JPS58159398A - 多層配線基板 - Google Patents

多層配線基板

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Publication number
JPS58159398A
JPS58159398A JP4219882A JP4219882A JPS58159398A JP S58159398 A JPS58159398 A JP S58159398A JP 4219882 A JP4219882 A JP 4219882A JP 4219882 A JP4219882 A JP 4219882A JP S58159398 A JPS58159398 A JP S58159398A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
insulating layer
crystal grain
grain size
insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4219882A
Other languages
English (en)
Inventor
芳嗣 岡田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP4219882A priority Critical patent/JPS58159398A/ja
Publication of JPS58159398A publication Critical patent/JPS58159398A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は多層配線基板に関し、特にセラi、り基板上に
絶縁層で互いに絶縁され友複数の配線層を有する多層配
線基板に関する。
従来、集積回路には多くの種類、形があるが、ソノ一つ
にセラば、り基板上に絶縁層で互いに絶縁された複数の
配線層を有する多層配線基板を用−たものがある。
@1図は従来のセラミ、り製多層配線基板の一例の断面
図である。
辷ラミック基板1に下部導体層2を形成し、着根表面を
絶縁ペースト等を用いて絶縁層3を形成する。絶縁層3
の上に上部導体層4t−形成する。
絶縁層と導体層とを交互に重ねれば所望数の多層構造が
得られる。絶縁ペーストに高温で結晶化するガラスの粉
末を用いると、絶縁ペーストの焼成により絶縁層3は結
晶化ガラス層になる。
従来、この絶縁層3は一種類の絶縁ペーストを用いて形
成されていて、ガラスの結晶粒径の大きいIQ線ペース
トで絶縁層3t−形成すると比較的表面粗IWが大きく
、導体層2.4との@度が良い絶縁層3が得られるが、
その反面粒径が大きいため内部が比較的ポーラスで絶縁
性が余シ良くないという欠点啄有しており、ガラスの結
晶粒径の細かい絶縁ペースト音用いると内部は’a!な
状態で絶縁性が良い反面、表面粗共が小さくなり導体層
2゜4との密着が悪くなると込う欠点t−有していた。
本発明の目的は、上記欠点を除去し、導体層との密着性
が良く、かつ多層の導体層の層間絶縁性も良好な多層配
線基板を提供することにある。
本発明の多層配線基板は、セラミ、り基板に設けられた
複数の導体層の各層が絶縁層で絶縁されている多層配線
基板にお騒て、前記絶縁I−が結晶粒径の大きいガラス
粉末を焼成して作られ表面粗度の大きい第1層と、結晶
粒径の小さいガラス粉末を焼成して作られ表面粗度が第
1層の表面粗度より小さい!2層と、結晶粒径と表面粗
度が第1層とほぼ同じであるガラス粉未焼成の第3層と
を順次積層した三層で構成される。
次に、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
第2図は本発明の一実施例の断面図である。
セラミ、り基板11の表面に金メッキ等の方法によシ導
体ノミターン1.2を形成する。その上に第トで印刷、
焼成によって形成する。さらにその上にガラスの結晶粒
径が細かく、絶縁性が良いペーストで第2絶縁層14を
第1絶縁層13と同じ方法で形成する。ま几その上にw
il絶縁層13と同じペーストで第3絶縁層15’を形
成する。これによって、結晶粒径の大きな第1.第3絶
縁層13゜15の間に結晶粒径の細かい第2絶縁層14
が挾まれる形のサントイ、チ構成の絶縁層ができる。
さらに、その上に金メッキにより上部導体パターン16
を形成する。上部導体パターン16は結晶粒径が大会く
表面粗度の比較的大きい第3絶縁層15σ)上に形成さ
れるので密着は良い、又内層に結晶粒径が細かくて密な
第2絶縁層14がある几めに、結晶粒径の大きいペース
トだけで形成され之絶#層に比較して絶縁性吃良い。即
ち、このようが構成をとることにより、従来ガラスの結
晶粒径の大きいペーストによって形成した絶縁層にみら
れ友、導体パターンとの密着は良いが絶縁性が余り良く
ないという特性と、ガラスの結晶粒径が細かいペースト
によって形成した絶縁層にみられた、絶縁性は良いが、
導体パターンとの密着が余夛棗〈ないと^う特性の、両
者の長所會融合した、導体パターンとの密着も良く、絶
縁性も良いと−う特性が得られる。
本発明は、以上説明したように、絶縁層t−3層構成に
し、ガラスの結晶粒径の細かいペーストによって形成さ
れた絶縁層を、ガラスの結晶粒径の大キいぺ、−ストに
よって形成きれた絶縁層の間に入れることによって導体
層との密着も良く、又絶縁性も良くできるという効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のセラミ、り馬多層配線基板の一例の断面
図、第2図は本発明の一実施例の断面図である。 1・・・・・・セラミ、り基板、2・・・・・・下部導
体層、3・・・・・・絶縁層、4・・・・・・上部導体
層、211・・・・・・セラミ、り基板、12・・・・
・・下部導体パターン、13・・・・・・第1絶縁層v
、 14・・・・・・第2絶縁層、15・・・・・・第
3絶縁層、16・・・・・・上部導体パターン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. セラミ、り基板に設けられた複数の導体層の各層が絶縁
    層で絶縁されている多層配線基板において、前記絶縁層
    が結晶粒径の大きいガラス粉末を焼成して作られ表面粗
    度の大きい第1層と、結晶。粒径の小さいガラス粉末を
    焼成して作られ表面粗度が第1層の表面粗度より小さい
    第2層と、結晶粒径と表面粗度が8141層とほぼ同じ
    であるガラス粉未焼成の第3層とを順次積層した三層で
    構成されていることを特徴とする多層配線基板。
JP4219882A 1982-03-17 1982-03-17 多層配線基板 Pending JPS58159398A (ja)

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JP4219882A JPS58159398A (ja) 1982-03-17 1982-03-17 多層配線基板

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JPS58159398A true JPS58159398A (ja) 1983-09-21

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