JPS5814324A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は斜め蒸着にする強磁性金属薄膜ｔＳ、気記碌層
として備えてなる磁気記録媒体に関するもので、特に電
礁変−鴨性にすぐれ、耐摩−咋お１び耐候性に優れた磁
気記録媒体に関する。さらに本発明は方向性異方性の小
さい上記＠気配録媒体咳関する。

従来１す磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にｒ−
Ｆｅ、Ｕ、　、Ｃｏｙドープしたｒ−Ｆｅ、（Ｊ、。

Ｆ　ｅ　ｓ　Ｏ４、Ｃｏ２ドープしたＦ＠、（Ｊ、、　
　ｒ−に’ｓ、０゜とＦ　＠　ｓ　Ｕ　ａのベルトライ
ド化合物、、ＣｒＯｓ等の磁性粉末あるいは強磁性合金
粉末等の粉末磁性材料Ｖ塩化ビニルー酢酸ビニル共重合
体、スチレンーヅタジエン共重合体、エポキシＩＩＭ脂
、ポリウレタンｍｓ等の有機バインダー中に分散せしめ
たものｒ塗布し乾燥させる塗布型のものが広く使用され
てきている。近年＾密度記動への要求の高まシと共に真
空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等のペ
ーパーデポジション法あるいは電気メッキ、無電解メッ
キ等のメッキ法に１シ形成される強蝉性金属薄展Ｖ蜘気
記録層とする。バインダー虻使用しない、いわゆる非バ
インダー型磁気記録媒体が注目ｒ浴びておシ実用化への
努力が種檀行なわれている。

従来の塗布型の磁気配録媒体では主として強磁性金Ｉｓ
Ｌり飽和磁化の小さい金属酸化物ｔ−磁性材料として使
用しているため、１％密度記録に必要な薄形化が信号出
力の低下ｔもたらすため限界にきてお′す、かつその製
造工程も複信で、酸剤回収あるいは分書防止のための大
きな耐電設備１１−要するという欠点を有している。非
バインダー型の磁気配録媒体では上記酸化物より大きな
飽和磁化を有する強θ性金ａｔパインターの如龜非磁性
物質を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため。

高密度１鍮化のために超薄形にできるという利点ｒ有し
、しかもその製造工程は簡単である。

高密度１鋒用の磁気配録媒体に要求される条件の一つと
して、Ａ抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されておシ、塗布型の磁気配録媒体１りも一桁小さい薄
型化が容易で、飽和磁束密度も大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。

特に真空蒸着Ｉ／ｃＬる方法はメッキの場合の１うな排
液処ｊｌ！虻必要とせず製造工程も簡単で膳の析出速度
も大きくできるため非常にメリツシが大きい。真空蒸着
によって磁気配録媒体に望ましい抗磁力を１び角型性を
有する磁性編ｒ製造する方法としては、米国籍許ＪＪ４
ＡＪ４Ｊ−号、同ＪＪ参２４ＪＪ号等に述べられてめる
斜め蒸着法が知られている。この方法Ｋｊると、基体に
対して入射する蒸気流の入射角が大きいほど高抗佃力の
媒体が帰られる。しかしながら入射角が大きいと蒸着効
率が低下するという現象があり生産上問題である・ さらに強−性金属薄展から成る磁気配録媒体にかかわる
大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気配録媒体は―気信号の配録、再生及び消
去の過根において磁気ヘッドと鳥速相対這勤のもとにお
かれるが、′その際走行がスムーズにしかも安定に行な
われねばならぬし、同時にヘッドとの接触にＬる摩耗も
しくは破磯痴起ってはならない。又磁気配録媒体の保谷
中に腐飽等ＫＬる経時変化に工って１録された信号の減
少あるいは消失があってはならないことも要求される。

耐久性、耐候性ｒ向上させる方法として保躾層ｒ設ける
ことが検討されてはいるが、ヘッドと磁性層間のスペー
シング損失のために保饅層の厚みｒ大きくできないとい
う制約４あるためｍ性膜そのものにも耐久性、耐候性ｒ
備えさせることが必要である。

さらＫＸ＠−往金属薄換を備えた磁気配録媒体において
ＦｉｊＩ＋密度記録媒体としての長所を生かすために表
面の平坦な支持体上に鐸性Ｍ！ｒ設ける必要があるが１
表面の平坦な支持体ｒ使用する場合には充分な耐久性、
耐候性が得られないという間組がめった。

