JPS5814370B2 - ガラス光導波体を形成する方法 - Google Patents
ガラス光導波体を形成する方法Info
- Publication number
- JPS5814370B2 JPS5814370B2 JP54018977A JP1897779A JPS5814370B2 JP S5814370 B2 JPS5814370 B2 JP S5814370B2 JP 54018977 A JP54018977 A JP 54018977A JP 1897779 A JP1897779 A JP 1897779A JP S5814370 B2 JPS5814370 B2 JP S5814370B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- preform
- glass
- temperature
- soot
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 59
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 38
- 239000004071 soot Substances 0.000 claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 230000004927 fusion Effects 0.000 claims description 17
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 12
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 6
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000004033 diameter control Methods 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 description 1
- 238000011900 installation process Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000002362 mulch Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01486—Means for supporting, rotating or translating the preforms being formed, e.g. lathes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
- C03B37/02736—Means for supporting, rotating or feeding the tubes, rods, fibres or filaments to be drawn, e.g. fibre draw towers, preform alignment, butt-joining preforms or dummy parts during feeding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/10—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/28—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/32—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/34—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03B2201/42—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/90—Drying, dehydration, minimizing oh groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は火炎加水分解技術によってガラス製品を製造す
る方法に関し、さらに詳細には、ガラス製光導波体フィ
ラメント（ｇｌａｓｓ ｏｐｔｉｃａｌｗａｖｅｇｕｉ
ｄｅ ｆｉｌａｍｅｎｔｓ）を製造するための改良され
た方法に関するものである。
る方法に関し、さらに詳細には、ガラス製光導波体フィ
ラメント（ｇｌａｓｓ ｏｐｔｉｃａｌｗａｖｅｇｕｉ
ｄｅ ｆｉｌａｍｅｎｔｓ）を製造するための改良され
た方法に関するものである。
周囲物よりも大きい屈折率を有する透明なフィラメント
状構造に沿って光が伝播されうることが知られて久しい
が、従来、比較的短い距離にわたって光を伝送するため
に外被付きフィラメントか用いられている。
状構造に沿って光が伝播されうることが知られて久しい
が、従来、比較的短い距離にわたって光を伝送するため
に外被付きフィラメントか用いられている。
この種のフィラメントの光収集能力の目安となる開口数
（ＮＡ）は次の式で近Ｊされつる。
（ＮＡ）は次の式で近Ｊされつる。
ただし、ｎは芯の屈折率ｎ１と外被の屈折率ｎ２との平
均値であり、△は芯と外被との間の屈折率差であって、
△＝（ｎ１２−ｎ２２）／２ｎ１２という式で与えられ
る。
均値であり、△は芯と外被との間の屈折率差であって、
△＝（ｎ１２−ｎ２２）／２ｎ１２という式で与えられ
る。
従来の光フィラメントの場合には、ＮＡが大きくなるよ
うに△が非常に大きく選択されており、従ってそのフィ
ラメントは光源から放出される比較的大量の光を収集す
ることが可能である。
うに△が非常に大きく選択されており、従ってそのフィ
ラメントは光源から放出される比較的大量の光を収集す
ることが可能である。
光導波体は、大容量光通信方式のための伝送媒体として
最近開発された低損失のフィラメントである。
最近開発された低損失のフィラメントである。
光導波体はそれに接続される光源から放出された光のう
ちの多量の光を受入れる目的のために大きい値のＮＡを
有していることが有利である１さらに、光導波体は、フ
ァイバー破断の場合に備えるためおよび光源によって発
生された光のうちのより多くの量の光を伝送するために
、複数の７−プルまたは束にグループ化されることが多
い。
ちの多量の光を受入れる目的のために大きい値のＮＡを
有していることが有利である１さらに、光導波体は、フ
ァイバー破断の場合に備えるためおよび光源によって発
生された光のうちのより多くの量の光を伝送するために
、複数の７−プルまたは束にグループ化されることが多
い。
ケーブル敷設工程時に惹起されうるランダムなファイバ
ー屈曲に基因する減衰γは次の式で与えられる。
ー屈曲に基因する減衰γは次の式で与えられる。
ただし、ｎおよびｐは上記ランダムな屈曲の幾何学的形
状および屈折率勾配に関係したパラメータであり、ａは
芯の半径である。
状および屈折率勾配に関係したパラメータであり、ａは
芯の半径である。
上記式（２）からわかるように、歪み損失γはなかんず
く△を増大することにより減少されうるものであり、ま
たそのように△を増大すれば、上記式（１）からわかる
ように、ＮＡも増大することになる。
く△を増大することにより減少されうるものであり、ま
たそのように△を増大すれば、上記式（１）からわかる
ように、ＮＡも増大することになる。
光通信方式において用いられるべき伝送媒体には厳しい
光学的要件が課せられるので、光散乱および不純物吸収
の双方に基因する減少が非常に大きい従来のガラス・フ
ァイバー・オブティックスは使用できない。
光学的要件が課せられるので、光散乱および不純物吸収
の双方に基因する減少が非常に大きい従来のガラス・フ
ァイバー・オブティックスは使用できない。
従って、非常に純度の高いガラスをフィラメント状に形
成するための独特の方法が開発される必要があった。
成するための独特の方法が開発される必要があった。
ガラス製の光導波体フィラメントを形成するために火炎
加水分解技術を用いた種々の方法が米国特許第Ｒｅ．２
８０２９号、同第３７１１２６２号、同第３７３７２９
３号、同第３８２３９９５号および第３８２６５６０号
に教示されているが、後の２つは勾配屈折率型導波体（
ｇｒａｄｉｅｎｔ ｉｎｄｅｘ ｗａｖｅｇｕｉｄｅｓ
）の形成に関するものである。
加水分解技術を用いた種々の方法が米国特許第Ｒｅ．２
８０２９号、同第３７１１２６２号、同第３７３７２９
３号、同第３８２３９９５号および第３８２６５６０号
に教示されているが、後の２つは勾配屈折率型導波体（
ｇｒａｄｉｅｎｔ ｉｎｄｅｘ ｗａｖｅｇｕｉｄｅｓ
）の形成に関するものである。
上述において「従来の」方法として言及された火炎加水
分解法の１つの実施例によれば、蒸気の形態をなす複数
の成分が予め定められた量だけガス状の媒体にずい伴せ
しめられ、然る後、予め定められた組成を有するすすを
形成するために炎内で酸化される。
分解法の１つの実施例によれば、蒸気の形態をなす複数
の成分が予め定められた量だけガス状の媒体にずい伴せ
しめられ、然る後、予め定められた組成を有するすすを
