JPS58165213A - 透明電極の形成方法 - Google Patents

透明電極の形成方法

Info

Publication number
JPS58165213A
JPS58165213A JP4932282A JP4932282A JPS58165213A JP S58165213 A JPS58165213 A JP S58165213A JP 4932282 A JP4932282 A JP 4932282A JP 4932282 A JP4932282 A JP 4932282A JP S58165213 A JPS58165213 A JP S58165213A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent electrode
electrode
forming
metal
deposited
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4932282A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0340451B2 (ja
Inventor
謙次 岡元
雅行 脇谷
佐藤 精威
三浦 照信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP4932282A priority Critical patent/JPS58165213A/ja
Publication of JPS58165213A publication Critical patent/JPS58165213A/ja
Publication of JPH0340451B2 publication Critical patent/JPH0340451B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (&)発明の技術公費 本発明は低抵抗の透明電極を形成する方法に係り、さら
に具体的には透明電極に低抵抗金属の補助電極を付設す
る方法の改良に関するものである。
山) 従来技術と問題点 例えばエレクトロルミネッセンス表示装置や液晶表示装
置のようなディスプレイパネル等に用いられる透明電極
の低抵抗化を図るために、透明電極に低抵抗金属の補助
電極を付設する方法が採られている。すなわち41図お
よびiI2図に示すように、例えばガラス基板l上に線
状の透明電極2を形成し、その透明電極2上面の両側(
あるいは片It)に低抵抗金属の線巾の細い補助電極8
を配設した構成がとられている。ところで、従来このよ
うな補助電極8の形成は、透明電極2とは別のホトリソ
グラフ工程で形成しており、工程数の増加、目合せの必
要性、さらに使用するホトマスクの加工限界により補助
電極8の巾の下限が制限されるという問題があった。
(e)  発明の目的 本発明は前述の点に鑑みなされたもので、工程が簡単で
かつ乾式であり、しかも線巾が細く且つ透明電極の透明
性を十分維持できる補助電極の形成方法の提供を目的と
する。
(d)  発明の構成 上記目的を達成するために本発明は、絶縁基板上に所定
形状の透明電極を形成し前記透明電極の上面を絶縁物で
被覆した状態で、斜め上方より金属膜を蒸着し、しかる
後透明電極上の絶縁物表面に被着した金属膜を当該絶縁
物層とともに剥離して除去することにより、透明電極縁
端部とその隣接部に金属補助電極を形成することを特徴
とするものである。
する。
第8図〜第6図は、本発明による透明電極の形成方法を
説明するための要部断面図で順次に示した工程図である
。まずjI8図に示すように、ガラス基板11上に例え
ばイしジウム錫酸化物(It))の透明電極となるべき
−”i導電膜1かを形成し、その導電膜12a上iこ所
定゛ンマターンの例えばポジ形。、、X4層、41リ−
2ツグオる。
次にポジ形ホトレジスト層14をマスクとして透明導電
膜12&をエツチングすることにより、第4図に示すよ
うにガラス基板11r石定パターンしかるLfJtJ記
ホトレジスト層14を除去せずに、透明電極12bの上
面をホトレジスト層14で被覆した状態で、例えばアル
ミニウム蒸着機内にセットし、第5図に示すように斜め
d方向よりアルミニウムを蒸着すると、ホトレジスト層
14の表面、透明電極12の伺i6縁端および基板ll
中上の隣接電極との間の間隙部の一部の巾eの面にアル
ミニウム層181%が蒸着される。因から容易に類推で
きるように、蒸着方向が斜めであるので例えば図の電極
ムと電極Bとの間隙部において、電極ムの影になる巾S
の部分はアルミニウム層は蒸着されない。さらにレジス
ト層14の厚さを一部して図に示す高さhを加減するか
、あるいはアルミニウム蒸着方?aを調節すれば、基板
11の上の蒸着の巾eも中白に調節することができる。
そのあとで化学薬品によりホトレジスト層14をその表
面の金属熱II膜とともに除去すると、亀6図のよう化
補助電極18bを付設した透明電極12bが得られる。
尚、透明電極12bは前述の、ITUの他にカドミウム
インジウム酸化物(OdO;In10g)や酸化錫(8
aO,)等でもよいし、前記金属蒸着層は、金や銀等の
他の金属で形成することもできる。
(f)  発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明によれば、取り扱
い易い金属蒸着工程によゆ簡単に、透明電極の透明性を
損うことなく、その低抵抗化が司能となり、エレクトロ
ルミネツ士ンス表示装置や液晶表示装置のようなディス
プレイパネルやドツトマトリックス表示パネル等に広く
使用される透明1iE極の抵抗が^いCとに起因する障
害を除去できる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
1741図は従来の透明電極の形成方法を説明するため
の要部上面図、#!2図は第1図におけるムーム′断面
図、第8−図〜第6図は本発明による透明電極の形成方
法を説明するための要部断面図で順次に示した工程図で
ある。 図面において、1はガラス基板、2は透明電極、IN!
補助am、11はガラス基板、121よ透明導電膜、1
2bは透明電極、18Bは金属蒸着層、18bは補助電
極、14はホトレジスト層をそれぞれ示すO

