JPS5814379B2 - 弗燐酸塩系レ−ザ−ガラス - Google Patents
弗燐酸塩系レ−ザ−ガラスInfo
- Publication number
- JPS5814379B2 JPS5814379B2 JP12054479A JP12054479A JPS5814379B2 JP S5814379 B2 JPS5814379 B2 JP S5814379B2 JP 12054479 A JP12054479 A JP 12054479A JP 12054479 A JP12054479 A JP 12054479A JP S5814379 B2 JPS5814379 B2 JP S5814379B2
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- JP
- Japan
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- glass
- laser
- laser glass
- mgf2
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/23—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron
- C03C3/247—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron containing fluorine and phosphorus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/17—Solid materials amorphous, e.g. glass
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は弗燐酸塩系のレーザーガラスに関し、その目的
は非線形屈折率係数が小さく、ガラスとしてきわめて安
定なレーザーガラスを得ることにある。
は非線形屈折率係数が小さく、ガラスとしてきわめて安
定なレーザーガラスを得ることにある。
従来からレーザーガラスとしては、珪酸塩系や燐酸塩系
のレーザーガラスが知られており、本出願人は、珪酸塩
系では、高出力のレーザーガラスとして、ｓｉｏ。
のレーザーガラスが知られており、本出願人は、珪酸塩
系では、高出力のレーザーガラスとして、ｓｉｏ。
−Ａｔ２０３−ＳｒＯ−Ｌｉ２ｏ一Ｎａ２０系を出願（
特願昭４８−２２９６４号）し、また珪酸塩系レーザー
ガラスよりも、燐酸塩系レーザーガラスが遥かに利得が
高いことを見出し、Ｐ２０５−Ｌａ２０３−Ａ７２０３
−ＲＯ系を出願（特願昭４９−６１３７９５号）した。
特願昭４８−２２９６４号）し、また珪酸塩系レーザー
ガラスよりも、燐酸塩系レーザーガラスが遥かに利得が
高いことを見出し、Ｐ２０５−Ｌａ２０３−Ａ７２０３
−ＲＯ系を出願（特願昭４９−６１３７９５号）した。
ところが、最近、特に核融合用レーザーガラスに用いら
れる場合、利得の高いことは勿論、電場の強さの自乗に
比例する非線形屈折率係数０２の小さいものが望まれる
様になった。
れる場合、利得の高いことは勿論、電場の強さの自乗に
比例する非線形屈折率係数０２の小さいものが望まれる
様になった。
このため、本出願人は、非線形屈折率が小さく、利得の
高いレーザーガラスとしてＰ２０５−Ａ７２０３，Ｌａ
２０３−Ｙ２０３−Ｎａ２０−Ｌｉ２０系を見出し、こ
のガラスを特願昭４９−１３４７８８号として出願した
。
高いレーザーガラスとしてＰ２０５−Ａ７２０３，Ｌａ
２０３−Ｙ２０３−Ｎａ２０−Ｌｉ２０系を見出し、こ
のガラスを特願昭４９−１３４７８８号として出願した
。
しかしながら、上記の燐酸塩系ガラスでもそりｎ２は充
分とは言えずさらに低いｎ２ｉ持ったものが要求される
様になった。
分とは言えずさらに低いｎ２ｉ持ったものが要求される
様になった。
ここで０２は、次式で表される。
屈折率ｎ＝ｎ０−ｎ２Ｅ２
ここにｎ。
は電場の強さ零のときの屈折率、Ｅは電場の強さを示す
。
。
すなわち、上式に於いて、ｎ２が大きいと、レーザー光
がガラスを通るとき、屈折率が高くなり、自己集束を起
こして、ガラス中に破壊を生じるため、充分高出力を出
し得ないのである。
がガラスを通るとき、屈折率が高くなり、自己集束を起
こして、ガラス中に破壊を生じるため、充分高出力を出
し得ないのである。
従って、本発明の目的は、燐酸塩系のレーザーガラスよ
りもさらに低いｎ２（その値は０．５〜０．７Ｘ１０−
４１ｅ．ｓ．ｎ）をもつ、しかもガラスとして安定な、
レーザーガラスを得ることにある。
りもさらに低いｎ２（その値は０．５〜０．７Ｘ１０−
４１ｅ．ｓ．ｎ）をもつ、しかもガラスとして安定な、
レーザーガラスを得ることにある。
本発明者らは、種々研究の結果、この目的を達成するに
は、燐酸の含有量を出来るだけ少くする必要があり、そ
のためには、ガラス修飾酸化物を弗化物にかえることに
よってなし得ることを見出した。
は、燐酸の含有量を出来るだけ少くする必要があり、そ
のためには、ガラス修飾酸化物を弗化物にかえることに
よってなし得ることを見出した。
すなわち、本発明は、カチオニツク％で、１／２Ｐ２０
５ ５〜２５％、残部金属の弗化物からなるガラスに”
／２ Ｎｄ２０３ ０．０１〜３％を導入したことを特
徴とする弗燐酸塩系レーザーガラスである。