形成するために炎内で酸化される。
そのすすは回転している円柱状マンドレル（心棒）また
は出発部材の表面に添着される。
は出発部材の表面に添着される。
第１のすす層が芯ガラスを形成するために被着されて後
に、そのすすの組成が外被ガラスを形成するように変化
される。
に、そのすすの組成が外被ガラスを形成するように変化
される。
これらのすす層が上記マンドレル上に形成されて後に、
光導波体フィラメントを引き抜くことのできる引き抜き
素材を作るために、どちらかといえば長時間にわたる工
程が行なわれる。
光導波体フィラメントを引き抜くことのできる引き抜き
素材を作るために、どちらかといえば長時間にわたる工
程が行なわれる。
このようにして形成されたすすプレフォームはマンドレ
ルから回収され、そしてその結果得られた中空のプレフ
ォームの一端にワイヤー・ハンドルが挿通される。
ルから回収され、そしてその結果得られた中空のプレフ
ォームの一端にワイヤー・ハンドルが挿通される。
そのプレフォームは、このハンドルによって支持された
ままで、下降されて融合合体用炉（ｃｏｎｓｏｌｉｄａ
ｔｉｏｎ ｆｕｒｎａｃｅ）内に入れられ、そこですす
が焼結して、粒子境界のない中空の引き抜き素材を形成
する。
ままで、下降されて融合合体用炉（ｃｏｎｓｏｌｉｄａ
ｔｉｏｎ ｆｕｒｎａｃｅ）内に入れられ、そこですす
が焼結して、粒子境界のない中空の引き抜き素材を形成
する。
上記ワイヤー・ハンドルが除去され、そして穴の壁がフ
フ化水素酸でエッチングされる。
フ化水素酸でエッチングされる。
その後、上記素材はシード（ｓｅｅｄｓ）等があるかど
うか検査され、浄化され、そして一端に切込みを、他端
にテーパー領域をそれぞれ形成するために旋盤上で炎加
工される。
うか検査され、浄化され、そして一端に切込みを、他端
にテーパー領域をそれぞれ形成するために旋盤上で炎加
工される。
その切込み端部はハンドルに挿入され、そして素材は再
びエッチングされ、水洗いされ、乾燥される。
びエッチングされ、水洗いされ、乾燥される。
次に、その素材は引き抜き用炉に挿入され、そこでその
素材はそれの材料が引き抜きのために十分低い粘度を有
するようになる温度に加熱され、そしてその中空素材の
内壁がつぶれるまでその直径を減寸せしめるべく引き抜
かれる。
素材はそれの材料が引き抜きのために十分低い粘度を有
するようになる温度に加熱され、そしてその中空素材の
内壁がつぶれるまでその直径を減寸せしめるべく引き抜
かれる。
このような引き抜きを続行することにより直径がさらに
減寸され、そして遂に所望の寸法を有する光導波体フィ
ラメントが形成されるのである。
減寸され、そして遂に所望の寸法を有する光導波体フィ
ラメントが形成されるのである。
しかしながら、このような方法は、引き抜き素材を作る
のに多数の工程を必要とするがために、複雑かつ高価な
ものとなっている。
のに多数の工程を必要とするがために、複雑かつ高価な
ものとなっている。
さらに，多くの理由のために、光導波体における△の値
従って開口数の値が比較的小さいのである。
従って開口数の値が比較的小さいのである。
低損失光導波体では、それの外被はシリカのような高純
度のガラスで形成されているのが通常であるのに対して
、芯は、同じ高純度のガラスであるが、それの屈折率を
外被のそれよりも大きくするのに十分な量の添加材料（
ｄａｐａｎｔ ｍａｔｅｒｉａｌ）を添加されたもので
形成されている。
度のガラスで形成されているのが通常であるのに対して
、芯は、同じ高純度のガラスであるが、それの屈折率を
外被のそれよりも大きくするのに十分な量の添加材料（
ｄａｐａｎｔ ｍａｔｅｒｉａｌ）を添加されたもので
形成されている。
しかしながら、このような光導波体の場合には、熱膨張
係数や軟化点温度のような芯と外被との特性上の不整合
のために添加剤をほんの少量しか芯に添加することがで
きなかったので、その光導波体の開口数は比較的小さか
ったのである。
係数や軟化点温度のような芯と外被との特性上の不整合
のために添加剤をほんの少量しか芯に添加することがで
きなかったので、その光導波体の開口数は比較的小さか
ったのである。
例えば、融合合体された引き抜きガラス素材にマンドレ
ル穴が残る従来の火炎加水分解法によって、Ｇｅ０２を
添加されたＳｉ０２よりなる光導波体を製造しようとす
る場合について考えてみよう。
ル穴が残る従来の火炎加水分解法によって、Ｇｅ０２を
添加されたＳｉ０２よりなる光導波体を製造しようとす
る場合について考えてみよう。
この場合、その光導波体は、使用される光源の種類やそ
の光導波体が受ける屈曲の形式のような観点にもとづい
て、開口数が０．２４でなければならないものとする。
の光導波体が受ける屈曲の形式のような観点にもとづい
て、開口数が０．２４でなければならないものとする。
使用されるべき外被材料がわかれば、外被の屈折率ｎ２
がわかる。
がわかる。
たとえば、外被材料がＢ２０３を添加されたＳｉＯ２で
ある場合にはｎ２はシリカの屈折率であるところの約１
．４５８であるとされる。
ある場合にはｎ２はシリカの屈折率であるところの約１
．４５８であるとされる。
周知の関係式ＮＡ＝（ｎ１２−ｎ２２）１／２を用いて
、芯の屈折率ｎ１は１．４７７と決定される。
、芯の屈折率ｎ１は１．４７７と決定される。
屈折率が１．４７７の二成分Ｇｅ０２−Ｓｉ０２ガラス
を得るためには、芯ガラスは約２３重量％７Ｇｅ０２よ
りなるものでなければならないことがわかる。
を得るためには、芯ガラスは約２３重量％７Ｇｅ０２よ
りなるものでなければならないことがわかる。
このような芯ガラスの膨張係数は約１５Ｘ１０−７７Ｃ
である。
である。
２３重量％ Ｇｅ０２を含有する芯と一緒に純粋なＳｉ
Ｏ２外被を用いてはならない。
Ｏ２外被を用いてはならない。
なぜならば、その芯と外被とのあいだの膨張不整合のた
めに、すすプレフォームを破壊せしめることなしに融合
合体せしめることが困難となるからである。
めに、すすプレフォームを破壊せしめることなしに融合
合体せしめることが困難となるからである。
従って、ほぼ整合する熱膨張係数を有するホウケイ酸塩
外被が選択される。
外被が選択される。
１２重量％Ｂ２０ｓと８８重量％Ｓｉ０２とよりなる外
被刃ラスは約１２×１０−７′Ｃの膨張係数（２５〜７
００℃）を有しているが、この３Ｘ１０−７／Ｃの膨張
係数の差は受入れられうるものである。
被刃ラスは約１２×１０−７′Ｃの膨張係数（２５〜７
００℃）を有しているが、この３Ｘ１０−７／Ｃの膨張
係数の差は受入れられうるものである。
芯および外被ガラスのこのような組合せの場合には、そ
れらの芯および外被の軟化点温度はそれぞれ約１６３０
℃および１４１０℃である。
れらの芯および外被の軟化点温度はそれぞれ約１６３０
℃および１４１０℃である。
このように芯および外被ガラスの軟化点温度に２２０℃
の差があるため、それによってフィラメント引き抜き工
程に問題が惹起される。
の差があるため、それによってフィラメント引き抜き工
程に問題が惹起される。
芯ガラスは外被ガラスよりも軟化点温度がはるかに高い
から、フィラメント引き抜き工程時に引き抜き素材の穴
を塞ぐのが困難であり、かつそのようにして得られるフ
ィラメントでは芯の直径と外径との比が変化する傾向が
ある。
から、フィラメント引き抜き工程時に引き抜き素材の穴
を塞ぐのが困難であり、かつそのようにして得られるフ
ィラメントでは芯の直径と外径との比が変化する傾向が
ある。
このような問題を防止するためには、芯の軟化点温度が
外被のそれに接近しているかあるいはそれよりも幾分低
くなければならない。
外被のそれに接近しているかあるいはそれよりも幾分低
くなければならない。
芯の軟化点温度を低くするための公知の方法では、芯ガ
ラスにＢ２０３を添加することが行なわれる。
ラスにＢ２０３を添加することが行なわれる。
しかしながら、そのようにＢ２０３を添加すると、芯ガ
ラスの屈折率が若干低下するが、熱膨張係数は増大する
。
ラスの屈折率が若干低下するが、熱膨張係数は増大する
。
このように芯ガラスの熱膨張係数の増加に対処せんがた
めには、外被ガラスにさらに多くのＢ２０３を添加しな
ければならないが、そうすると粘度の不整合の問題が再
び惹起することになる。
めには、外被ガラスにさらに多くのＢ２０３を添加しな
ければならないが、そうすると粘度の不整合の問題が再
び惹起することになる。
このようなわけで、芯に含有されるＧｅＯ２の量は、過
剰な破壊をともなうことなしにすすプレフォームの融合
合体（ｃｏｎｓｏｌｉｄａｔｉｏｎ）を行なうことがで
きる値に限定されなければならなかったのであり、従っ
て、より大きい所望の値のＮＡを簡単には得ることがで
きなかったのである。
剰な破壊をともなうことなしにすすプレフォームの融合
合体（ｃｏｎｓｏｌｉｄａｔｉｏｎ）を行なうことがで
きる値に限定されなければならなかったのであり、従っ
て、より大きい所望の値のＮＡを簡単には得ることがで
きなかったのである。
本発明の目的は、光導波体フィラメントを製造するため
の経済的な方法であって、上述したような難点を克服し
うる方法を提供することである。
の経済的な方法であって、上述したような難点を克服し
うる方法を提供することである。
本発明の他の目的は、大きい開口数を有する光導波体を
