JPS59120637A - シ−ト状物質の低温プラズマ処理方法 - Google Patents
シ−ト状物質の低温プラズマ処理方法Info
- Publication number
- JPS59120637A JPS59120637A JP23129582A JP23129582A JPS59120637A JP S59120637 A JPS59120637 A JP S59120637A JP 23129582 A JP23129582 A JP 23129582A JP 23129582 A JP23129582 A JP 23129582A JP S59120637 A JPS59120637 A JP S59120637A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- low
- temperature plasma
- form material
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シート状物質に連続的に低温プラズマ処理を
行うに際して、シート状物質の巾方向に均一に処理を行
う方法に関するものである。
行うに際して、シート状物質の巾方向に均一に処理を行
う方法に関するものである。
さらに詳しくは、シート状物質すなわち布帛、不織布、
フイルム等を減圧下で互いに平行に設置された高周波電
極間で低温プラズマを発生させ、その雰囲気で連続的に
処理する方法において低温 プラズマ雰囲気中のシート状物質の周囲に通気性のある
導電性グリツドを電極とは絶縁状態で介在せしめること
により、処理効果を巾方向に均一化ならしめる方法に関
するものである。
フイルム等を減圧下で互いに平行に設置された高周波電
極間で低温プラズマを発生させ、その雰囲気で連続的に
処理する方法において低温 プラズマ雰囲気中のシート状物質の周囲に通気性のある
導電性グリツドを電極とは絶縁状態で介在せしめること
により、処理効果を巾方向に均一化ならしめる方法に関
するものである。
従来から、シート状物質の表面特性を変化させる方法と
して薬剤溶液のバツドドライ法、コーテイング法、水溶
液での薬剤吸着法、あるいは水溶液での分解エツチング
法等が一般に行われてきたが、これらの方法はいずれも
加熱乾燥のための熱エネルギーや水資源を多量に使用し
ているのが現状であり、しかも水溶液の処理では当然廃
液の処理が必要であり、この公害対策として設備費、操
業費等余分の経費をも必要とした。
して薬剤溶液のバツドドライ法、コーテイング法、水溶
液での薬剤吸着法、あるいは水溶液での分解エツチング
法等が一般に行われてきたが、これらの方法はいずれも
加熱乾燥のための熱エネルギーや水資源を多量に使用し
ているのが現状であり、しかも水溶液の処理では当然廃
液の処理が必要であり、この公害対策として設備費、操
業費等余分の経費をも必要とした。
このようなことから、最近ではシート状物質を低温プラ
ズマで処理することによりその表面をエツチング、酸化
、還元したりあるいはその表面にグラフト重合等を行つ
て表面を改質し、シート状物質に親水性、防汚性、ソイ
ルリリーズ性、撥水性、撥油性、防炎性等の新しい特性
を付与したりあるいは接着性、印刷特性等を向上する方
法が提 案されている。
ズマで処理することによりその表面をエツチング、酸化
、還元したりあるいはその表面にグラフト重合等を行つ
て表面を改質し、シート状物質に親水性、防汚性、ソイ
ルリリーズ性、撥水性、撥油性、防炎性等の新しい特性
を付与したりあるいは接着性、印刷特性等を向上する方
法が提 案されている。
しかしながら、 シート状物質を低温プラズマ雰囲気で
連続処理する場合、工業的に最も問題となるのは巾方向
の不均一性であり、この問題の解決なくして工業化は極
めて困難であつた。低温プラズマ処理工程において処理
斑となる要因は色々あり、例えば処理ガス導入の不均一
に起因するものやシート状物質の搬送張力の不均一に起
因するもの等があるが、解決の最も困難な要因は低温プ
ラズマの処理効果がシート状物質の両端部で強く中央部
で弱いことである。
連続処理する場合、工業的に最も問題となるのは巾方向
の不均一性であり、この問題の解決なくして工業化は極
めて困難であつた。低温プラズマ処理工程において処理
斑となる要因は色々あり、例えば処理ガス導入の不均一
に起因するものやシート状物質の搬送張力の不均一に起
因するもの等があるが、解決の最も困難な要因は低温プ
ラズマの処理効果がシート状物質の両端部で強く中央部
で弱いことである。
本発明者等は、このシート状物質の巾方向の低温プラズ
マ処理斑を解決するために鋭意研究の結果、低温プラズ
マ雰囲気中でシート状物質の周囲に通気性のある導電性
グリツドを、電極とは絶縁状態で介在せしめることによ
