン16の側面図を第6図に、平面図
を第7図に示す。端子ビン16は全て同じ短棒状である
が、四隅にあるピンのみ突出部14mを持ち、これはプ
リント板に本パッケージの端子ビンを挿込んだときのス
トッパとなる。第7図に示されるように端子ビンは複数
列配設され、インナーパターン24mの各エレメントの
個数以上ある。
付けられ、これらの端子ビンはインナーパターンの各々
に、パッケージ20の各層の配線および各層を貫通する
スルーホール部の配線(点線30で示す)を通して接続
される。この端子ピン16の側面図を第6図に、平面図
を第7図に示す。端子ビン16は全て同じ短棒状である
が、四隅にあるピンのみ突出部14mを持ち、これはプ
リント板に本パッケージの端子ビンを挿込んだときのス
トッパとなる。第7図に示されるように端子ビンは複数
列配設され、インナーパターン24mの各エレメントの
個数以上ある。
パッケージ200灸層の配線はインナーパターン241
と端子ビン16とを結ぶものであるが、それ以外にメッ
キ用の導線となる。即ちステージパターン21mおよび
インナーパターン24aなどは露出藺、は圧着による接
続を可能とするため金(ムU)層とするが、セラミック
の焼結温度が高くて耐えられないので、グリ゛−ンシー
)K施す電極配線パターンはタングステンペーストによ
るものとし、か\る状態で焼結し、その後金メッキする
。
と端子ビン16とを結ぶものであるが、それ以外にメッ
キ用の導線となる。即ちステージパターン21mおよび
インナーパターン24aなどは露出藺、は圧着による接
続を可能とするため金(ムU)層とするが、セラミック
の焼結温度が高くて耐えられないので、グリ゛−ンシー
)K施す電極配線パターンはタングステンペーストによ
るものとし、か\る状態で焼結し、その後金メッキする
。
詳しくはに一’2図に示すようにセラミック基板上タン
グステン層32にニッケル(N s )層34を電解メ
ッキし、その上に金(ムU)層36を電解メッキする。
グステン層32にニッケル(N s )層34を電解メ
ッキし、その上に金(ムU)層36を電解メッキする。
電解メッキに際しては電圧を加える必要があるが、この
電圧印加はピン16へ至る配線を分岐してパッケージ2
0の側面へ出るようKL、該側面に導電層38を設け、
この導電層38に電圧を加えて行なう。メッキが済めば
導電層38は不要であシ、シかもこの導電層がありたの
では全端子ピンが短絡されるから、研磨によシ除去する
。従って研磨後は第3図に示すようにパッケージ側面に
メッキ用導線の切断面50aが露出しており、これが本
例の如きRI’l’パッケージの特徴である。
電圧印加はピン16へ至る配線を分岐してパッケージ2
0の側面へ出るようKL、該側面に導電層38を設け、
この導電層38に電圧を加えて行なう。メッキが済めば
導電層38は不要であシ、シかもこの導電層がありたの
では全端子ピンが短絡されるから、研磨によシ除去する
。従って研磨後は第3図に示すようにパッケージ側面に
メッキ用導線の切断面50aが露出しており、これが本
例の如きRI’l’パッケージの特徴である。
導電層38の除去はメッキ後に行ない、半導体素子搭載
はその後である。またメッキし、導電層38を除去した
パッケージは、パッケージとしては完成品であ如、従っ
てユーザへの販売対象にもなる。か\るパッケージへ半
導体素子を搭載し、ワイヤボンディングを行ない、キャ
ップを取付けて半導体装置として完成する際、作業者は
該パッケージを手で持りて移動し、所定箇所へ設置しと
いった操作を必然的に行なうととkなるが、その際多く
の者はパッケージの両側部を抑えて持つ。
はその後である。またメッキし、導電層38を除去した
パッケージは、パッケージとしては完成品であ如、従っ
てユーザへの販売対象にもなる。か\るパッケージへ半
導体素子を搭載し、ワイヤボンディングを行ない、キャ
ップを取付けて半導体装置として完成する際、作業者は
該パッケージを手で持りて移動し、所定箇所へ設置しと
いった操作を必然的に行なうととkなるが、その際多く
の者はパッケージの両側部を抑えて持つ。
この際、該両側部には導線切断面が露出しており、そし
て周知のように人体は静電気を持っているから、ステー
ジパターンに半導体・素子が搭載され、インナーパター
ンにワイヤボンディングがなされた後であると、半導体
素子に該静電気による高電圧が印加されて半導体素子が
絶縁破壊される恐れがある。
て周知のように人体は静電気を持っているから、ステー
ジパターンに半導体・素子が搭載され、インナーパター
ンにワイヤボンディングがなされた後であると、半導体
素子に該静電気による高電圧が印加されて半導体素子が
絶縁破壊される恐れがある。
本発明はか\る点を改善しようとするものであって、特
徴とするところは側面に導線の切断面が露出する半導体
素子用パッケージにおいて、核切断面が側面中央部に来
るように導線を配置し、そして該側面中央部を側面両端
縁よシ凹ませ九ことにある。第4図にその実施例を示す
。
徴とするところは側面に導線の切断面が露出する半導体
素子用パッケージにおいて、核切断面が側面中央部に来
るように導線を配置し、そして該側面中央部を側面両端
縁よシ凹ませ九ことにある。第4図にその実施例を示す
。
メッキ後は導電層38を研削して除去するが本発明では
該研削を更に進めてパッケージ側面を(1)図のように
三角状に、または(b)図の如く溝状に1あるいは(@
)図の如く弧状にくほませる。またメッキ用導線°はパ
ッケージ側面の両端縁20m、20bを外して中間部に
集まシ、切断面30mはくほんだ該中間部#/cあるよ
うKする。このようKすればパッケージ両側面を手で抑
えて持っても切断面30aK手が触れることはなく、ひ
いては半導体素子が静電気による高電圧で絶縁破壊され
ることはない。
該研削を更に進めてパッケージ側面を(1)図のように
三角状に、または(b)図の如く溝状に1あるいは(@
)図の如く弧状にくほませる。またメッキ用導線°はパ
ッケージ側面の両端縁20m、20bを外して中間部に
集まシ、切断面30mはくほんだ該中間部#/cあるよ
うKする。このようKすればパッケージ両側面を手で抑
えて持っても切断面30aK手が触れることはなく、ひ
いては半導体素子が静電気による高電圧で絶縁破壊され
ることはない。
凹部の形状は適宜のものであってよいが第4図(&)
、 (c)のように端縁20m、20bが尖鋭であると
取扱い中に欠ける恐れがあり、この点では第4図(b)
の形状が好ましい。凹部の深さは、手で持ったとき手が
切断面30aK触れない程度であるから数置以下の微小
なものでよい、第6図は第4図(b)の形状の凹部とし
たパッケージ側面を示す。切断面30mは一部のみ説明
的に示す。
、 (c)のように端縁20m、20bが尖鋭であると
取扱い中に欠ける恐れがあり、この点では第4図(b)