製造する方法を提供することである。
製造する方法を提供することである。
本発明のさらに他の目的は、従来の方法よりも簡単でか
つ廉価な光導波体製造方法を提供することである。
つ廉価な光導波体製造方法を提供することである。
本発明のこれらの目的ならびに他の目的、特徴および利
益は、以下の詳細な説明および本発明の好ましい実施例
を例示しているにすぎない図面から、当業者には明らか
となるであろう。
益は、以下の詳細な説明および本発明の好ましい実施例
を例示しているにすぎない図面から、当業者には明らか
となるであろう。
本発明は火炎加水分解法によってガラス光導波体を形成
する改良された方法に関するものである。
する改良された方法に関するものである。
簡単に述べると、本発明の方法は、基体
（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）の表面に第１のガラスすす被覆
を添着し、次に該第１のガラスすす被覆の表面に第２の
ガラス被覆を添着してすすプレフォームを形成すること
よりなる。
を添着し、次に該第１のガラスすす被覆の表面に第２の
ガラス被覆を添着してすすプレフォームを形成すること
よりなる。
そのプレフォームは、それが融合合体せしめられるには
不充分な第１の温度に加熱され、そのあいだ、そのプレ
フォームは少なくとも９５係のヘリウムを含む雰囲気に
当てられて残留ガスが多孔質のプレフォームのすき間か
ら放遂せしめられる。
不充分な第１の温度に加熱され、そのあいだ、そのプレ
フォームは少なくとも９５係のヘリウムを含む雰囲気に
当てられて残留ガスが多孔質のプレフォームのすき間か
ら放遂せしめられる。
さらにそのプレフォームは、それの端部を融合合体せし
めるのに十分なだけ高い第２の温度に加熱され、それと
同時に引き抜かれてフィラメントとなされる。
めるのに十分なだけ高い第２の温度に加熱され、それと
同時に引き抜かれてフィラメントとなされる。
本発明の方法は比較的大きい開口数を有する光導波体を
形成するために用いられうるものである前記第１のすす
被覆の外周面上には第２のガラスすす被覆が添着される
が、その第２の被覆のすすの屈折率は第１の被覆のそれ
よりも小さくなされる。
形成するために用いられうるものである前記第１のすす
被覆の外周面上には第２のガラスすす被覆が添着される
が、その第２の被覆のすすの屈折率は第１の被覆のそれ
よりも小さくなされる。
このような複合プレフォームが融合合体されて引き抜か
れると、中まで密な横断面を有する光導波体フィラメン
トが形成されるのである。
れると、中まで密な横断面を有する光導波体フィラメン
トが形成されるのである。
図面は本発明を図式的にかつ象徴的に示しているもので
あって、そこに図示されている要素の寸法や相対的な配
分に限定する意図はまったくないものであることに注意
すべきである。
あって、そこに図示されている要素の寸法や相対的な配
分に限定する意図はまったくないものであることに注意
すべきである。
さらに、本発明は、ここに開示される特定の記述や、図
示や実施例に関係なく、シングルモード（ｓｉｎｇｌｅ
ｍｏｄｅ）とマルチモード（ｍｕｌｔｉｍｏｄｅ）との
両方を明らかに意図しているものであることに注意すべ
きである。
示や実施例に関係なく、シングルモード（ｓｉｎｇｌｅ
ｍｏｄｅ）とマルチモード（ｍｕｌｔｉｍｏｄｅ）との
両方を明らかに意図しているものであることに注意すべ
きである。
本発明はまた、一定の屈折率を有する光導波体と勾配屈
折率を有する光導波体とのいずれをも意図するものであ
る。
折率を有する光導波体とのいずれをも意図するものであ
る。
勾配屈折率光導波体の場合には、外被は芯の外側の部分
でありうるかあるいは芯と外被との境界面に屈折率の急
激な変化が存在するような程度だけ隣接の芯材料の屈折
率よりも小さい屈折率を有する層でありうる。
でありうるかあるいは芯と外被との境界面に屈折率の急
激な変化が存在するような程度だけ隣接の芯材料の屈折
率よりも小さい屈折率を有する層でありうる。
光導波体のためのすすプレフォームは第１図および第２
図に示されている方法に従って都合よく形成される。
図に示されている方法に従って都合よく形成される。
火炎加水分解バーナー１４によって、円柱状のマンドレ
ル１２にガラスすすの被覆１０が添着される。
ル１２にガラスすすの被覆１０が添着される。
バーナー１４には供給源（図示せず）から燃料ガスと酸
素または空気が供給される。
素または空気が供給される。
この混合物が燃焼されて、バーナーから放出される炎１
６を発生する。
６を発生する。
ガス・蒸気混合物が炎１６内で酸化されてガラスすすを
形成し、そのガラスすすは、マンドレル１２の方に向っ
た１つの流れ１８をなして炎を離れて出て来る。
形成し、そのガラスすすは、マンドレル１２の方に向っ
た１つの流れ１８をなして炎を離れて出て来る。
円柱状のマンドレル上にすすの被覆を形成する火炎加水
分解法が前記米国特許第Ｒｅ．２８０２９号および同第
３８２３９９５号にさらに詳細に記載されている。
分解法が前記米国特許第Ｒｅ．２８０２９号および同第
３８２３９９５号にさらに詳細に記載されている。
マンドレル１２はハンドル２０によって支持されかつす
すを均一に沈積せしめるために、第１図において近傍の
矢印で示されているように回転と往復直線運動とをなさ
しめられる。
すを均一に沈積せしめるために、第１図において近傍の
矢印で示されているように回転と往復直線運動とをなさ
しめられる。
この方法は、段階状屈折率（ｓｔｅｐ ｉｎｄｅｘ）型
または勾配屈折率（ｇｒａｄｉｅｎｔ ｉｎｄｅｘ）型
のいずれかの導波体を製造するために用いられうる。
または勾配屈折率（ｇｒａｄｉｅｎｔ ｉｎｄｅｘ）型
のいずれかの導波体を製造するために用いられうる。
第１の被覆１０の外周面上には第２図に示されているよ
うに第２のガラスすす被覆２２が添着される。
うに第２のガラスすす被覆２２が添着される。
公知の方法に従って、被覆２２の屈折率は、炎１６内で
発生されつつあるすす２４の組成を変化することによっ
て被覆１０の屈折率よりも小さくなされる。
発生されつつあるすす２４の組成を変化することによっ
て被覆１０の屈折率よりも小さくなされる。
このことは、炎に導入される添加材料の濃度またはそれ
の種類を変化することによりあるいはその添加材料を省
略することによって実現されうる。
の種類を変化することによりあるいはその添加材料を省
略することによって実現されうる。
マンドレル１２は再び回転と往復直線運動とをなさしめ
られ、そのようにして得られた第１の被覆１０と第２の
被覆２２とを含む複合構造体が光導波体すすプレフォー
ム３０を構成する。
られ、そのようにして得られた第１の被覆１０と第２の
被覆２２とを含む複合構造体が光導波体すすプレフォー
ム３０を構成する。
光導波体の製造においては、その導波体の芯および外被
の材料は、光減衰特性のできるだけ小さいガラスで製造
されるべきであり、任意の光学品質ガラスが用いられう
るけれども、溶融シリカが特に適したガラスである。
の材料は、光減衰特性のできるだけ小さいガラスで製造
されるべきであり、任意の光学品質ガラスが用いられう
るけれども、溶融シリカが特に適したガラスである。
構造上および他の実用的な観点から、芯ガラスと外被ガ
ラスとは同様の物理的特性を有していることが望ましい
。
ラスとは同様の物理的特性を有していることが望ましい
。
適切に動作するためには、芯ガラスが外被ガラスよりも
大きい屈折率を有していなければならないから、芯ガラ
スは、外被に用いられたガラスと同じ種類のものであっ
て、屈折率を若干大きくするために他の材料を少量だけ
添加されたもので形成されることが望ましい。
大きい屈折率を有していなければならないから、芯ガラ
スは、外被に用いられたガラスと同じ種類のものであっ
て、屈折率を若干大きくするために他の材料を少量だけ
添加されたもので形成されることが望ましい。
溶融シリカの屈折率を大きくするために１つの添加剤の
みとしてあるいは互いに組合せて多くの適当な材料が用
いられている。
みとしてあるいは互いに組合せて多くの適当な材料が用
いられている。
それらの材料としては、酸化チタン、酸化タンタル、酸
化アルミニウム、酸化ランタン、酸化リンおよび酸化ゲ
ルマニウムがあるが、それらに限定されるものではない
。
化アルミニウム、酸化ランタン、酸化リンおよび酸化ゲ
ルマニウムがあるが、それらに限定されるものではない
。
ゲルマニアを添加された溶融シリカよりなる芯に、純粋
な溶融シリカの屈折率よりも若干小さい屈折率を与えか
つ外被層に純粋な溶融シリカよりも幾分大きい熱膨張係
数を与える酸化ホウ素を添加された溶融シリカよりなる
外被層を設け、それによって芯材料と外被材料の膨張係
数間により良好な整合を与えるようにすることが有利で
ある従来においては、マンドレルは融合合体工程Ｃ前に
除去されるのが通常であった。
な溶融シリカの屈折率よりも若干小さい屈折率を与えか
つ外被層に純粋な溶融シリカよりも幾分大きい熱膨張係
数を与える酸化ホウ素を添加された溶融シリカよりなる
外被層を設け、それによって芯材料と外被材料の膨張係
数間により良好な整合を与えるようにすることが有利で
ある従来においては、マンドレルは融合合体工程Ｃ前に
除去されるのが通常であった。
