JPH0320511B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、編物、織物、不織布等の布帛を連続
的に低温プラズマ処理するための処理装置に関す
るものである。

［従来の技術］ 工業的に生産する編物、織物等の布帛を糊抜
き、精練等の処理（前処理）を行なう従来手段に
は、高圧あるいは常圧の下で多量の熱資源、水資
源あるいは特定の薬品を使用して湿熱処理するこ
とが周知である。この周知の前処理の一例につい
て具体的に述べれば、例えば苛性液に浸透剤配を
混和せしめた処理液を含浸せしめた被処理布帛を
常圧又は高圧の反応室内でスチーミングし、この
スチーミングを所定時間続けて薬液により反応を
行なつて前処理を完了せしめ、次いでこの被処理
布帛に付着する薬液または、夾雑物等の付着物を
除去するための手段として水洗を繰返し行ない、
更には、この水洗した被処理布帛を乾燥機内に通
して乾燥し、目的とする前処理を完了しているも
のであつた。

［発明が解決しようとする課題］ ところが、かかる前処理手段では、処理用の薬
液が必要であることと、この薬液を布帛に反応せ
しめるために、多量の蒸気を必要とすること、更
にはその蒸気及び薬液により反応処理された布帛
に含まれる残液あるいは夾雑物等の付着物を除去
せしめるための多数の水洗機及びこれらの各水洗
機内に供給すべき多量の水資源が必要であるこ
と、更には水洗された排液を廃棄処理するための
装置が必要である等のことから、布帛を前処理す
るには多量の水資源、熱エネルギーを費している
のが現状である。また水洗機より排出される廃液
中には必然的にも薬剤が含まれることから、廃液
公害等の問題も生じ、該廃液の処理にも多大なる
設備費、人件費等がかさんでいるもので、特に加
繊維工業会においては経済性に欠けるものであつ
た。このようなことから、最近では、布帛等の繊
維製品を低温プラズマ処理して、例えば布帛の糊
抜き、精練効果を得ることが提案されているが、
この布帛の低温プラズマ処理時においては、低温
プラズマ処理室に供給する直前の布帛に含まれる
揮撥性物質をできるだけ除去することが要求され
る。なぜならば揮撥性物質を含む布帛を、低温プ
ラズマ雰囲気が保持される反応器内に供給する
と、その揮撥性物質の揮撥作用により、反応器内
の真空度が下がつて低温プラズマの発生に支障を
起したりまた揮撥性物質が低温プラズマとなつて
副反応をおこすなどの問題点があつた。

［課題を解決するための手段］ 本発明はかかる問題点を解決するために発明さ
れたものであつて、連続式の低温プラズマ処理装
置において、この低温プラズマ処理装置である反
応器内に区分室を設けて、少なくとも複数の処理
室を形成し、その反応器内において、揮撥性物質
の除去を行なう１次処理室と次いで低温プラズマ
処理を行なう２次処理室とを形成して布帛の低温
プラズマ処理を効果的に行なうことができる低温
プラズマ連続処理装置を提供することを目的とす
るものである。

［実施例］ 以下に本発明における装置を図面に示す実施例
に基いて詳細に説明する。

１は反応器であつて、この反応器１には低温プ
ラズマ処理すべき布帛２をこの反応器１内に連続
的に導入するための導入口３と、反応器１内の布
帛を連続的に導出させるための導出口４が設けら
れている。またこの導入口３及び導出口４の夫々
には、布帛を連続的に挿通することはできるが、
反応器１内を真空（0.1〜10Torr、望ましくは0.5
〜2Torr）に保つことができるシール機構５及び
６が設けられているが、かかるシール機構５，６
は、本発明者らが開発している公知のシール機構
を利用することによつて反応器１の導入口及び導
出口を布帛２の導入、導出を許すか気密にシール
することができる。更にこの反応器１の内部は、
隔壁７によつて、第１の区分室９、第２の区分室
１０、第３の区分室１１が布帛２の移送方向に沿
つて順次形成されているが、各室を区分している
隔壁７には布帛２を通過することはできるが、隣
設された室間の通気性を妨げることができるシー
ルロール１２が設けられている。なお、シールロ
ールの代りにリツプシールを使用してもよい。そ
して第１の区分室９には熱シリンダロール１３に
よる布帛の接触乾燥手段が配置されており、第２
の区分室１０内には低温プラズマ処理機構が内装
されている。この低温プラズマ処理機構は、移行
する布帛２を境として上下に隔設された一対の電
極板１４及び１５を有し、この一方の電極板１４
には反応器１外に設備された発振器（図示せず）
からの高周波が供給されるものであり、他方の電
極板１５はアースされている。またこれらの電極
板１４及び１５は、例えば金網あるいは多孔性の
金属板であつて、ガスの分散と分布が電極板の全
面に亘つて均一となすことが要求される。なぜな
らば、電極板の全面より略均一な低温プラズマが
発生できるようにすることであり、またその金属
板の全面近傍に高周波によつて励起されたガスを
略均一に漂わせるためである。１６は電極板１４
の全面に向けてガスを吹き出すためのガスノズ
ル、１７は双方の電極板を挟んでガスノズル１６
に対設されている吸気ダクトであつて、この吸気
ダクト１７は図示しない真空ポンプに接続されて
いる。尚前記した第１の区分室９内には熱シリン
ダによる乾燥手段を具備せしめたが、例えばマイ
クロウエーブによる加熱乾燥手段、あるいは赤外
線による加熱乾燥手段であつてもよい。１８は第
３の区分室１１内に設けた布帛ガイドロールであ
り、１９及び２０は第１の区分室９及び第３の区
分室１１に設けた減圧用バキユームパイプであ
る。