５ ５〜２５％、残部金属の弗化物からなるガラスに”
／２ Ｎｄ２０３ ０．０１〜３％を導入したことを特
徴とする弗燐酸塩系レーザーガラスである。
この１／２Ｐ２０５ ５〜２５％を含むレーザーガラス
はｎ２が充分低く、核融合用レーザーガラスとして、性
能的にきわめて望ましいガラスであるが、ガラス形成酸
化物（Ｐ２０５）が非常に少ないため、ガラスとして安
定性が低い。
はｎ２が充分低く、核融合用レーザーガラスとして、性
能的にきわめて望ましいガラスであるが、ガラス形成酸
化物（Ｐ２０５）が非常に少ないため、ガラスとして安
定性が低い。
一般に、核融合用レーザーガラスは大型のガラス塊が要
求されるため、さらに望ましい組成として下記に示すも
のが挙げられる。
求されるため、さらに望ましい組成として下記に示すも
のが挙げられる。
即ち、カチオニツク％で、１／２ Ｆ２０５ ５〜２５
％、ＡｔＦ３ ２０〜３５％、ＹＦ３０〜５％、ＢａＦ
２＋ＳｒＦ２＋ＣａＦ２＋ＭｇＦ２ ２２〜５５％、Ｂ
ａＦ２ ２〜１２％、ＳｒＦ２４〜１８％、ＣａＦ２１
５〜２８％、ＭｇＦ２ ０〜５％、ＮａＦ＋ＬｉＦ十Ｋ
Ｆ Ｏ〜２５％からなるガラスに１／２Ｎｄ２０３を０
．０１〜３％導入したことを特徴とする弗燐酸塩系レー
ザーガラスである。
％、ＡｔＦ３ ２０〜３５％、ＹＦ３０〜５％、ＢａＦ
２＋ＳｒＦ２＋ＣａＦ２＋ＭｇＦ２ ２２〜５５％、Ｂ
ａＦ２ ２〜１２％、ＳｒＦ２４〜１８％、ＣａＦ２１
５〜２８％、ＭｇＦ２ ０〜５％、ＮａＦ＋ＬｉＦ十Ｋ
Ｆ Ｏ〜２５％からなるガラスに１／２Ｎｄ２０３を０
．０１〜３％導入したことを特徴とする弗燐酸塩系レー
ザーガラスである。
ここで１／２Ｐ２０５は５係以下では、ガラス化しない
し、２５％以上ではｎ２が高くなり、本発明の目的に適
合しない。
し、２５％以上ではｎ２が高くなり、本発明の目的に適
合しない。
ＡｔＦ３は液相温度を低下させるためには２０〜３５％
の範囲が、最も良い。
の範囲が、最も良い。
ＹＦ３はガラスを安定にするために有効な成分であるが
、５％を越えるとその効果はなくなる。
、５％を越えるとその効果はなくなる。
ＢａＦ２，ＳｒＦ２，ＣａＦ２．ＭｇＦ２の合量は充分
安定なガラスを得るためには２２〜５５係が望ましい。
安定なガラスを得るためには２２〜５５係が望ましい。
ＮａＦ，ＫＦ，ＬｉＦは、ガラスを安定にするため、及
びｎ２を低下させるために望ましい成分であるが、合量
で２５係を越えると化学的耐久性が悪くなる。
びｎ２を低下させるために望ましい成分であるが、合量
で２５係を越えると化学的耐久性が悪くなる。
また、１／２Ｎｄ２０３は、０．０１％以下ではレーザ
ー発振しないし、３％以上では液相，温度を高めるうえ
、螢光の濃度消失が生じ、望ましくない。
ー発振しないし、３％以上では液相，温度を高めるうえ
、螢光の濃度消失が生じ、望ましくない。
また犬型のガラス塊を得るためには、液相温度を出来る
だけ下げる必要がある。
だけ下げる必要がある。
これには、ＢａＦ２，ＳｒＦ２，ＣａＦ２，ＭｇＦ２の
量を限定することが、きわめて有効であることを発明者
等は発見した。
量を限定することが、きわめて有効であることを発明者
等は発見した。
すなわち、ＢａＦ２ ２〜１２％、ＳｒＦ２４〜１８％
、ＣａＦ２ １５〜２８％、ＭｇＦ２ ２〜５％の限定
された範囲が特に望ましい。
、ＣａＦ２ １５〜２８％、ＭｇＦ２ ２〜５％の限定
された範囲が特に望ましい。
そしてアルカリ金属の弗化物の中では、特にＮａＦが液
相温度を下げ、ｎ２を下げるために望ましい。
相温度を下げ、ｎ２を下げるために望ましい。
さらにＹＦ３はガラスを安定にする成分として、０．１
〜４％の範囲に於いて最も効果を発揮する。
〜４％の範囲に於いて最も効果を発揮する。
またソーラリゼーション防止剤として、ＭＯＯ３．Ｔ１
０２＋１／２Ｎｂ２０５等が有効であり、それぞれ２チ
以下、合量で０．１〜４％の範囲で導入し得る。
０２＋１／２Ｎｂ２０５等が有効であり、それぞれ２チ
以下、合量で０．１〜４％の範囲で導入し得る。
またレーザー発振成分として１／２Ｎｄ２０ｓの一部又
は全部を１／２Ｅｒ２０３及び／又は１／２Ｅｕ２０ｓ
で置換することもできる。
は全部を１／２Ｅｒ２０３及び／又は１／２Ｅｕ２０ｓ
で置換することもできる。
なお、ＡｔＦ３，ＹＦ３，ＬａＦ３，１／２Ｅｒ２０３
，ＮａＦ．ＫＦ．ＬｉＦｔＢａＦ２，ＳｒＦ２，ＣａＦ
２，ＭｇＦ２は、弗化物のかわりにその一部を燐酸塩の
形で原料混合することが出来る。
，ＮａＦ．ＫＦ．ＬｉＦｔＢａＦ２，ＳｒＦ２，ＣａＦ
２，ＭｇＦ２は、弗化物のかわりにその一部を燐酸塩の
形で原料混合することが出来る。
また、Ｎｄ２０３，Ｅｒ２ｏ３，Ｅｕ２ｏ３は弗化物と
して加えることも有効である。
して加えることも有効である。
次に本発明の実施例を表に示す。
組成はカチオニツク係であり、ＬＴは液相温度℃で、そ
のガラスの失透に対する安定性を示し、またｎ２は非線
形屈折率係数（Ｘ１０−１３ｅ．ｓ．ｕ．）を示す。
のガラスの失透に対する安定性を示し、またｎ２は非線
形屈折率係数（Ｘ１０−１３ｅ．ｓ．ｕ．）を示す。
なお、実施例に於いては、燐酸塩でガラスを調合した場
合には、燐酸と酸化物とにわけて記載してある。
合には、燐酸と酸化物とにわけて記載してある。
本発明のガラスは、上記の組成範囲で正燐酸、燐酸塩、
弗化物、酸化物の原料を混合し、セラミック又は、耐火
金属製の坩堝中で約１０００℃で溶融、拡拌、清澄し、