然る後、すすプレフォームが穿孔され、ワイヤー・ハン
ドルを設けられ、そして炉に挿入され、そこでそのすす
がそれの粒子を溶融させかつ融合合体させて粒子境界の
ない稠密なガラス体を形成せしめるのに士分な時間のあ
いだそれの融合合体温度範囲内の淵度に附される。
ドルを設けられ、そして炉に挿入され、そこでそのすす
がそれの粒子を溶融させかつ融合合体させて粒子境界の
ない稠密なガラス体を形成せしめるのに士分な時間のあ
いだそれの融合合体温度範囲内の淵度に附される。
次に、その結果得られた中空の引き抜きガラス素材は、
それを引き抜いて光導波体フィラメントを形成するのに
先立って、上述した多数の他の処理工程に附される。
それを引き抜いて光導波体フィラメントを形成するのに
先立って、上述した多数の他の処理工程に附される。
屈折率を増大せしめるために素材の芯領域に添加剤が添
加されているがために、その領域の膨張係数は外被領域
のそれよりも太きい。
加されているがために、その領域の膨張係数は外被領域
のそれよりも太きい。
従って、前記融合合体工程の後に素材が冷却すると、中
心の領域は緊張状態におかれる。
心の領域は緊張状態におかれる。
マンドレルを除去した後に残っている素材の中心におけ
る穴は、大きい引張力の領域に自由表面を露呈しており
、そこで破壊が起りやすい。
る穴は、大きい引張力の領域に自由表面を露呈しており
、そこで破壊が起りやすい。
それがために、芯領域の膨張係数を外被領域のそれによ
り接近した値に保持する必要があるわけであるが、その
ことが、より大きい開口数を有する光導波体を製造する
ことの妨げとなっている要因の１つをなすものである。
り接近した値に保持する必要があるわけであるが、その
ことが、より大きい開口数を有する光導波体を製造する
ことの妨げとなっている要因の１つをなすものである。
本発明の方法によれば、独立の融合合体工程が除去され
るので、すすプレフォームからフィラメントを形成する
工程が全体として大幅に簡略化されることになる。
るので、すすプレフォームからフィラメントを形成する
工程が全体として大幅に簡略化されることになる。
マンドレルはずすプレフォーム３０から除去されること
が好ましく、かつそれの一端はハンドルに装着される。
が好ましく、かつそれの一端はハンドルに装着される。
次に、そのすすブレフォームは引き抜き用炉の頂部に挿
入され、そして第３図に示されているようにその炉から
フィラメント３８が引き抜かれる。
入され、そして第３図に示されているようにその炉から
フィラメント３８が引き抜かれる。
図示を簡単にするために、その引き抜き用炉に関してそ
れのマツフル４０だけが図示されているが、炉の詳細に
関しては米国特許第４１２６４３６号公報に記載されて
いる。
れのマツフル４０だけが図示されているが、炉の詳細に
関しては米国特許第４１２６４３６号公報に記載されて
いる。
ハンドル４２は、短い小径チューブ４６を附着された低
膨張ガラスチューブ４４で構成されつる小径チューブ４
６の材料としては石英が特に適している。
膨張ガラスチューブ４４で構成されつる小径チューブ４
６の材料としては石英が特に適している。
なぜならば、石英は過剰な歪みをともなうことなしに１
６００〜１８５０℃の引き抜き温度に耐えうるちのであ
り、かつ素材に不純物を添加することがないからである
。
６００〜１８５０℃の引き抜き温度に耐えうるちのであ
り、かつ素材に不純物を添加することがないからである
。
１つの特定の実施例においては、チューブ４４は、シリ
カ含有量の多いガラスよりなる外径が約１．２７センチ
メートル（１／２インチ）のチューブであり、チューブ
４６は長さが約５．０８センチメートル（２インチ）で
直径が約０．６４センチメートルＣ１／４インチ）の石
英チューブで形成され、そしてこの石英チューブは、す
すプレフォームに挿入される端部の両側に炎加工によっ
て形成された石英よりなる２つの０．５Ｉｌの隆起４８
を有している。
カ含有量の多いガラスよりなる外径が約１．２７センチ
メートル（１／２インチ）のチューブであり、チューブ
４６は長さが約５．０８センチメートル（２インチ）で
直径が約０．６４センチメートルＣ１／４インチ）の石
英チューブで形成され、そしてこの石英チューブは、す
すプレフォームに挿入される端部の両側に炎加工によっ
て形成された石英よりなる２つの０．５Ｉｌの隆起４８
を有している。
そのチューブはプレフォームに挿入されて後に約９０°
回転されてプレフォーム中にロックされる。
回転されてプレフォーム中にロックされる。
軟く附着しているにすぎないすずは、フィルターにかけ
られた乾燥した窒素でもってすすプレフォームの外表面
および内表面から吹き払われる。
られた乾燥した窒素でもってすすプレフォームの外表面
および内表面から吹き払われる。
この実施例で使用されたすすプレフォームは、そのプレ
フォームと約４４１１の内径を有するマツフルとの間に
十分な間隙を与えるために３２１ＲＫの外径を有した。
フォームと約４４１１の内径を有するマツフルとの間に
十分な間隙を与えるために３２１ＲＫの外径を有した。
ハンドル４２は引き抜き用炉の上方におけるチャック内
に配置され、そしてプレフォームは最も熱い領域のすぐ
上における位置まで炉マツフル４０内に下方に送り込ま
れる。
に配置され、そしてプレフォームは最も熱い領域のすぐ
上における位置まで炉マツフル４０内に下方に送り込ま
れる。
このときプレフォームはそれが融合合体せしめられるに
は不充分な第１の温度に加熱される。
は不充分な第１の温度に加熱される。
マツフルの頂部は密封されている。
そのマツフルの頂部において導入されたマツフル・ガス
は矢印５２で示されているようにプレフォーム３０上を
下方に流動するとともにそのプレフォームのすき間を通
って流れ、プレフォームが前記第１の温度で加熱されて
いるあいだおよびプレフォームが第２の温度で融合合体
せしめられるときにそれらのすき間からガスを放逐せし
める。
は矢印５２で示されているようにプレフォーム３０上を
下方に流動するとともにそのプレフォームのすき間を通
って流れ、プレフォームが前記第１の温度で加熱されて
いるあいだおよびプレフォームが第２の温度で融合合体
せしめられるときにそれらのすき間からガスを放逐せし
める。
マツフル・ガスはマツフルの底部において排気される。
このマツフル・ガスは、泡が生じないようにしてすすを
融合合体せしめるものであるとともに、得られるフィラ
メントの光学的特性を阻害するような態様でガラスすす
の組成と相互作用することのないものである。
融合合体せしめるものであるとともに、得られるフィラ
メントの光学的特性を阻害するような態様でガラスすす
の組成と相互作用することのないものである。
使用される特定の添加剤に応じて酸化状態が望ましいか
環元状態が望ましいかがきまる。
環元状態が望ましいかがきまる。
好ましいマツフル・ガスは、多孔質のすすプレフォーム
のすき間を容易に通過して残留ガスをそのプレフォーム
から放逐することのできるヘリウムに富んだものである
。
のすき間を容易に通過して残留ガスをそのプレフォーム
から放逐することのできるヘリウムに富んだものである
。
この明細書で用いられている［ヘリウムに富んだ雰囲気
」という言葉は、少なくとも９５％のヘリウムを含むも
のであることを意味する。
」という言葉は、少なくとも９５％のヘリウムを含むも
のであることを意味する。
融合合体工程時にガスをプレフォームから放逐せしめる
ためには、酸素、窒素、アルゴン、ネオンおよびそれら
の混合物のような他のガスを用いてもよい。
ためには、酸素、窒素、アルゴン、ネオンおよびそれら
の混合物のような他のガスを用いてもよい。
へｌウムだけを用いて実現される程度以上にプレフォー
ムを乾燥させるために、ハロゲン、好ましくは塩素が用
いられることがあるが、ヘリウムと塩素化合物との組合
せがすすの融合合体の目的につき米国特許第３９３３４
５４号に開示されている。
ムを乾燥させるために、ハロゲン、好ましくは塩素が用
いられることがあるが、ヘリウムと塩素化合物との組合
せがすすの融合合体の目的につき米国特許第３９３３４
５４号に開示されている。
プレフォームおよびマツフルからガスを放逐するこの初
期の期間のあいだ、プレフォームが最も熱い領域に進入
することがないように送り機構は停止される。
期の期間のあいだ、プレフォームが最も熱い領域に進入
することがないように送り機構は停止される。
この時間のあいだに、放逐ガスが供給源５４からハンド
ルを通ってプレフォームの中心に流入して附加的な放逐
効果を与えるようにしてもよい。
ルを通ってプレフォームの中心に流入して附加的な放逐
効果を与えるようにしてもよい。
プレフォームの中心に毎時８４．９５リットル（３立方
フィート／時）の流速でヘリウムを流入せしめながらマ
ツフルの頂部に純粋なヘリウムを毎時７６４．５５リッ
トル（２７立方フィート／時）の流速で１５分間流入せ
しめることによって十分な放逐効果が得られる。
フィート／時）の流速でヘリウムを流入せしめながらマ
ツフルの頂部に純粋なヘリウムを毎時７６４．５５リッ
トル（２７立方フィート／時）の流速で１５分間流入せ
しめることによって十分な放逐効果が得られる。
これらの放逐用ガスの最適流速は、素材の送り速度、融
合合体温度、特定の放逐用ガスの組成等のような要因に
