JPS6031939B2 - 低温プラズマ処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、編物、織物、不織布等の布尾を連続的に低温
プラズマ処理するための処理装置に関するものである。

従来工業的に織物、編物など布常を連続的に処理する工
程は、染色前の工程では布常に付着している溌水性爽雑
物を除去、あるいは親水化し布常に染料液が容易に浸透
せしめるための精練工程および染色後、柔軟、溌水、静
電防止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工程があ
るがいずれの工程も水系で処理を行っていた。たとえば
精練工程では、木綿を含む布岳の場合カセィソーダ、ソ
ーダ灰などのアルカリ精練助剤を付与し、１００ｑｏ前
後で２０分以上スチーミングあるし、はアルカリ、精練
助剤を含む水溶液で煮沸して、溌水性爽雑物を水溶化せ
しめ次いで処理布常に付着している薬剤および可溶化さ
れた爽雑物等の付着物を除去するための手段として水洗
を操り返し行い更には、水洗後乾燥する工程が必要であ
つた。

また仕上工程においては、水に溶解あるいは分散させた
仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して水分を蒸発除去
させる工程が必要であり、加工目的によってはさらに高
温熱処理により仕上剤を反応固着せしめる工程が必要で
あった。

ところがかかる処理手段では処理用の薬剤がコスト高に
なること、薬剤を布岳に反応せしめるために多量の熱量
を必要とすること更にはその処理された布常に含まれる
残液あるいは爽雑物等の付着物を除去せしめるための多
数の水洗機及びこれらの各水洗機内に供給すべき多量の
水資源が必要であること、更には水洗された排液を廃棄
処理するための装置が必要である等のことから、布岳を
処理するには多量の水資源、熱エネルギーを資している
のが現状である。

また水洗機より排出される廃液中には必然的にも薬剤が
含まれることから、擬液公害等の問題も生じ、該廃液の
処理にも多大なる設備費、人件費等がかさんでいるもの
で、特に繊維加工業会においては経済性に欠けるもので
あった。このようなことから、最近では、布常の繊維製
品を低温プラズマ処理して、例えば布岳が糊抜、精練あ
るし、は仕上加工を行うことが提案されているが、この
布精の連続低温プラズマ処理時においては、限られた大
きさの低温プラズマ処理室内で生起されている低温プラ
ズマ雰囲気中に、処理すべき布常を連続的に通過せしめ
て低温プラズマ処理を行なっているために、その低温プ
ラズマ雰囲気中を移行する布帯に、充分な低温プラズマ
を作用させようとするならばその布寅の移行速度を遅く
して低温プラズマ雰囲気中の布常滞在時間を長くするこ
とが考えられるが、この布扇の移行速度を遅くすること
は生産性を悪くする最大の問題点があった。本発明は、
かかる問題点を解決するためになされたもので、低温プ
ラズマ処理装置において、隔設された対の電極板相互間
で、低温プラズマ処理すべき布帯を蛇行せしめるための
布再ガイドロールを設けて、その布岳を対の電極板相互
間で生起されている低温プラズマ雰囲気中を往復移動せ
しめることで、充分な低温プラズマ処理を実現し、しか
も布吊の連続移行速度を上昇して生産性を高めることが
できる低温プラズマ処理装置を提供することを目的とす
るものである。

以下に本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。

１は連続処理が可能な反応器であって、この反応器１に
は低温プラズマ処理すべき布常２をこの反応器１内に連
続的に導入するための導入口３と、反応器１内の布畠を
連続的に導出させるための導出口４が設けられている。

またこの導入口３及び導出口４の夫々には、布帯を連続
的に挿適することはできるが、反応器１内を真空（０．
１〜ｌＯＴｏｒｒ、望ましくは０．５〜２Ｔｏｍ）に保
つことができるシール機構５及び６が設けられているが
、かかるシール機構５，６は、本発明者らが開発してい
る公知のシール機構を利用することによって反応器１の
導入口及び導出口をシールすることができる。更にこの
反応器１の内部には低温プラズマ処理機構が内装されて
いる。この低温プラズマ処理機構は、移行する布常２の
移送路を境として上下に隔設された一対の電極板７及び
８を有し、この一方の電極板７には、反応器１外に設備
された発振器（図示せず）からの高周波が供Ｖ給される
ものであり、他方の電極板８はアースされている。また
これらの電極板７及び８は、例えば金網あるいは多孔性
の金属板等であって、ガスの分散と分布が電極板の全面
に亘つて均一となるように形成されている。なぜならば
、電極板の全面より略均一な低温プラズマが発生できる
ようにすることであり、またその金属板の全面近傍に高
周波によって励起されたガスを略均一に漂わせるためで
ある。９は電極板７の全面に向けてガスを吹き出すため
の絶縁性材料からなるガスノズル、１０は電極板８を囲
むようにして形成されている絶縁性材料からなる吸気ダ
クトであって、この吸気ダクト１川ま、図示しない真空
ポンプに接続されている。