型内に鋳込み成形して作られる。
弗化物、酸化物の原料を混合し、セラミック又は、耐火
金属製の坩堝中で約１０００℃で溶融、拡拌、清澄し、
型内に鋳込み成形して作られる。
こうして得られたガラスは、ガラス成型酸化物が非常に
少ないにも拘らず、失透のない大型の塊として得ること
が出来る。
少ないにも拘らず、失透のない大型の塊として得ること
が出来る。
Claims (1)
- １ カチオニツク係で、１／２Ｐ２０５ ５〜２５％，
ＡＩＦ３ ２０〜３５％、ＹＦ３ ０〜５％、ＢａＦ２
＋ＳｒＦ２＋ＣａＦ２＋ＭｇＦ２ ２２〜５５％、Ｂａ
Ｆ２ ２〜１２％、ＳｒＦ２ ４〜１８％、ＣａＦ２
１５〜２８％、ＭｇＦ２ ０〜５％、ＮａＦ＋ＬｉＦ＋
ＫＦ Ｏ〜２５％からなるガラスに１／２Ｎｄ２０３を
０．０１〜３％導入したことを特徴とする弗燐酸塩系レ
ーザーガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12054479A JPS5814379B2 (ja) | 1979-09-19 | 1979-09-19 | 弗燐酸塩系レ−ザ−ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12054479A JPS5814379B2 (ja) | 1979-09-19 | 1979-09-19 | 弗燐酸塩系レ−ザ−ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5547243A JPS5547243A (en) | 1980-04-03 |
| JPS5814379B2 true JPS5814379B2 (ja) | 1983-03-18 |
Family
ID=14788917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12054479A Expired JPS5814379B2 (ja) | 1979-09-19 | 1979-09-19 | 弗燐酸塩系レ−ザ−ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5814379B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018145028A (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-20 | Hoya株式会社 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8421808D0 (en) * | 1984-08-29 | 1984-10-03 | Dowty Boulton Paul Ltd | Fluid valve |
| JPS63184386A (ja) * | 1986-09-18 | 1988-07-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバと光ファイバ型発光体 |
| JPH06296965A (ja) * | 1993-04-19 | 1994-10-25 | Taiki Japan:Kk | イオン水生成器 |
| GB9615013D0 (en) * | 1996-07-17 | 1996-09-04 | Univ Southampton | Optical glass optical waveguide amplifier and optical waveguide laser |
| JP4570576B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2010-10-27 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラス、プレス成形用プリフォームとその製造方法、および光学素子とその製造方法 |
| JP5004202B2 (ja) | 2005-09-14 | 2012-08-22 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子 |
| CN103965904A (zh) * | 2013-01-30 | 2014-08-06 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 钕掺杂氟铝酸盐玻璃上转换发光材料、制备方法及其应用 |
| CN113264677A (zh) * | 2018-10-31 | 2021-08-17 | 成都光明光电有限责任公司 | 掺氟磷酸盐激光钕玻璃 |
-
1979
- 1979-09-19 JP JP12054479A patent/JPS5814379B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018145028A (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-20 | Hoya株式会社 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5547243A (en) | 1980-04-03 |
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