依存してきまる。
合合体温度、特定の放逐用ガスの組成等のような要因に
依存してきまる。
然る後、プレフォームは炉の熱い領域内に進入せしめら
れ、それにともなって、プレフォームが前記第１の温度
より高い第２の温度に加熱せしめられて、すすが領域６
０で示されているように融合合体しはじめる。
れ、それにともなって、プレフォームが前記第１の温度
より高い第２の温度に加熱せしめられて、すすが領域６
０で示されているように融合合体しはじめる。
その熱い領域における温度は芯ガラスの粘度が１０８ポ
ワズと１０３ポワズとの間となるような温度であること
が好ましい。
ワズと１０３ポワズとの間となるような温度であること
が好ましい。
所望の粘度はフィラメントの引き抜き速度に依存してき
まる。
まる。
２２．８５ＣＩ／分（０．７５フィート／分）と３０．
４８ｍ／分（１００フィート／分）との間の引き抜き速
度が用いられたが、本発明の方法はそれに限定されるも
のではない。
４８ｍ／分（１００フィート／分）との間の引き抜き速
度が用いられたが、本発明の方法はそれに限定されるも
のではない。
ヘリウム供給源５４が用いられた場合には、プレフォー
ムの先端が融合合体しはじめるや否や、その供給源は遮
断される。
ムの先端が融合合体しはじめるや否や、その供給源は遮
断される。
融合合体されたガラス・プレフォームの先端は，フィラ
メントの引き抜きを開始するために、低膨張ガラス棒の
端部によって接触される。
メントの引き抜きを開始するために、低膨張ガラス棒の
端部によって接触される。
プレフォームは炉の熱い領域内に連続的に送り込まれ、
そこのヘリウムに富んだ雰囲気内で連続的に融合合体し
そして引き抜かれてフィラメントとなされる。
そこのヘリウムに富んだ雰囲気内で連続的に融合合体し
そして引き抜かれてフィラメントとなされる。
穴を形成している表面から出てきた材料が逃げることが
できなければならないから、プレフォームから遠隔のチ
ューブ４４の端部は、そのようにして出てきた材料が大
気に通気しうるように、上記供給源５４が遮断されて後
に開放されなければならない。
できなければならないから、プレフォームから遠隔のチ
ューブ４４の端部は、そのようにして出てきた材料が大
気に通気しうるように、上記供給源５４が遮断されて後
に開放されなければならない。
矢印５２で示されている放逐用ガスはプレフォームが全
体として融合合体せしめられるあいだおよびプレフォー
ムを引抜いてフィラメントを形成するあいだ流れ続ける
。
体として融合合体せしめられるあいだおよびプレフォー
ムを引抜いてフィラメントを形成するあいだ流れ続ける
。
実施例
上述した火炎加水分解法によって複数のすすプレフォー
ムが作られた。
ムが作られた。
これらのプレフォームの芯部分は、ＧｅＯ２を添加した
Ｓｉｎ２で形成されたものであり、この場合、Ｇｅ０２
の濃度が、屈折率を半径方向に減少せしめるように、半
径方向に増大せしめられた。
Ｓｉｎ２で形成されたものであり、この場合、Ｇｅ０２
の濃度が、屈折率を半径方向に減少せしめるように、半
径方向に増大せしめられた。
また、上記プレフォームの外被部分はＢ２０３を添加し
たＳｉｎ２で形成された。
たＳｉｎ２で形成された。
これらのプレフォームは、上述した方法に従って、直接
引き抜かれて光導波体フィラメントとなされた。
引き抜かれて光導波体フィラメントとなされた。
マツフルの熱い領域の温度は１７００℃と１８３５℃と
の間であった。
の間であった。
そのマツフルが残留ガスを放逐されそして引き抜き作業
が開始されて後に、ヘリウムが毎時７６４．５５Ｊット
ル（２７立方フィート一時）の速度でマツフルを通って
流動せしめられた。
が開始されて後に、ヘリウムが毎時７６４．５５Ｊット
ル（２７立方フィート一時）の速度でマツフルを通って
流動せしめられた。
プレフォームからフィラメントを引き抜く工程のあいだ
、０．２５μｍ以下の変化を検知しうるモデルＳＳＥ−
５Ｒミル・マスター電子マイクロメータによりオンライ
ンでフィラメントの直径がモニターされた。
、０．２５μｍ以下の変化を検知しうるモデルＳＳＥ−
５Ｒミル・マスター電子マイクロメータによりオンライ
ンでフィラメントの直径がモニターされた。
このモニターは自動直径制御系の一部分である。
公称フィラメント直径は１１０μｍに設定された。
この値からの直径の変化は＋１μｍであった。
これらのプレフォームからフィラメントを引き抜くこと
により得られた結果が表Ｉにまとめられている。
により得られた結果が表Ｉにまとめられている。
各プレフオームから得られたフィラメントの最も長い長
さが、減衰および開口数と一緒に表Ｉに示されている。
さが、減衰および開口数と一緒に表Ｉに示されている。
融合合体されたプレフォームの中心穴の近傍にシードが
存在すると、それによって直径の乱れが生じ、それがた
め、引き抜かれ得る有用な連続フィラメントの長さが制
限されることになることが明らかとなった。
存在すると、それによって直径の乱れが生じ、それがた
め、引き抜かれ得る有用な連続フィラメントの長さが制
限されることになることが明らかとなった。
プレフォーム／ｉ６４から引き抜かれたフィラメントの
場合には、９５０ｎｍにおける水に基因する減衣は３０
ｄＢ／ｋｍであることがわかった。
場合には、９５０ｎｍにおける水に基因する減衣は３０
ｄＢ／ｋｍであることがわかった。
この減衰は、火炎加水分解法によって製造された標準的
な光導波体フィラメントの減衰よりも小さく、かつそれ
は水分の含有量が比較的少ないことを示している。
な光導波体フィラメントの減衰よりも小さく、かつそれ
は水分の含有量が比較的少ないことを示している。
このように水分に基因する減衰が小さいということは、
すすの融合合体のための送り速度が低いことと、融合合
体温度が高い（通常の融合合体法の場合よりも約４００
℃だけ高い）ことの作用による結果であることが明らか
である。
すすの融合合体のための送り速度が低いことと、融合合
体温度が高い（通常の融合合体法の場合よりも約４００
℃だけ高い）ことの作用による結果であることが明らか
である。
従来の融合合体温度はプレフォームの垂下によって制限
される。
される。
本発明によれば、融合合体温度が高いため、ガス抜き工
程が改善されるとともに、それと同時にフィラメントの
引き抜きを行なうことができるのである。
程が改善されるとともに、それと同時にフィラメントの
引き抜きを行なうことができるのである。
以上本発明を特定の実施例につき説明したが、当業者に
は本発明の範囲内で他の実施例も可能であることが明ら
かであろう。
は本発明の範囲内で他の実施例も可能であることが明ら
かであろう。
マンドレル１２は融合合体に先立って除去されることが
好ましいが、すすプレフォーム内に残されて、結果とし
て得られるフィラメントの中心部分を形成するためにそ
のプレフォームと一緒に引き抜かれてもよい。
好ましいが、すすプレフォーム内に残されて、結果とし
て得られるフィラメントの中心部分を形成するためにそ
のプレフォームと一緒に引き抜かれてもよい。
しかしながら、その場合にはマンドレルは光学品質ガラ
スで作られなければならないことに注意すべきである。
スで作られなければならないことに注意すべきである。
この実施例では、ハンドル２０は、すす融合合体および
引き抜き作業時にプレフォームに対する支持体として利
用される。
引き抜き作業時にプレフォームに対する支持体として利
用される。
さらに他の実施例では、前記米国特許第３７１１２６２
号の教示に従ってガラスチューブの内表面上にすすを沈
積せしめてもよい。
号の教示に従ってガラスチューブの内表面上にすすを沈
積せしめてもよい。
ハンドル４２をそのようなプレフォームに挿入し、かつ
そのプレフォームの融合合体が上記好ましい実施例に関
連して述べたようにして進行するようにしてもよい。
そのプレフォームの融合合体が上記好ましい実施例に関
連して述べたようにして進行するようにしてもよい。
第１図および第２図はマンドレルに第１および第２のガ
ラスすす被覆を添着せしめる状態を示す概略図、第３図
はフィラメントがすすプレフォームから引き抜かれつつ
ある引き抜き用炉の一部分を示す概略断面図である。 １０・・・・・・第１のガラスすす被覆、１２・・・・
・・円柱状のマンドレル、１４・・・・・・バーナー、
１６・・・・・・炎、１８・・・・・・ガラスすすの流
れ、２０・・・・・・ハンドル、２２・・・・・・第２
のガラスすす被覆、２４・・・・・・すす、３０・・・
・・・すすプレフォーム、３８・・・・・・フィラメン
ト、４０・・・・・・引き抜き用炉のマツフル、４２・
・・・・・ハンドル、４４・・・・・・ガラスチューブ
、４６・・・・・・小径チューブ、４８・・・・・・隆
起、５４・・・・・・放逐ガス供給源、６０・・・・・
・融合合体領域。
ラスすす被覆を添着せしめる状態を示す概略図、第３図
はフィラメントがすすプレフォームから引き抜かれつつ
ある引き抜き用炉の一部分を示す概略断面図である。 １０・・・・・・第１のガラスすす被覆、１２・・・・
・・円柱状のマンドレル、１４・・・・・・バーナー、
１６・・・・・・炎、１８・・・・・・ガラスすすの流
れ、２０・・・・・・ハンドル、２２・・・・・・第２
のガラスすす被覆、２４・・・・・・すす、３０・・・