り巾方向の均一化処理が行われるという事実を見出し、
本発明に到達した。
マ処理斑を解決するために鋭意研究の結果、低温プラズ
マ雰囲気中でシート状物質の周囲に通気性のある導電性
グリツドを、電極とは絶縁状態で介在せしめることによ
り巾方向の均一化処理が行われるという事実を見出し、
本発明に到達した。
すなわち本発明は、一対の高周波電極間に低温プラズマ
を発生させ、この低温プラズマ雰囲気中にシート状物質
を移行せしめて行うシート状物質の低温プラズマ処理方
法において、上記低温プラズマ雰囲気中のシート状物質
の全面にこれと平行に通気性のある導電性グリツドを上
記電極とは絶縁状態で介在せしめて処理を行うことを特
徴とするシート状物質の低温プラズマ処理方法である。
を発生させ、この低温プラズマ雰囲気中にシート状物質
を移行せしめて行うシート状物質の低温プラズマ処理方
法において、上記低温プラズマ雰囲気中のシート状物質
の全面にこれと平行に通気性のある導電性グリツドを上
記電極とは絶縁状態で介在せしめて処理を行うことを特
徴とするシート状物質の低温プラズマ処理方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明でいうシート状物質とは、ナイロン、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ビスコース等を原料としたフイルムや不織布、織物、編
物等の布帛あるいは木綿、羊毛、絹等の天然繊維布帛又
は上記天然繊雑と合成繊維とを適宜混用してつくられた
布帛を意味するものとする。
ル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ビスコース等を原料としたフイルムや不織布、織物、編
物等の布帛あるいは木綿、羊毛、絹等の天然繊維布帛又
は上記天然繊雑と合成繊維とを適宜混用してつくられた
布帛を意味するものとする。
これらのシート状物質の低温プラズマ処理は、処理目的
に適合した気体を供給しつつ減圧（例えば０．１〜５Ｔ
ｏｒｒ）に保持し、隔設された一対の電極間に該シート
状物質を連続的に搬送した状態で高周波（例えば１３．
５６ＭＨｚ）を印加して低温プラズマを発生させ処理す
るが、本発明の特徴とするところは、従来の方法がただ
単に隔設された−対の電極間 にシート状物質を搬送させるのに対し、本方法では処理
をうけるシート状物質の周囲にさらに通気性のある導電
性グリツドを、電極とは絶縁状態で介在せしめながら処
理を行う点にある。
に適合した気体を供給しつつ減圧（例えば０．１〜５Ｔ
ｏｒｒ）に保持し、隔設された一対の電極間に該シート
状物質を連続的に搬送した状態で高周波（例えば１３．
５６ＭＨｚ）を印加して低温プラズマを発生させ処理す
るが、本発明の特徴とするところは、従来の方法がただ
単に隔設された−対の電極間 にシート状物質を搬送させるのに対し、本方法では処理
をうけるシート状物質の周囲にさらに通気性のある導電
性グリツドを、電極とは絶縁状態で介在せしめながら処
理を行う点にある。
これを図面によつて詳細に説明すると次のごとくなる。
まず、第１図は低温プラズマ処理装置の要部の横断面図
である。（１）は反応器であつて、この反応器に処理す
べきシート状物質（２）（２′）を出し入れするための
開口部（３）（３′）が設けられており、これらの開口
部は蓋（４）（４′）によつて密閉されるようになつて
いる。シート状物質の投入、蓋の密閉につづいて排出口
（１２）より排出して減圧とする。シート状物質（２）
（２′）は巻取軸（６）（６′）のいずれか一方より送
りだされ、ガイドローラ（５）（５′）にてシート状物
質の位置を保持した状態で高周波電極（７）（８）間の
プラズマ雰囲気中で処理され、他方の巻取軸に巻取られ
る。
である。（１）は反応器であつて、この反応器に処理す
べきシート状物質（２）（２′）を出し入れするための
開口部（３）（３′）が設けられており、これらの開口
部は蓋（４）（４′）によつて密閉されるようになつて
いる。シート状物質の投入、蓋の密閉につづいて排出口
（１２）より排出して減圧とする。シート状物質（２）
（２′）は巻取軸（６）（６′）のいずれか一方より送
りだされ、ガイドローラ（５）（５′）にてシート状物
質の位置を保持した状態で高周波電極（７）（８）間の
プラズマ雰囲気中で処理され、他方の巻取軸に巻取られ
る。
処理物の種類によつては一方方向の巻取りのみではなく
、間歇的に正逆転しながら処理を行つてもよい。（７）
（８）は高周波発生電極であり、電極（７）は高周波発
生器（１３）に、また電極（８）はアース（１４）に連
結され、高周波発生器（１３）の印加により両電極（７
），（８）間に高周波が発生する。処理気体は気体送入
口（１１）から送られ、ノズル（９）よりシート状物質
に吹付けられ、ノズル（１０）から排気口（１２）を通