以上が本実施例の構成であるが、次にその作用
について述べると、先ず真空ポンプ（図示せず）
を駆動して各バキユームパイプ１９及び２０と吸
気ダクト１７を負圧となして、第１の区分室９及
び第３の区分室１１内を10〜100Torrに保持せし
めた減圧室となし、更に第２の区分室１０内も減
圧し、その真空度を0.5Torr以下に減圧した時点
で第１の区分室９内に設備した乾燥手段を動作さ
せると共にガスノズル１６より第２の区分室１０
内へガスを供給して該第２の区分室１０内の真空
度を0.1〜10Torrさらに望ましくは0.5〜2Torrの
範囲に調節しつつ電極板１４へ例えば長波長から
短波長までの高周波望ましくは1KHz〜300MHzの
範囲の高周波をかける。尚この減圧条件を0.1〜
10Torrに限定した理由は、減圧度が10Torr以上
では後述するプラズマ発生が不安定であり、また
0.1Torr以下の減圧度に保持することはコストが
高く、その上低温プラズマガス濃度も低下するた
め処理効果も低下するからである。即ち高周波が
印加されている一対の電極板１４と１５との間に
ガスノズル１６からのガスを通せば、低温プラズ
マが発生し、第２の区分室１０内は低温プラズマ
雰囲気となる。そこで布帛２を反応器１を通過移
行せしめると、該布帛２は、先ず第１の区分室内
で乾燥処理されて、布帛に含まれている揮撥性物
質が除去できる。かくして第１の区分室内で揮撥
性物質が除去された布帛は、直ちに第２の区分室
内に送り込まれることにより低温プラズマ雰囲気
中を通過し、低温プラズマ処理がなされ、次いで
第３の区分室１１を通過して反応器１外へ導出さ
れるものである。

［発明の効果］ 以上のように本発明は、布帛を連続的に通過せ
しめることができると共に、低温プラズマ雰囲気
を保持することができる低温プラズマ処理室と、
この低温プラズマ処理室の前後に隣設され、しか
も前記低温プラズマ処理室内を通過せしめる、ま
たは通過せしめた布帛を連続的に通過することが
でき、さらに内部気圧の減圧手段を設けた減圧室
とを設け、その前方の減圧室内には、低温プラズ
マ処理室内に導入すべき布帛に含まれている揮撥
性物質を除去するための加熱手段を設けている低
温プラズマ連続処理装置であるから、これによれ
ば低温プラズマ処理室内の低温プラズマ雰囲気中
に供給される直前の布帛は、その低温プラズマ処
理室の前方に隣設されている減圧室内に設備され
る加熱手段によつて、その布帛に含まれる揮撥性
物質が有効に除去されてから低温プラズマ雰囲気
中に供給されるので、この低温プラズマ雰囲気を
良好状態に保持せしめることができ、更には揮撥
性物質による反応不良がなくなり、良質の低温プ
ラズマ処理が実現される。

また低温プラズマ雰囲気を保持する低温プラズ
マ処理室の前後に隣設して減圧室（低圧力室）を
設けたことにより、この低温プラズマ処理室と、
外部との間のシール性（真空効率）が高められ、
低温プラズマの発生が良好に維持できる効果もあ
る。更に本発明では減圧室内で加熱乾燥した布帛
を常圧にさらすことなく低温プラズマ雰囲気中に
送り込むようにしたものであるから外気中の湿気
等が布帛の移送に伴つてプラズマ雰囲気中に送り
込まれることもなくプラズマ雰囲気中の真空度が
良好に保たれる等の効果がある。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明よりなる処理装置の実施例を示し
た断面説明図である。 １…反応器、２…布帛、３…導入口、４…導出
口、５，６…シール機構、７…隔室、９…第１の
区分室、１０…第２の区分室、１１…第３の区分
室、１２…シールロール、１３…熱シリンダロー
ル、１４，１５…電極板、１６…ガスノズル、１
７…吸気ダクト、１８…ガイドロール、１９，２
０…バキユームパイプ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 布帛を連続的に通過せしめることができると
   共に、低温プラズマ雰囲気を保持することができ
   る低温プラズマ処理室と、この低温プラズマ処理
   室の前後に隣設され、しかも前記低温プラズマ処
   理室内を通過せしめる、または通過せしめた布帛
   を連続的に通過することができ、さらに内部気圧
   の減圧手段を設けた減圧室とを設け、その前方の
   減圧室内には、低温プラズマ処理室内に導入すべ
   き布帛に含まれている揮発性物質を除去するため
   の加熱手段を設けていることを特徴とする布帛の
   低温プラズマ連続処理装置。