・・・すすプレフォーム、３８・・・・・・フィラメン
ト、４０・・・・・・引き抜き用炉のマツフル、４２・
・・・・・ハンドル、４４・・・・・・ガラスチューブ
、４６・・・・・・小径チューブ、４８・・・・・・隆
起、５４・・・・・・放逐ガス供給源、６０・・・・・
・融合合体領域。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 実質的に円柱状のマンドレルを準備し、該マンドレ
ルの外周面に第１のガラスすす被覆を添着する工程と、 該第１のガラスすす被覆の外周面に、該第１のガラスす
す被覆よりも小さい屈折率を有する第２のガラスすす被
覆を添着する工程と、 前記マンドレルを除去して穴を有するすすプレフォーム
を形成する工程と、 該プレフオームを炉内に支持し、前記プレフォームをそ
れが溶融合体せしめられるには不充分な第１の温度に加
熱する工程と、 前記プレフォームが前記第１の温度に加熱せしめられる
あいだ、前記プレフォームを少なくとも９５係のヘリウ
ムを含む雰囲気に当てて、残留ガスを前記プレフォーム
のすき間および炉内から放遂せしめる工程と、 前記プレフォームをそれの一端部におけるすすをして融
合合体せしめるのに十分に高い第２の温度にかつ十分な
時間のあいだ加熱する工程と、そしてそれと同時に、前
記プレフォームの融合合体せしめられた部分を引き抜い
てそれの横断面積を減少せしめかつ前記穴を閉塞せしめ
、かくて光導波体フィラメントを形成する工程とよりな
るガラス光導波体を形成する方法。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の方法において、前記プ
レフォームを前記雰囲気に当てる工程が、前記プレフォ
ームを前記第１の温度に加熱する工程のあいだおよび前
記プレフォームを融合合体せしめる工程および前記プレ
フォームを引抜いて前記フィラメントを形成する工程の
あいだ、前記雰囲気を前記プレフォーム上を通って炉内
に流動せしめることよりなる前記方法。 ３ 特許請求の範囲第２項記載の方法において、前記プ
レフォームを前記雰囲気に当てる工程がさらに，前記プ
レフォームを前記第１の温度に加熱する工程のあいた前
記雰囲気を前記穴に流入せしめ、かつ前記プレフォーム
の端部が融合合体を開始せしめられる時点に先立って、
前記雰囲気の前記穴への流入を停止せしめることよりな
る前記方法。 ４ 特許請求の範囲第３項記載の方法において、前記プ
レフォームを十分に高い第２の温度に加熱する工程は、
芯ガラスの粘度が１０８ポワズと１０３ポワズとのあい
だとなる温度に前記プレフォームを加熱することよりな
る前記方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/879,154 US4157906A (en) | 1978-02-21 | 1978-02-21 | Method of drawing glass optical waveguides |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54134136A JPS54134136A (en) | 1979-10-18 |
| JPS5814370B2 true JPS5814370B2 (ja) | 1983-03-18 |
Family
ID=25373540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54018977A Expired JPS5814370B2 (ja) | 1978-02-21 | 1979-02-20 | ガラス光導波体を形成する方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4157906A (ja) |
| JP (1) | JPS5814370B2 (ja) |
| AT (1) | AT384417B (ja) |
| CA (1) | CA1126066A (ja) |
| DE (1) | DE2906070C2 (ja) |
| FR (1) | FR2417477A1 (ja) |
| GB (1) | GB2014558B (ja) |
| IT (1) | IT1110639B (ja) |
| NL (1) | NL7901311A (ja) |
Families Citing this family (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4230744A (en) * | 1979-02-21 | 1980-10-28 | Corning Glass Works | System for delivering materials to deposition site on optical waveguide blank |
| US4341541A (en) * | 1979-07-13 | 1982-07-27 | Times Fiber Communications, Inc. | Process for the production of optical fiber |
| DE3037491C2 (de) * | 1979-10-04 | 1983-10-27 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corp., Tokyo | Verfahren zur Herstellung einer Glasvorform für optische Fasern |
| US4304583A (en) * | 1980-06-02 | 1981-12-08 | Corning Glass Works | Process for drying optical waveguide preforms |
| JPS5717437A (en) * | 1980-07-01 | 1982-01-29 | Nec Corp | Manufacture of optical fiber |
| US4289517A (en) * | 1980-07-03 | 1981-09-15 | Corning Glass Works | Method of forming an optical waveguide preform |
| US4286978A (en) * | 1980-07-03 | 1981-09-01 | Corning Glass Works | Method for substantially continuously drying, consolidating and drawing an optical waveguide preform |
| US4289522A (en) * | 1980-07-03 | 1981-09-15 | Corning Glass Works | Support member for an optical waveguide preform |
| US4362545A (en) * | 1980-07-03 | 1982-12-07 | Corning Glass Works | Support member for an optical waveguide preform |
| US4388094A (en) * | 1981-12-21 | 1983-06-14 | Corning Glass Works | Method and apparatus for producing tubular glass article |
| JPS59152237A (ja) * | 1983-02-18 | 1984-08-30 | Hoya Corp | ガラス体の製造法 |
| JPS6186436A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| CN1011227B (zh) * | 1985-06-25 | 1991-01-16 | 占河电气工业有限公司 | 光纤的制造方法 |
| US4708726A (en) * | 1985-11-27 | 1987-11-24 | At&T Technologies, Inc. | Fabrication of a lightguide preform by the outside vapor deposition process |
| DE3619510A1 (de) * | 1986-06-10 | 1987-12-17 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von glas- oder keramischen koerpern |
| DE3623213A1 (de) * | 1986-07-10 | 1988-01-21 | Standard Elektrik Lorenz Ag | Verfahren zur herstellung von lichtwellenleitern |
| US5226940A (en) * | 1987-01-23 | 1993-07-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Process for producing optical fibers of high tensile strength |