また従来性われてきた工うに斜め入射蒸着磁性薄Ｍ’を
単に一層設けてなる磁気配録媒体では磁気ヘッドに対す
る相対運動時の往路、復路で□の電磁変換特性、走行性
等が大きく異なるという欠点Ｖ有していた。この工うに
磁気配録媒体が軸異方性（ｍｘｉ’ｍｌ　　ａｎｌｓｏ
ｔｒｏｐｙ）ではなく方向性異方性（ｄｉｒｅｃｔｉｏ
ｎａｌ　　ａｎｉｓｏｔｒｏｐｙ）ｙ有する点は実用上
大きな開−で′ある。

本発明の目的は上記の欠点が改良されてなると共に電磁
変換特性のすぐれた磁気配録媒体を提供することである
。すなわち本発明の目的は、Ｓ気特性がすぐれると共に
耐摩耗性、耐候性にすぐれ。

電磁変換特性上も大きく改良された非バインダ」型磁気
記録媒体を提供することである。

本発明のか＼る目的は、蒸発源から蒸発せしめた磁性全
域材料の蒸気流ｔ、酸化性ガス雰囲気中で、移動する基
体に斜めに入射蒸着してなる磁気配録媒体であって、前
記基体に対する繭紀蒸気流の入射角ｉ高入射角から低入
射角へと連続的に変化させることに１す形成される蒸着
磁性薄ｊｌｌＩＩｔ積層して成ること９を特徴とする磁
気記録媒体ＫＬつて達成される。

本発明において斜め蒸着とは基体表面の法線に対し磁性
金属材料の蒸気Ｒ’ｔある入射角＃を持たせて入射させ
基体表面上に磁性薄ｓｒ析出させる方法である０本発明
においては特に斜め蒸着に工す侮性薄ＪＩＩｌ＆ｖ析出
させる際、Ｓ性薄膜の析出スタート時には入射角＃ｍａ
ｘにて斜め蒸着を開始し。

基体の移動と共に入射角ｒ連続的に減少させる工うに変
化させて入射角＃ｍｉｎにて一性薄展の析出ｔストップ
させるもので、且つ少なくともＪ層以上積層したことＶ
＊＊とする一気配録媒体である。

本発明において入射角としては一般にはＪＯ＠〜９０”
が望ましく、％に入射角ａｍｍｘｔＩ′ｉ４０　＠〜Ｆ
Ｏ＠、入射角＃ｍｉｎはＪ　Ｏ’　〜７　ｊ　’Ｔｈ１
ｌｌましい拳 本発明に用いられる磁性金属材料としては％Ｆ”＠Ｇｏ
、Ｎ１等の金属、ある伜はｒｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ。

Ｃｏ−Ｎｉ、に″ｍ−Ｇｏ−Ｎ　ｉ　、　Ｆｅ−ａｈ　
。

Ｆ’＠１−Ｃｕ　、　Ｃｏ−Ｃｕ　、　Ｃｏ−Ａｕ　、
　Ｃｏ−Ｙ　。

Ｃｏ−Ｌｍ　、　Ｃ，ｏ−Ｐｒ　、　Ｇｏ−（ｉｄ　、
　Ｃｏ−８ｍ。

Ｃｏ−Ｐｉ、Ｎゑ−Ｃｕ　、Ｍｎ−Ｂ　ｉ　、Ｍｎ−８
ｂ。

Ｍｎ−ムｔ　、　Ｆｅ−Ｃｒ　、　Ｃｏ−Ｃｒ　、　Ｎ
　１−Ｏｒ。

Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ　、　Ｎ　１−Ｃｏ−Ｃｒ　。

ｒｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金である。

特に好ましいのはＣｏあるいはＣｏ　＠　７７重量慢含
有する工うな合金である。積層してなる磁性薄膜の総厚
は、−気配縁媒体として充分な出力を与え得る厚さお↓
び高密度記録の充分行える薄さｒａｉｌとすることから
一般には約０．０２μｍからｊ、Ｏｐｍ、好ましく　ｉ
ｊ　Ｏ、Ｏｊ　＃　ｍ；Ｑ＞ら２．０μｍである。各両
性薄層の厚さは等しく設計してもいいし、基体に蛙も近
い磁性薄膜の−ｊＯｑ４の厚さで設けてもいい。