１１は反応器１内に配設された布幕のガイドロールであ
って、このガイドロール１１は、隔設された上下一対の
電極板７と８との間に形成される布用通路１２内で、布
岳２を蛇行状に往復移送することができるようにその多
数本が配設されている。

１３は、その狭い布畠通路１２内で蛇行される相互の布
常２が互に接触されることを防ぐために配設されたテン
ションロールである。

以上が本実施例の構成であるが、次にその作用について
述べると、先ず空ポンプ（図示せず）を駆動して反応器
１内の真空度が０．５〜５Ｔｏｍとなるように減圧した
後、ガスノズル９より空気又は酸素あるいはその他のガ
スを反応器１内に供給して、この反応器１内の真空度が
約ＩＴｏｎとなるように調整する。

そこで高周波電源（図示せず）より高周波、例えば１３
．５８ＭＨｚを電極板に給電して低温プラズマを発生さ
せる。かくして発生する低温プラズマ及びこのプラズマ
により励起されたガスの雰囲気中、即ち両電極板７，８
間の布高速路１２内に布帯２を蛇行せしめることにより
、該布良２の繊維に低温プラズマが作用し、布帯の親水
化が達成されるものであるが、この実施例によれば、対
設された両電極板７と８との間に形成されている狭い布
常通路１２内において、布常２が蛇行状に往復動される
ことから、この蛇行作用によって、布常２が低温プラズ
マ雰囲気中を移行するタイミングが長く設定され、充分
な低温プラズ処理が達成される。換言すれば布用への低
温プラズマ作用時間を一定としてそのプラズマ雰囲気中
における布局の蛇行数、即往復動回数を増大すれば、そ
れに比例して布常の移行速度を増大することができるの
で、生産性を向上せしめることができるものである。尚
上記実施例においては布用２を横方向に蛇行させる形態
のものであったが、これに限らず例えば電極板を左右方
向に隔設し、この双方の電極坂間で布良を上下方向へ蛇
行させるものであってもよい。また上記実施例の反応器
１は、布富を連続的に通過せしめることのできる連続処
理用のものであるが、バッチ式の反応器においても、同
機の目的は達成できる。以上のように本発明は、低温プ
ラズマ処理装置において、布常を連続的に通過せしめ得
る反応器内に隔設される対の電極板を配設すると共に、
その双方の電極板相互間で、低温プラズマ処理すべき布
常をその電極板と平行方向へ繰返し通過せしめるための
布常ガイドロールを設けて、布用を、対の電極板相互間
で生起これている同一低温ブラズマ雰囲気中を繰返し通
過せしめるようにしたものであるから、この本発明によ
れば、反応器内で発生されている低温プラズマ雰囲気中
を移行する布精への低温プラズマ作用時間を長く設定す
ることができ、これによって充分かつ効果的な低温プラ
ズマ処理が達成できると共に、生産性を向上せしめるこ
とができる効果がある。

また布帯へのプラズマ作用効率が高められプラズマエネ
ルギーを有効に省費できる特長もある。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明よりなる低温プラズマ処理装置の実施例を
示した説明図である。 １・・・・・・反応器、２…・・・布常、３・・・・・
・導入口、４・・・・・・導出口、５，６・・・・・・
シール機構、７，８・・・・・・電極板、９・・・・・
・ガスノズル、１０・・・・・・吸気ダクト、１１…・
・・ガイドロール、１２……布常通路、１３……テンシ
ヨンロール。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 低温プラズマ処理装置において、布帛を連続的に通
   過せしめ得る反応器内に、隔設される対の電極板を配設
   すると共に、その双方の電極板相互間で、低温プラズマ
   処理すべき布帛をその電極板と平行方向へ繰返し通過せ
   しめるための布帛ガイドロールを設けて、布帛を、対の
   電極相互間で生起されている同一低温プラズマ雰囲気中
   を繰返し通過せしめることを特徴とする低温プラズマ処
   理装置。