の形状が好ましい。凹部の深さは、手で持ったとき手が
切断面30aK触れない程度であるから数置以下の微小
なものでよい、第6図は第4図(b)の形状の凹部とし
たパッケージ側面を示す。切断面30mは一部のみ説明
的に示す。
以上説明したように本発明によれば導線切断面が露出し
ている半導体素子セラミックパッケージの側面を、その
導電層を切除する際の研削を側面中間部においてや\深
く行ない、骸中間部にメッキ用導線が集まるようにして
おくという簡単な手段によシ、取扱い中の半導体素子の
絶縁破壊を回避することができ、絶縁被徨を施すなどの
付加手段を要し工程を増す方式に比べてコスト的、汚染
回避、その他の面で有利である。
ている半導体素子セラミックパッケージの側面を、その
導電層を切除する際の研削を側面中間部においてや\深
く行ない、骸中間部にメッキ用導線が集まるようにして
おくという簡単な手段によシ、取扱い中の半導体素子の
絶縁破壊を回避することができ、絶縁被徨を施すなどの
付加手段を要し工程を増す方式に比べてコスト的、汚染
回避、その他の面で有利である。
第1図はセラミックパッケージの構造を示す断面図、第
2図はインナーパターン部などの断面構造を示す図、第
3図は主としてメッキ用導線部を示す断面図、第4図は
本発明の実施例を示す部分断面−図、第5図はセラミッ
クパッケージの平面図、第6図は同側面図、第7図は同
底面図である。 図面で50mは導J!切断面、10は半導体素子、20
はパッケージ、20 m −20bはパッケージの両端
縁である。 出願人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔第1図 第2図 第3図 6 第4図 第5図
2図はインナーパターン部などの断面構造を示す図、第
3図は主としてメッキ用導線部を示す断面図、第4図は
本発明の実施例を示す部分断面−図、第5図はセラミッ
クパッケージの平面図、第6図は同側面図、第7図は同
底面図である。 図面で50mは導J!切断面、10は半導体素子、20
はパッケージ、20 m −20bはパッケージの両端
縁である。 出願人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔第1図 第2図 第3図 6 第4図 第5図
Claims (1)
- 側面に導線の切断面が露出する半導体素子用パッケージ
において、峡切断面が側面中央部に来るように導線を配
置し、セして該側−中央部を側面両端縁より凹ませたこ
とを特徴とする半導体素子用パッケージ。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56114724A JPS5816552A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 半導体素子用パッケ−ジ |
US06/400,035 US4458291A (en) | 1981-07-22 | 1982-07-20 | Package for enclosing semiconductor elements |
EP82303884A EP0071423B1 (en) | 1981-07-22 | 1982-07-22 | Packages for enclosing semiconductor elements |
DE8282303884T DE3278599D1 (en) | 1981-07-22 | 1982-07-22 | Packages for enclosing semiconductor elements |
IE1757/82A IE53953B1 (en) | 1981-07-22 | 1982-07-22 | Packages for enclosing semiconductor elements |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56114724A JPS5816552A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 半導体素子用パッケ−ジ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5816552A true JPS5816552A (ja) | 1983-01-31 |
JPS6242386B2 JPS6242386B2 (ja) | 1987-09-08 |
Family
ID=14645029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56114724A Granted JPS5816552A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 半導体素子用パッケ−ジ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4458291A (ja) |
EP (1) | EP0071423B1 (ja) |
JP (1) | JPS5816552A (ja) |
DE (1) | DE3278599D1 (ja) |
IE (1) | IE53953B1 (ja) |
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-
1981
- 1981-07-22 JP JP56114724A patent/JPS5816552A/ja active Granted
-
1982
- 1982-07-20 US US06/400,035 patent/US4458291A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-07-22 EP EP82303884A patent/EP0071423B1/en not_active Expired
- 1982-07-22 IE IE1757/82A patent/IE53953B1/en not_active IP Right Cessation
- 1982-07-22 DE DE8282303884T patent/DE3278599D1/de not_active Expired
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---|---|
EP0071423A3 (en) | 1985-01-09 |
IE53953B1 (en) | 1989-04-26 |
EP0071423A2 (en) | 1983-02-09 |
US4458291A (en) | 1984-07-03 |
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