つて排気される。
、間歇的に正逆転しながら処理を行つてもよい。（７）
（８）は高周波発生電極であり、電極（７）は高周波発
生器（１３）に、また電極（８）はアース（１４）に連
結され、高周波発生器（１３）の印加により両電極（７
），（８）間に高周波が発生する。処理気体は気体送入
口（１１）から送られ、ノズル（９）よりシート状物質
に吹付けられ、ノズル（１０）から排気口（１２）を通
つて排気される。
このような低温プラズマ処理装置を用いて本発明の低温
プラズマ処理を行うに際しては、低温プラズマ雰囲気中
のシート状物質の上下全面にこれと平行に（１５）（１
５′）の位置に通気性のある導電性グリツドを高周波電
極（７）（８）とは絶縁状態で介在せしめ、かかる状態
で低温プラズマの処理を行う。
プラズマ処理を行うに際しては、低温プラズマ雰囲気中
のシート状物質の上下全面にこれと平行に（１５）（１
５′）の位置に通気性のある導電性グリツドを高周波電
極（７）（８）とは絶縁状態で介在せしめ、かかる状態
で低温プラズマの処理を行う。
このように、導電性グリツドを介在せしめて処理を行う
と、シート状物質の低温プラズマ処理をその巾方向にわ
たつて非常に均一に行うことができるようになる。
と、シート状物質の低温プラズマ処理をその巾方向にわ
たつて非常に均一に行うことができるようになる。
本発明で用いる通気性のある導電性グリツドは材質とし
て鉄、アルミ、銅、ニツケル、ステンレス、真ちゆう等
の導電性金属を使用し、処理気体 の通過を均一にかつ容易にさせるため、第２図（ａ）に
示すごとく金属棒を組合せて平面状にしたもの、第２図
（ｂ）のごとき平面状金属網、第２図（ｃ）（ｄ）のご
とく孔（２３）（２４）をあけた金属板、あるいは発泡
金属板（図示せず） 等で構成されたものである。
て鉄、アルミ、銅、ニツケル、ステンレス、真ちゆう等
の導電性金属を使用し、処理気体 の通過を均一にかつ容易にさせるため、第２図（ａ）に
示すごとく金属棒を組合せて平面状にしたもの、第２図
（ｂ）のごとき平面状金属網、第２図（ｃ）（ｄ）のご
とく孔（２３）（２４）をあけた金属板、あるいは発泡
金属板（図示せず） 等で構成されたものである。
なお、処理気体を通過させるためのグリツトの空隙は、
低温プラズマ処理条件、例えば処理時の圧力、高周波の
出力、シート状物質の種類、要求される巾方向の均一性
の程度等により異なるが、通常は５ｃｍ以下、さらに望
ましくは３ｃｍ以下がよい。
低温プラズマ処理条件、例えば処理時の圧力、高周波の
出力、シート状物質の種類、要求される巾方向の均一性
の程度等により異なるが、通常は５ｃｍ以下、さらに望
ましくは３ｃｍ以下がよい。
次に実施例によつて本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
精練、染色、乾燥後のポリエステル加工糸織物（経糸：
ポリエステル仮撚嵩高加工糸１５０ｄ，緯糸：ポリエス
テル仮撚嵩高加工糸１５０ｄ／２，経糸密度１１０本／
吋、緯糸密度５５本／吋、平組織）を用意した。これを
第１図に示す低温プラズマ処理装置に投入し、下記処理
条件１の条件にて上記織物の低温プラズマ処理を行うに
際し、織物の処理面の上下両面に（１）第２図の（ａ）
に示す銅製の棒状グリツド、（２）第２図の（ｂ）に示
すステンレス製の網状グリツド、（３）第２図の（ｃ）
に示す銅製の孔板状グリツドを、絶縁状態でそれぞれ個
別に用いて合計６通り（上記（１）、（２）、（３）の
いずれを用いる場合にも３０秒と６０秒の２通りの処理
を行うので、合計６通りとなる。）の低温プラズマ処理
を行つた。
ポリエステル仮撚嵩高加工糸１５０ｄ，緯糸：ポリエス
テル仮撚嵩高加工糸１５０ｄ／２，経糸密度１１０本／
吋、緯糸密度５５本／吋、平組織）を用意した。これを
第１図に示す低温プラズマ処理装置に投入し、下記処理
条件１の条件にて上記織物の低温プラズマ処理を行うに
際し、織物の処理面の上下両面に（１）第２図の（ａ）
に示す銅製の棒状グリツド、（２）第２図の（ｂ）に示
すステンレス製の網状グリツド、（３）第２図の（ｃ）
に示す銅製の孔板状グリツドを、絶縁状態でそれぞれ個
別に用いて合計６通り（上記（１）、（２）、（３）の
いずれを用いる場合にも３０秒と６０秒の２通りの処理
を行うので、合計６通りとなる。）の低温プラズマ処理
を行つた。
処理条件１
使用気体 空気
気体流量 ５００ ｌ／ｍｉｎ
真空度 １ Ｔｏｒｒ
高周波周波数 １３．５６ ＭＨｚ
高周波出力 １ ＫＷ
処理時間 ３０秒及び６０秒
本発明方法との比較のため、上記（１）、（２）、（３
）等のグリツドを全く使用せず、その他については本実
施例と全く同一の方法でポリエステル加工糸織物の低温
プラズマ処理を行つた。
）等のグリツドを全く使用せず、その他については本実