本発明における蒸着とは、上記米国特許＠ＪＪ参１４Ｊ
Ｊ号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他、
・！界、磁界あるいは電子ビーム照射等にエフ蒸気流の
イ、オン化、加速化ｓｔ’行って蒸発分子の平均自由行
程の大き゛い雰囲気にて支持　　　　　　ｌ基体上に薄
膜を形成させる方法Ｖも含むものであって１例えば轟出
幀人にＬる特開昭Ｊ／−／＄り００１号明１ａ４ｉＫ示
されている１うな電界蒸着法、特公昭参Ｊ−ｉｉｚλＪ
号１％公昭参６−λＯ−ｌ参号１％公昭ダ７−Ｊ４ｊ７
ｆ号、特公昭−２−参ｊ参Ｊｆ号、特開昭弘？−ＪＪＩ
ＷＯ号、特Ｍ昭参？−３４ＡｕｌＪ号、特開昭−２−ｊ
参λＪｊ号公報に示されているふうなイオン化蒸着法も
本発明に用いられる。

本発明に用いられる基体としてはポリエチレンテレフタ
Ｖ−）、ポリイミド、ポリ了ミド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンナフ
タレートの工うなプラスチック′ベースが好ましい０％
に本発明においては表面粗さくｒａ）がｏ、ｏｉλμｍ
以下である工うな上記可撓性プラスチックベースが好ま
しい、ここで表向粗さくｒａ）とはＪＩＳ−ＢＵ４０ｉ
ｔｚ）１項に示されている中心線平均粗さで、カットオ
フ７４０．２１１とする。さらに上記プラスチックベー
ス上に下塗り層を設け、そのＩＲ面粗さくｒａ）％ｒＯ
５Ｏ／λμｍ以下としたものｔ基体として用いてもいい
。

酸化性ガスとしては酸Ｉｋ用いるが工く、酸素単独でも
、他のガスと混合してもどちらでも良い。

酸化性ガスを含む蒸着雰囲気としては／ｘｌＯ”６ 〜／ｘ１０　　Ｔｏｒｒが好ましい。

さらに本発明においては、積層してなる磁性薄膜の間に
非幽性層を介在させてもいい。非磁性中間層として好ま
しいものは、Ｃｒ、８ｉ、　Ａｔ。

Ｍｎ、Ｂｌ、’ｌ’ｉ、８ｎ、Ｐｂ、Ｉｎ、Ｚｎ。

Ｃｕあるいはこれらの酸化物、窒化物工す構成される層
である。

第１図おＬび第、２図に本発明にＬる磁気記録媒体の構
盛例ｒ図式的に示している。

第１図は蒸発源から蒸発せしめた磁性金属材料の蒸気流
ｒ酸化性ガス雰四気中で移動する基体−Ｅに入射角ｔ１
６へ射角から低入射角へと連続的に変。

化させて蒸ｙ！ｉすることにニジ得ら、れる彎曲した傾
斜柱状構造ｋｉｔや蒸着展が、傾斜柱状構造が互いに同
一方向になる↓うに積層されてなる磁気記録媒、体覧示
している。すなわち支持体Ｂｙ上に第ｉ＠ｔ、お工び、
第λ層コの蒸着磁性膜が形成されている、各層の磁性膜
ｌ、λは彎曲した傾斜柱状構造ｌ／、／−ＩＩ−有して
おり、＠／層ｌと第２層２とて柱状構造１１．１Ｊｃ）
ｌｌＩｉＩ斜方向は同一になっている。傾斜柱状構造／
／、／Ｊの支持体Ｂ／のｔ、１ｉｉｌに対する傾きは支
持体Ｂ／に近い方で大きく、支持体９／１り遁くなるに
つれて小さくなっている。＠／図においてはλ層構造ｒ
示しているが。