| JPH0196039A (ja) * | 1987-10-07 | 1989-04-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| JPH029727A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| US5059475A (en) * | 1990-06-29 | 1991-10-22 | Photonic Integration Research, Inc. | Apparatus and method of forming optical waveguides on metalized substrates |
| US5261022A (en) * | 1991-10-21 | 1993-11-09 | Photonic Integration Research, Inc. | Optical waveguide of silica glass film on ceramic substrate |
| DE4432806C1 (de) * | 1994-09-15 | 1996-01-18 | Heraeus Quarzglas | Vorrichtung zum Halten von Hohlzylindern aus Kieselsäurepartikeln |
| GB2315267B (en) * | 1995-09-29 | 1998-12-02 | Samsung Electronics Co Ltd | Optical fibre spinning apparatus and method |
| DE19655025C2 (de) * | 1995-09-29 | 2001-07-19 | Samsung Electronics Co Ltd | Verfahren zur Verbindung eines Lichtleitfaser-Vorformlings mit einer Hilfsquarzstange |
| DE19649935C2 (de) * | 1996-12-02 | 1999-09-16 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung von Quarzglaskörpern |
| DE69800554T2 (de) * | 1997-03-27 | 2001-10-25 | Alcatel Sa | Thermische Isolierung eines Ofens zum Ziehen von optischen Fasern |
| US6244099B1 (en) | 1999-02-26 | 2001-06-12 | Corning Incorporated | Draw furnace sealing assembly and method |
| US6381990B1 (en) | 1999-02-26 | 2002-05-07 | Corning Incorporated | Draw furnace sealing assembly and method |
| BR0010012A (pt) * | 1999-04-26 | 2002-01-15 | Corning Inc | Fibra ótica e um método para fabricação de uma fibra ótica de dispersão de modo de polarização baixa e baixa atenuação |
| JP2001019464A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバの線引き装置及び線引き方法 |
| US6266980B1 (en) | 1999-10-28 | 2001-07-31 | Corning Incorporated | Centerline protection using heavy inert gases |
| DE10012227C1 (de) * | 2000-03-14 | 2001-05-10 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung eines Quarzglaskörpers |
| DE10064730B4 (de) * | 2000-12-22 | 2004-07-29 | Heraeus Tenevo Ag | Verfahren zur Herstellung eines Hohlzylinders aus Quarzglas |
| JP4759816B2 (ja) * | 2001-02-21 | 2011-08-31 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
| US6793775B2 (en) * | 2001-03-13 | 2004-09-21 | Mikhail I. Gouskov | Multiple torch—multiple target method and apparatus for plasma outside chemical vapor deposition |
| WO2002098808A1 (en) * | 2001-05-31 | 2002-12-12 | Corning Incorporated | Method of low pmd optical fiber manufacture |
| EP1438267A1 (en) * | 2001-07-31 | 2004-07-21 | Corning Incorporated | Method for fabricating a low polarization mode dispersion optical fiber |
| DE10303290B3 (de) * | 2003-01-28 | 2004-05-06 | Heraeus Tenevo Ag | Verfahren zur Herstellung eines Hohlzylinders aus synthetischem Quarzglas unter Einsatz einer Haltevorrichtung sowie geeignete Haltevorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| US20050022561A1 (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-03 | Guskov Michael I. | Ring plasma jet method and apparatus for making an optical fiber preform |
| JP2005060148A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ用母材の製造方法及び光ファイバ用母材並びに光ファイバの製造方法及び光ファイバ |
| EP1728769A4 (en) * | 2003-11-18 | 2007-03-07 | Fujikura Ltd | METHOD FOR STRETCHING OPTICAL FIBER FIBER, PROCESS FOR PRODUCING OPTICAL FIBER STRAND AND STRAND PRODUCED THEREBY |
| NL1024943C2 (nl) * | 2003-12-04 | 2005-06-07 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel. |
| DE102007029506B4 (de) * | 2007-06-25 | 2009-04-02 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Zylinders aus Quarzglas unter Einsatz einer Haltevorrichtung sowie geeignete Haltevorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE102008024842B3 (de) * | 2008-05-23 | 2009-05-07 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Zylinders aus Quarzglas unter Einsatz einer Haltevorrichtung sowie Haltevorrichtung |
| DE102008029756B3 (de) * | 2008-06-25 | 2009-04-30 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Zylinders aus Quarzglas sowie Haltevorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4873522A (ja) * | 1972-01-03 | 1973-10-04 | ||