施例と全く同一の方法でポリエステル加工糸織物の低温
プラズマ処理を行つた。
本実施例と比較例による処理後の織物について
その性能の評価を行うため、下記（１）〜（３）の方法
で色相差、風合差、ウイキング性、ＳＲ性の評価を行い
、その結果を第１表に示した。なお、参考までに各低温
プラズマ処理時に織物の表面温度差（耳から３ｃｍ入つ
た部分と中央部分の温度差）を下記（４）の方法で測定
したので、その結果を合せて第１表に示した。
で色相差、風合差、ウイキング性、ＳＲ性の評価を行い
、その結果を第１表に示した。なお、参考までに各低温
プラズマ処理時に織物の表面温度差（耳から３ｃｍ入つ
た部分と中央部分の温度差）を下記（４）の方法で測定
したので、その結果を合せて第１表に示した。
（１）色相差及び風合差の評価
５人のパネラーによる感能検査によつて次のごとく評価
した。
した。
◎＝耳部、耳端３ｃｍ部、中央部のあいだに全く差なし
。
。
〇＝耳部のみにわずかに差がある。
△：耳部、耳端３ｃｍ部と中央部との間にわずかに差が
ある。
ある。
×：耳部、耳端３ｃｍ部、中央部間に差がある。
（２）ウイキング性の測定及び評価
両耳３ｃｍ部及び中央部に水滴を落し、水の広がる速度
（秒）を測定した。
（秒）を測定した。
◎：耳端３ｃｍ部、中央部とも１秒以下で有意差
が認められないもの。
○：耳端３ｃｍ部、中央部に１〜５秒の差のあるもの。
△：耳端３ｃｍ部、中央部に１０秒以上の差のあるもの
。
。
（３）ＳＲ性の評価
処理布の両耳３ｃｍ部及び中央部にＢ重油を滴下し、２
０時間放置後、石ケン５ｇ／ｌ、４０℃１５分洗濯機に
て洗濯、乾燥後、汚れ除去の程度を評定した。
０時間放置後、石ケン５ｇ／ｌ、４０℃１５分洗濯機に
て洗濯、乾燥後、汚れ除去の程度を評定した。
◎：汚れ除去の程度が同程度のもの。
△：汚れ除去の程度に若干差が認められるもの。
（４）温度分布擬の測定
織物を巾方向に５等分し、日油技研工業■製サーモペー
パー（温度表示９５℃〜１２５℃）を各部分に添付し、
プラズマ処理を行つた後、サーモペーパーの変色により
処理時の温度差を推定した。
パー（温度表示９５℃〜１２５℃）を各部分に添付し、
プラズマ処理を行つた後、サーモペーパーの変色により
処理時の温度差を推定した。
第１表から明かなように、低温プラズマ処理に際して本
発明方法のごとく導電性のグリツドを絶縁状態で用いる
と、織物の巾方向の加工性が著しく均一になることがわ
かる。
発明方法のごとく導電性のグリツドを絶縁状態で用いる
と、織物の巾方向の加工性が著しく均一になることがわ
かる。
第１図は本発明方法で使用する低温プラズマ処理装置の
横断面図であり、第２図の（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は
いずれも本発明方法で使用する導電性グリツドの形状の
一例を平面図で示したものである。 図中の（１）は反応器、（２）（２′）はシート状物質
、（３）（３′）は開口部、（４） （４′）は蓋、（
５）（５′）はガイドローラ、（６）（６′）は巻取軸
、（７）は高周波側電極、（８）はアース側電極、（９
）（１０）はノズル、（１１）は気体導入口、（１２）
は気体排出口、（１３）は高周波発生器、（１４）はア
ース、（１５）（１５′）はグリツドを示す。また、第
２図の（ａ）は棒状グリツド、（ｂ）は網状グリツド、
（ｃ）（ｄ）は孔板状グリツドを示し、いずれも通気可
能部（２１）（２２）や通気孔（２３）（２４）を有し
ている。 特許出願人 ユニチカ株式会社
横断面図であり、第２図の（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は
いずれも本発明方法で使用する導電性グリツドの形状の
一例を平面図で示したものである。 図中の（１）は反応器、（２）（２′）はシート状物質
、（３）（３′）は開口部、（４） （４′）は蓋、（
５）（５′）はガイドローラ、（６）（６′）は巻取軸
、（７）は高周波側電極、（８）はアース側電極、（９
）（１０）はノズル、（１１）は気体導入口、（１２）
は気体排出口、（１３）は高周波発生器、（１４）はア
ース、（１５）（１５′）はグリツドを示す。また、第
２図の（ａ）は棒状グリツド、（ｂ）は網状グリツド、
（ｃ）（ｄ）は孔板状グリツドを示し、いずれも通気可
能部（２１）（２２）や通気孔（２３）（２４）を有し
ている。 特許出願人 ユニチカ株式会社
Claims (1)
- （１）一対の高周波電極間に低温プラズマを発生させ、
この低温プラズマ雰囲気中にシート状物質を移行せしめ
て行うシート状物質の低温プラズマ処理方法において、
上記低温プラズマ雰囲気中のシート状物質の全面にこれ
と平行に通気性のある導電性グリツドを上記電極とは絶
縁状態で介在せしめて処理を行うことを特徴とするシー