λ鳩以上の多層構造であっても良い。

第１図に示された構成の磁気記録媒体に工れば電歿変撲
％性に丁ぐれるのみならず耐摩耗性おＬび耐候性にすぐ
れた磁気記録媒体が得られるものであるが、第２図に示
す構成によれば方向性異方性の小さいという特徴も兼ね
備えた磁気記録媒体が得られる。従来性われた工うに斜
め入射蒸着磁性膜を単に一層設けてなる磁気１ｃ［媒体
では磁気ヘッドに対する相対運動時の往路、（１回路で
の電磁変換特性、走行性等が大きく真なるという欠点を
有していた。この１つな方向性異方性の有することは実
用上問題であるが、第２図に示す層構成とすればこの欠
点が解決される屯のである。すなわち支持体ＢＪ上にｍ
／１ｉＩＪお工びｍコ層−０蒸着磁性膜が形成されてい
る。各層の磁性膜Ｊ、参は彎曲した傾斜柱状構造ＩＪ及
びｌ−ｒ有してシシ。

前記第１層３と第コｍ−とで各柱状構造／Ｊ及びｌ−の
傾斜方向は互いに交差している。前記各傾斜柱状構造／
Ｊ及び／４４の支持体ＢＪの法線に対する傾きは、前記
支持体Ｂλに近い方で大きく。

該支持体ＢＪ工り遠くなるにつれて小さくなっている。

第１図にかいてはλ層構造ｒ示しているが。

２層以上の多層構造であってもいい。

次に実施例Ｖもって本発明を具体的に説明するが本発明
はこれに限定されるものではない。

実施例−象 第３図にその４部ｒ示した巻取り式蒸着装置コＯｉ用い
、−２３μｍ岸のポリエチレンテレフタレートフィルム
ロ９ｒクーりングキャンＪＪＫ償って搬送させながらそ
の表面：に斜め蒸着に１リコバルト磁性薄膜Ｖ形成させ
て磁気テープＶ作製した。

蒸発源コｌとしては電子ビーム加熱式蒸発源を使用し、
ガス導入口１すｍ’ｓガスｒ真空槽内に導入しながら／
Ｘ／（７Ｔｏｒｒの真空度で蒸着ｒ行った。なお、Ｊ４
１Ｃは防着板である。磁性膜の全厚はλ０００λとなる
工うにし、蒸着の際の入射角設定はθｍａｘｙり０＠ａ
ｒｎｉｎｙｕＯ”とした。フィルムを蒸着入射角度が２
００からｕｏ＠へと連続的に変化する方向に移動させつ
つ磁性博ＩＩ４′ｌｔ形成して巻取った彼１巻取られた
ロール１１Ｊｊ！シ再度前述した方法で斜め蒸着を行い
、第１図に示した構成の磁気テープを得た。得られた磁
気テープはＶＨ８型ｖ’ｒｔｔｇて電磁変換特性、スチ
ル耐久性を測定した。出気配録層の層構成お１びポリエ
チレンテレフタレートフィルムの表面粗さｒｆ化させた
場合の磁気テープの抗磁力、減−、スチール耐久性％４
ＩＭＨｚのビデオ出力、４’ＭＨｇの信Ｊ１ｇｒ記録し
た時のＪＭＨｚでの変調ノイズを第１表に示す、減磁は
磁気テープの耐候性Ｖ見るために、磁気テープτｔＯ＠
Ｃ，りＯ暢相対湿度中Ｋ。

７日間保持した場合の飽″ＩＦｕ蜘束密得（Ｂｍ）の減
少を測定また。第１表には７日間上紀境境中に保持した
後の飽和磁束密度（Ｈｍｙ）の当初の飽和磁このＬうに
酸素宴曲気中にて、基体に対する蒸気流の入射角を高入
射から低入射へと連続的に便化させて蒸着した磁性薄Ｐ
Ａｖ傾斜柱状構造が互いに同一方向になるよう積層して
なる１気テープは単層の場合に比して磁気％性が良いば
かりでなく耐候性、耐久性、出力、ノイズにおいてすぐ
れることが明ら力為である。特に表面粗さくｒａ）が０
゜０１コμｍ以下のプラスチックベース上に上記積ｉａ
性膜ｒ設けてなる磁気テープは耐候性、耐久性、再生出
力がさらに向上することがわかる。