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 絶繊基板上に所定形状の透明電極を形成し、前記透明電
    極の上面を絶縁物で被覆した状態で、斜め上方より金属
    膜を蒸着し、しかる後、透明電極上の絶縁物表面に被着
    した金属膜を当該絶縁物層とともに剥離して除去するこ
    とにより透明電極の絶縁部および該絶縁部に隣接する基
    板面の一部の領域に密接して、残余の金属蒸着膜よりな
    る金属補助電極を形成することを特徴とする透明電極の
    形成方法。
JP4932282A 1982-03-26 1982-03-26 透明電極の形成方法 Granted JPS58165213A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4932282A JPS58165213A (ja) 1982-03-26 1982-03-26 透明電極の形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4932282A JPS58165213A (ja) 1982-03-26 1982-03-26 透明電極の形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58165213A true JPS58165213A (ja) 1983-09-30
JPH0340451B2 JPH0340451B2 (ja) 1991-06-19

Family

ID=12827732

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4932282A Granted JPS58165213A (ja) 1982-03-26 1982-03-26 透明電極の形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58165213A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011111650A1 (ja) * 2010-03-09 2011-09-15 太陽誘電株式会社 導体構造、透明デバイス及び電子機器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011111650A1 (ja) * 2010-03-09 2011-09-15 太陽誘電株式会社 導体構造、透明デバイス及び電子機器
JP5503729B2 (ja) * 2010-03-09 2014-05-28 太陽誘電株式会社 導体構造、透明デバイス及び電子機器
US8889998B2 (en) 2010-03-09 2014-11-18 Taiyo Yuden Co., Ltd. Conductor structure, transparent device, and electronic device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0340451B2 (ja) 1991-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4336295A (en) Method of fabricating a transparent metal oxide electrode structure on a solid-state electrooptical device
KR100614456B1 (ko) 디스플레이 기판 전극의 도전율을 향상시키는 방법
WO2018157814A1 (zh) 触控屏的制作方法、触控屏和显示装置
CN105446037B (zh) 显示基板及其制作方法、显示器件
JPH0580650B2 (ja)
JPS58165213A (ja) 透明電極の形成方法
JP2759207B2 (ja) 画素電極と薄膜トランジスタの形成方法
JPH04232922A (ja) 液晶表示装置の製造方法
JPS6227755B2 (ja)
JPH0373083B2 (ja)
JP2755707B2 (ja) 光起電力装置の製造方法
JPS60146220A (ja) 液晶マトリクス表示パネル用電極の製造方法
JPS6235361A (ja) フオトマスク材料
JPS58145014A (ja) 電極板及びその製造方法
JPH01297624A (ja) 薄膜トランジスタ
JPH0428132B2 (ja)
JPS6072265A (ja) イメ−ジセンサの電極構造
JPS6329993A (ja) 配線基板およびその製造方法
JPH03167525A (ja) 電極基板の製造方法
JPH01297825A (ja) 電極形成方法
JPS62119966A (ja) 配線パタ−ンの形成方法
JPS62244089A (ja) 積層薄膜パタ−ン形成方法
JPS62191830A (ja) 表示器用基板
JPH04324828A (ja) 電気光学装置
JPH0195559A (ja) 薄膜トランジスタの製造方法