ト状物質の低温プラズマ処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23129582A JPS59120637A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | シ−ト状物質の低温プラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23129582A JPS59120637A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | シ−ト状物質の低温プラズマ処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59120637A true JPS59120637A (ja) | 1984-07-12 |
Family
ID=16921367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23129582A Pending JPS59120637A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | シ−ト状物質の低温プラズマ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59120637A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994007680A1 (de) * | 1992-10-01 | 1994-04-14 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur oberflächenbehandlung von kunststoffteilen |
| US6666923B1 (en) * | 1999-08-21 | 2003-12-23 | Lg Electronics Inc. | Plasma polymerizing apparatus having an electrode with a lot of uniform edges |
| JP2006525627A (ja) * | 2003-05-05 | 2006-11-09 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼーション | プラズマ処理装置および方法 |
| KR100763018B1 (ko) | 2006-10-17 | 2007-10-04 | 주식회사 다원시스 | 원단에 전도성을 갖게 하는 장치 및 방법 |
| US9849401B2 (en) | 2011-09-14 | 2017-12-26 | Major Bravo Limited | Distillation station |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP23129582A patent/JPS59120637A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994007680A1 (de) * | 1992-10-01 | 1994-04-14 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur oberflächenbehandlung von kunststoffteilen |
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| JP4914713B2 (ja) * | 2003-05-05 | 2012-04-11 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼイション | プラズマ処理装置および方法 |
| US8309033B2 (en) | 2003-05-05 | 2012-11-13 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Plasma treatment apparatus and method |
| KR100763018B1 (ko) | 2006-10-17 | 2007-10-04 | 주식회사 다원시스 | 원단에 전도성을 갖게 하는 장치 및 방법 |
| US9849401B2 (en) | 2011-09-14 | 2017-12-26 | Major Bravo Limited | Distillation station |
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