実施例−２ 実施例−１，と同様に巻取り式蒸着装置コＯを用いて１
４′μｍ厚のポリエチレンテ°レフタレートフイルム上
斜め蒸着に工りＣｏ−Ｎ１（Ｎｉ；／７重量％）ａ性薄
膜を形成させて磁気テープｒ作製した。酸゛累導入時の
圧力は／、ＡＸｌｏ　　Ｔｏｒｒとし、入射角ｅｍａｘ
ｙｌｌ”、６ｍ１ｎ２４０”　　とした。磁性膜の全厚
は１ｚｏｏＡとなる工う作製した。層構成お１び基体の
表面粗さＶ変化させた場合の磁気テープの特性は＠−表
ＯＬうである。

実施例−３゜ 第１図に示した巻取り式蒸着装置Ｊａｙ用い。

２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムＢｌ
！−クーリングキャンλＪＫ宿って搬送させつつその表
面に斜め蒸着にエリコバルト磁性薄膜ｒ形成させて磁気
テープを作製した。ガス導入口重り酸素ガスと窒素ガス
の混合ガス（ｆｉ童比Ｊ／／　）を真空槽内に導入しつ
つｉ、１ｘ１０　　Ｔｏｒｒの圧力で蒸着ｉ行った。蒸
着の際の入射角設定は−＃ｍａｘｌＦ０°、＃ｍ１ｎｌ
＃Ｊ’　　とした、佃性属の全厚は一２０００λとなる
１うにした。蒸着入射角度がりＯ′からｇｏ”″へと連
続的に変化する方向に移動させつつ蒸発源コｌ工り斜め
蒸着に１９ｉ性薄膜虻形成して巻取った後１巻取られた
ロールを逆送りしながら他の蒸着源−２λに１シ斜め蒸
着ｒ行い第２図に示した構成の磁気テープＶ得た。

得られた磁気テープはｖＨ８型’ＶＴ）ｌ−にて電磁変
換籍性、スチル耐久性ｒ測定した。ａ性層の層構成お↓
び基体の表面粗さＶ変化させた場合の磁気テープの抗−
力、減磁、スチール耐久性−り出２この工うに、＃！化
性ガス雰囲気中で基体に対する蒸気流の入射角を高入射
から低入射へと連続的に変化させて蒸着した卵性薄１１
ｋ”その柱状構造が交差する工うに積層してなる磁気テ
ープは、単層の場合に比して磁気特性が良いばかりでな
く、耐候性、耐久性、出力、ノイズにおいてすぐれ、且
つテープ走行方向ｒ逆転させた時の出力差においてもす
ぐれることが明らかである。特に表面粗さｒｌがｏ、ｏ
ｉコμｍ以下のプラスチックベース上に上紀積層磁性薄
農を設けてなる磁気テープは耐候性、耐久性、杏生出力
がさらに向上することがわかる。

実施例−４゜ 実施例Ｓ、と同様に巻取１式蒸着装置コＯ菅用いて／ｌ
ｔｔｍＮ（Ｄポリエチレンテレフタレートフィルム上に
斜め蒸着によ１）Ｃｏ−Ｃｒ（Ｃｒ：ｊ重量慢）ａ性薄
膜ｉ形成させて磁気テープｉ作製した。酸素ガス導入時
の真空度は１ｘｌＯＴｏｒｒとし、入射角θｍｔｈｘ２
９０’　、ｌｊｍｉｎｌｌｏｏとした。磁性膜の全厚は
ＩｊｏｏにとなるＬうに作実施例−器 実施例−３，と同様＃ＣＩ＄９式蒸着装置−２０ｙ用い
て／４Ａｐｍ厚のボリアオドフィルム上に斜め蒸着Ｋｊ
ｐＣｏ−Ｎｉ（Ｎｉ　：ＪＯ重量５）ＩＩ性薄膜を形成
させて磁気テープＶ作製した。醗嵩ガス導入時の真空度
はりｘｌｏ　　　Ｔｏｒｒとし、入射角＃ｍａｘｌｊり
Ｏ″、入射角＃ｍ１ｎｋ−ｊＯ’とした。Ｓ性膜の全厚
は１１００人となるＬうに作負した６層構成シエび基体
の表面粗さｔ変化させ念場合の磁気テープの特性は第１
表０１うである。