| JPS54112217A (en) * | 1978-02-20 | 1979-09-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of optical fiber |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3737292A (en) * | 1972-01-03 | 1973-06-05 | Corning Glass Works | Method of forming optical waveguide fibers |
| US3737293A (en) * | 1972-01-03 | 1973-06-05 | Corning Glass Works | Method of forming an economic optical waveguide fiber |
| US3826560A (en) * | 1972-03-30 | 1974-07-30 | Corning Glass Works | Method of forming a light focusing fiber waveguide |
| US3823995A (en) * | 1972-03-30 | 1974-07-16 | Corning Glass Works | Method of forming light focusing fiber waveguide |
| US3868170A (en) * | 1972-03-30 | 1975-02-25 | Corning Glass Works | Method of removing entrapped gas and/or residual water from glass |
| JPS5311039A (en) * | 1976-07-19 | 1978-02-01 | Hitachi Ltd | Controller of diameter of optical fiber |
-
1978
- 1978-02-21 US US05/879,154 patent/US4157906A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-11-20 CA CA316,504A patent/CA1126066A/en not_active Expired
-
1979
- 1979-02-08 IT IT20006/79A patent/IT1110639B/it active
- 1979-02-15 AT AT0116679A patent/AT384417B/de not_active IP Right Cessation
- 1979-02-16 DE DE2906070A patent/DE2906070C2/de not_active Expired
- 1979-02-20 GB GB7905960A patent/GB2014558B/en not_active Expired
- 1979-02-20 JP JP54018977A patent/JPS5814370B2/ja not_active Expired
- 1979-02-20 FR FR7904258A patent/FR2417477A1/fr active Pending
- 1979-02-20 NL NL7901311A patent/NL7901311A/xx not_active Application Discontinuation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4873522A (ja) * | 1972-01-03 | 1973-10-04 | ||
| JPS54112217A (en) * | 1978-02-20 | 1979-09-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of optical fiber |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54134136A (en) | 1979-10-18 |
| GB2014558B (en) | 1982-11-03 |
| DE2906070C2 (de) | 1983-10-06 |
| ATA116679A (de) | 1987-04-15 |
| FR2417477A1 (fr) | 1979-09-14 |
| IT7920008A0 (it) | 1979-02-08 |
| NL7901311A (nl) | 1979-08-23 |
| DE2906070A1 (de) | 1979-08-30 |
| GB2014558A (en) | 1979-08-30 |
| CA1126066A (en) | 1982-06-22 |
| US4157906A (en) | 1979-06-12 |
| AT384417B (de) | 1987-11-10 |
| IT1110639B (it) | 1985-12-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5814370B2 (ja) | ガラス光導波体を形成する方法 | |
| US4453961A (en) | Method of making glass optical fiber | |
| US4486212A (en) | Devitrification resistant flame hydrolysis process | |
| US4125388A (en) | Method of making optical waveguides | |
| US4263031A (en) | Method of producing glass optical filaments | |
| US4165223A (en) | Method of making dry optical waveguides | |
| US4251251A (en) | Method of making optical devices | |
| US4154592A (en) | Method of drawing optical filaments | |
| US6422042B1 (en) | Rit method of making optical fiber having depressed index core region | |
| Schultz | Fabrication of optical waveguides by the outside vapor deposition process | |
| US4629485A (en) | Method of making fluorine doped optical preform and fiber and resultant articles | |
| CA1278685C (en) | Method of making polarization preserving optical fiber | |
| EP0484659B1 (en) | Method of making polarization retaining fiber | |
| US6917740B2 (en) | Optical fiber having reduced viscosity mismatch | |
| US4846867A (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| EP0043712B1 (en) | A method of making a high purity glass article such as a soot preform, a soot preform and an optical waveguide fibre formed therefrom | |
| JPS5843336B2 (ja) | クラッド型光ガラスファイバの製造方法 | |
| JPS6124348B2 (ja) | ||
| JPS61155225A (ja) | 光導波管製造方法 | |
| JPS6113203A (ja) | 単一モード光学繊維 | |
| US4286978A (en) | Method for substantially continuously drying, consolidating and drawing an optical waveguide preform | |
| CA1263550A (en) | Glad optical waveguide | |
| US4643751A (en) | Method for manufacturing optical waveguide | |
| US3933453A (en) | Flame hydrolysis mandrel and method of using | |
| JPH04231335A (ja) | 偏波面保存単一モ−ド光ファイバの製造方法 |