JPS58132162A - 低温プラズマ処理装置 - Google Patents

低温プラズマ処理装置

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JPS58132162A
JPS58132162A JP57010441A JP1044182A JPS58132162A JP S58132162 A JPS58132162 A JP S58132162A JP 57010441 A JP57010441 A JP 57010441A JP 1044182 A JP1044182 A JP 1044182A JP S58132162 A JPS58132162 A JP S58132162A
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JP
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fabric
temperature plasma
insertion tube
low
fabric winding
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JP57010441A
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山東 美一
後藤 徳樹
逸雄 田中
石徴白 博司
南方 松夫
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Sando Iron Works Co Ltd
Unitika Ltd
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Sando Iron Works Co Ltd
Unitika Ltd
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    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06BTREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
    • D06B3/00Passing of textile materials through liquids, gases or vapours to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing, impregnating
    • D06B3/10Passing of textile materials through liquids, gases or vapours to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing, impregnating of fabrics
    • D06B3/20Passing of textile materials through liquids, gases or vapours to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing, impregnating of fabrics with means to improve the circulation of the treating material on the surface of the fabric
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06CFINISHING, DRESSING, TENTERING OR STRETCHING TEXTILE FABRICS
    • D06C29/00Finishing or dressing, of textile fabrics, not provided for in the preceding groups
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06MTREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M10/00Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
    • D06M10/02Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements ultrasonic or sonic; Corona discharge
    • D06M10/025Corona discharge or low temperature plasma