磁気テープの特性は実施例−３，と同様にして測定した
。

比較として酸素Ｖ導入せずに作製したサンプルについて
の特性も示した。

以上の実施例から明らかな１うに、移動する基体に対す
る蒸気績の入射角Ｖ高入射角から低入射角へと連続的に
変化させることに１〕形成した蒸着磁性薄ＪＩｌｔ少な
くとも一層積層してなる磁気配録媒体は、磁気特性、耐
候性、耐久性、再生出力ノイズにすぐれている。

特に表面粗さくｒａ）が０．０１２ｐｍ以下のプラスチ
ックフィルム上に上配槓層磁性薄膜Ｖ設けてなる磁気テ
ープは耐候性、耐久性、再生出力ノイズにおいてさらに
すぐれ蒸着テープの実用化上そのメリットは極めて大き
い。

【図面の簡単な説明】

第１図、第一図は本発明にＬる磁気記録体の構成例を図
式的に示している。 ９３図は本発明の実施例に使用した装置の略図である。 特許出絨人　富士写真フィルム株式会社第１図 第２図 ４ 第３図 ２２　　　　　　　　２１ 手続補正書 昭和ｊ１年を月４日 特許庁長官　　島　１）春　樹　　ｍａｌｌ、事件の表
示　　　　昭和５４年　特願第１／／７Ｊり号２、発明
ノ名称　　　　磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　　　特許出願人を 住　所　　神奈川県南足柄市中沼２１０番地連絡先　〒
１０６東京都港区西麻布２丁目２６番３０号千當　補正
の対象　　明細書の「特許請求の範囲」の欄、「発明の
詳細な説明」 の欄 イ 鑞　補正の内容 （１）　　本願明細書の「特許請求の範囲第要項」の記
載を別紙の通シ補正する。 （２）本願明細書の「発明の詳細な説明」の記載を次の
通シ補正する。 別紙 ｚ　４Ｉ許請求の範囲 （１）　　蒸発源より蒸発せしゆた磁性金属材セの蒸気
ｆＩＬｔ酸化性ガス＃囲気中にて、移動する箒体に斜め
に入射蒸着してなる磁気記録媒体であって、前記移動基
体に対する皺蒸気流の入射角を高入射角から低入射角へ
と連続的に変化さ−ることによ６雫ａｔ、た傾斜柱状構
造を成す蒸着膜管積層して成ることを特徴とする磁気記
録媒体。 （２；　　傾斜柱状構造が互いＫＩＷｌ一方向に１にる
ように積層されてなる特許請求範囲第１項記載の磁気記
録媒体。 （３）　　傾斜柱状構造が互いに交差するように積層さ
れてなる特許１１１１求範＠Ｕ第１項記載ター気記−媒
体。 （４）　　前記基体として、磁性薄膜を設けるべき表面
が０．０１２７ｍｐｊ”ｆＯ粗さくｒａ）ｆ有して威６
２とｔ４Ｉ黴とする特許請竺範囲第′項記載０磁気記ａ
ｍ体。 （５）前記各磁性薄膜間に非磁性層を介在させ友ことｔ
−１１ＩＩ像とすゐ特許請求の範囲第７項記載の磁気１
鎌媒体。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　蒸発源シシ蒸発せしめた磁性金属材料の蒸気
   Ｒｔ酸化性ガス雰囲気中にて、移動する基体に斜めに入
   射蒸着してなる磁気記録媒体であって。 前記移動基体に対する該蒸気流の入射角を高入射角から
   低入射角＼と連続的に変化させることによ如彎−した傾
   斜柱状構造を成す蒸着層ｉ積層して成ることｒ％黴とす
   る磁気記録媒体８ （り傾斜柱状構造が互いに同一方向になる孟うに積層さ
   れてなる特許請求範囲第１項記載の磁気記録媒体。 （３）傾斜柱状構造が互いに交差する１うに積層されて
   なる％ｆｆ＃ｌｌｌ求虻囲第、／凋記載の磁気記録媒体
   。 （４）　　前記基体として、磁性ＩＩＩ膜虻設けるべき
   表面が０．０／２μｍの粗さくｒａ）ｙ−有して成るこ
   とｒ％黴とする特許請求範囲第１項記載の磁気記録媒体
   。 （５）　　前記各出性薄膜間に非磁性層を介在させたこ
   とＹｔ特徴とする特許請求の範８醜１項記載の磁気記録
   媒体。