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、編物、織物、不織布等の布帛を低温グラズマ
処理するための処理装置に関するものである。
従来工業的に織物、編物など布帛を連続的に処理する工
程は、染色前の工程では、布帛に付着している撥水性夾
雑物を除去、あるいは親水化し布帛に染料液が容易に浸
透せしめるための精練工程および染色後、柔軟、撥水、
静電防止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工程が
あるがいずれの工程も水系で処理を行っていた。
たとえば精練工程では、木綿を含む布帛の場合カセイソ
ーダ、ソーダ灰などのアルカリ精練助剤を付与し、10
0℃前後で20分以上スチーミングあるいはアルカリ、
精練助剤を含む水浴液で煮沸して、撥水性夾雑物を水溶
化せしめ次いで処理布帛に付着している薬剤および可溶
化された夾雑物等の付着物を除去するための手段として
水洗を繰〕返し行い更に絋、水洗後乾燥する工程が必要
であった。
また、仕上工程においては、水に溶解あるいは分数させ
た仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して水分を蒸発除
去させる工程が必要であシ加工目的によってはさらに高
温熱処理により仕上剤を反応固着せしめる工程が必要で
あった。
ところがかかる処理手段では処理用の薬剤がコスト高に
なること、薬剤を布帛に反応せしめるために多量の熱量
を必要とすること更には処理された布帛に含まれる残液
あるいは夾雑物等の付着物を除去せしめるための多数の
水洗機及びこれらの各水洗機内に供給すべき多量の水資
源が必要であること、更には水洗された排液を廃棄処理
するための装置が必要である等のことから、布帛を処理
するには、多量の水資源、熱エネルギーを費しているの
が現状である。また水洗機よシ排出される廃液中には必
然的にも薬剤が含まれることから、排液公害等のfl[
i[も生じ、該廃液の処理にも多大なる設備費、人件費
等がかさんでいるもので、特に繊維加工業会においては
経済性に欠けるものであった。
このようなことから、最近では布帛等の繊維製品に低温
プラズマを処理して例えば布帛の糊抜、精練効果を得る
ことあるいは柔軟、撥水、静電防也防汚、吸水など仕上
加工を行うことが提案されているが、既に提案されてい
るパッチ式の低温プラズマ処理装置においては、長尺の
シート状物をバッチ内に設置した支軸又ヒロールに巻き
とシ、これを他方の支軸又はロールに巻きとって移行せ
しめるシート物に低温プラズマを照射しているものであ
るが、運転中は、パッチ内全体が常に低温プラズマ雰囲
気に保持され、しかも該雰囲気中にロール状に巻かれて
いるシート物が位置されているために、ロール状に巻か
れているシート物の両端面部は常に低温プラズマ雰囲気
にされているのに対し、ロール状となって重ね合されて
いる部分は、他方のロールによシ引き出されるまでは低
温プラズマの影響を受けないので長尺シート物の両側端
縁部と、そのシート物の幅方向中央部とでは、低温ゾラ
ズiによる処理量が異り、処理むらを生じる問題点があ
った。またパッチ内全体を低温プラズマの雰囲気に保持
せしめるため、多量のガス及び電力が消費され効率の点
でも問題があった。
本発明はかかる問題点を解消するためになされたもので
、パッチ式の低温プラズマ処理装置において、低温プラ
ズマの消費効率(反応効率)を高めると共に、布帛の全
面に亘って均一なる低温プラズマ処理を行なうことがで
きるプラズマ処理装置を提供することを目的とするもの
である・以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細
に説明する。
1は中心部に布帛巻取軸2を有する筒状の布帛巻取ケー
スであって、このケースlは、その母線方向に設けたス
リット状の布帛出入口3を除く他の部分は密閉構造とな
っておシこれら布帛巻取ケース1は、予め2個用意され
ている。4社双方の布帛巻取ケース相互間に配置されて
いる布帛挿通管であって、かかる布帛挿通管4は高周波
を透過させる材質例えば石英管、耐熱ガラス管などで形
成されておシ、更にこの布帛挿通管4の両側開口部は、
前記双方の布帛巻取ケース1に設けられている布帛出入
口3に気密に接続されている。との布帛挿通管4の外周
面には、高周波電極板5及び6の双方電極板が対設され
ておシそのどちらか一方の極板はアースされている。t
たこの布帛挿通管4にはガス供給ロアが形成されている
。尚前記の布帛出入口3は、布帛を連続的に挿通するこ
とができる範囲内で可及的その開口面積が小さくなるよ
うに形成し、更にその出入口3には第2図の詳細図で判
るようにバキエームロ8が形成されておシ、このパキエ
ームロ8には図示しない真空ポンプが接続されている。
以上が本実施例の構成であるが、次にその作用について
述べると一方の布帛巻取軸2に処理すべき布帛9を巻き
取り、その布帛9の先端を他方の布帛巻取軸2に取付け
ると共に、その双方の布帛巻取ケースlの布帛出入口3
相互間を布帛挿通管4で接続する6次いで図示しない真
空ポンプを駆動して布帛巻取ケース1及び布帛挿通管4
内を負圧となして、その内部の真空度を0. I To
rr以下、望ましくは、0,6〜0.7Torrに調整
保持せしめる働そこでガス供給ロアよりガスを布帛挿通
管4内に供給して、この布帛挿通管4内の真空度が0.
l〜l Q Torrさらに望ましくは0.5〜5 T
orrとなるように調整した上で高蝿波電源よシ高周波
例えば13.56 MHzを電極板5.6に給電して、
布帛挿通管4内を低温プラズマの雰囲気とさせる。次い
で布帛巻取軸2を駆動して布帛9を布帛挿通管4内を移
行させる。かくして布帛9を布帛挿通管4内の低温プラ
ズマ雰囲気中に移行せしめることによシ、該布帛の処理
ができる。
以上のように事実九例においては、低温プラズマ雰囲気
を保持する筒体の容量が小さい布帛挿通管4で形成した
ものであるから、プラズマ密度が高くしかもプラズマ密
度を高めることが迅速にできることから、低温プラズマ
雰囲気の形成が迅速にできると共に、布帛へのプラズマ
反応が効率よくできる。またプラズマ発生のためのガス
量及び電気量が少なくてすみ経済性が高められる。更に
本実施例では布帛挿通管の外部に電極板を設置したもの
であるから、その電極板がプラズマによって損傷(エツ
チング)されることなく電極板の耐久性が向上される。
また上記の布帛挿通管は透明な石英管あるいは耐熱ガラ
ス管などで形成したのでその内部が透視観察できる特長
もある。
尚上記実施例における布帛巻取軸2を、他の実施例とし
て通気性・母イブとなし、該・ぐイブを真空ポンプに接
続させればバキューム口8からの減圧と相まって布帛巻
取ケース1内の減圧を迅速に行なうこともでき、あるい
は布帛巻取ケースl内の巻取布帛を、別設の真空機構に
よシ予じめ減圧して、該布帛に含まれる水分等を予め除
去せしめておくこともできる効果がある。
また本実施例によれば、布帛巻取ケースの布帛出入口近
傍にパキエームロが設けられているので、布帛挿通管内
のプラズマが布帛巻取ケース1内に流動されることが殆
んどなく、従って布帛巻取ケース1内にあるロール状布
帛の端面部にプラズマが照射されることもないので、布
帛の全面に亘って均一な低温!ラズマ処理ができる効果
がある。
【図面の簡単な説明】
図面はいずれも本発明よシなる低温プラズマ処理装置の
実施例を示し、第1図はその全体構造を示した断面図、
第2図はそのl!部拡大断面図である。 l・・・布帛巻取ケース   2・・・布帛巻取軸3・
・・布帛出入口    4・・・布帛挿通管5.6・・
・高周波電極板   7・・・ガス供給口8・・・パキ
エームロ   9・・・布 帛第1図 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l スリット状の布帛出入口を除く他の部分は密閉され
    、かつ内部に布帛巻取軸を具備せしめてなる2組の布帛
    巻取ケースと、この双方の布帛出入口に連結されて双方
    の布帛巻取ケース内部を連通する高周波透過性材料から
    なる布帛挿通管と、骸布帛挿通管の外部周に配設された
    高周波電極板と、前記布帛挿通管に設けられ九ガス供給
    口と、前記布帛出入口近傍に設けられ九パキエームロと
    を有することを特徴とする低温プラズマ処理装置。 2 布帛巻取軸はパキエーム管で形成されていることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の低温プラズマ処
    理装置。
JP57010441A 1982-01-26 1982-01-26 低温プラズマ処理装置 Expired JPS6031938B2 (ja)

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JPS6031938B2 JPS6031938B2 (ja) 1985-07-25

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