JPS58125613A - 酸化錫膜の形成方法 - Google Patents

酸化錫膜の形成方法

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JPS58125613A
JPS58125613A JP558282A JP558282A JPS58125613A JP S58125613 A JPS58125613 A JP S58125613A JP 558282 A JP558282 A JP 558282A JP 558282 A JP558282 A JP 558282A JP S58125613 A JPS58125613 A JP S58125613A
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JP
Japan
Prior art keywords
tin oxide
glass plate
oxide film
flame
glass
Prior art date
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Pending
Application number
JP558282A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Kawahara
秀夫 河原
Masato Hyodo
正人 兵藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS58125613A publication Critical patent/JPS58125613A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガラス表面に酸化錫膜を形成する方法に関し、
更に詳しくは高温に加熱したガラス表面に錫化合物を接
触させることによりガラス表面に酸化錫膜を形成する方
法に関する。
一般に酸化錫膜はすぐれた硬度を有していることから、
ビン製品1食器などの表面の傷つき防Iにに広く用いら
れている。また、酸化錫膜の半導体的性質を利用した応
用例も多く例えば酸化錫膜を形成したガラスは液晶セル
の透明電極板、防備ガラスなど透明な電導体としての用
途に広く使用されており、更にはその可視光透過率と赤
外線反射率が大なるところから太陽熱集熱器のカバーガ
ラスとしても極めて有用である。
酸化錫膜をガラス表面に付着させる方法としては種々あ
るが、量産に適した方法として古くから四塩化錫を有機
溶媒に溶かした溶液を高温のガラス表面に吹き付ける方
法が用いられてきた。
そして近年、四塩化錫またはジメチルニ塩化gを加熱蒸
発させて得られる蒸気を高温のガラス表面に接触させる
、いわゆるCVD法も広く採用されている。しかしなが
らこれらの方法で形成される酸化錫膜は一般にヘーズと
呼ばれる曇りを有するものが多く、特に被膜厚味を厚く
した場合ヘーズが悪化し著しく美観を損うのが最大の難
点であった。このため錫化合物を含む溶液または錫化合
物蒸気を高温のガラスに吹付ける際にノズル構造、吹付
圧、あるいは錫化合物の熱分解後の排ガス吸別方法など
に種々の改良が提案されているが、必ずしも十分ではな
かった。
本発明者らは酸化錫膜のヘーズに関し鋭意研究の結果、
従来よりも大幅にヘーズ率〔(散乱透過量/全透過量)
×700〕のすぐれた酸化錫膜の形成方法を見出すに至
った。すなわち本発明は高温に加熱したガラス表面に錫
化合物を含む溶液または錫化合物の蒸気または粉末を接
触させて、熱分解酸化反応によりガラス表面に酸化錫膜
を形成する方法において、酸化錫膜形成に先だち該ガラ
ス表面に火炎を直接接触せしめることを特徴とする。こ
の場合、火炎の温度は47.2o°C以上、火炎がガラ
ス表面に接する時間は095秒以上が必要で好ましくは
SOO″C以上の火炎を1秒〜3秒間接触させる。
また、ガラス表面への被膜の形成は、上記火炎処理の後
10秒以内に行なうことが好ましい。
このように酸化錫膜の形成に先たち高温に加熱されたガ
ラスの表面を更に火炎処理することによりその後に形成
される酸化物膜のヘーズが良化する(3) 理由については定かにするに至っていないが、一つには
高温に加熱されたガラス表向に溶出していると思われる
アルカリイオンが火炎処理により蒸気化され、ガラス表
面から除去されるためと考えられる。
以下に本発明の詳細な説明する。
実施例 第1図において、厚さが3 mmで幅及び長さが130
mm及びqsomm のガラス板ノを加熱炉/内をコン
ベヤー3で通過させて加熱した後、7m/分のスピード
で被膜形成部IOへ移送する。被膜形成部10に移送さ
れた加熱されたガラス板2の表面を加熱炉/の出口に設
けられたガスバーナ7の約s s s ’cの火炎で約
を秒間接触さゼた。この時用いたガスバーナー7は第2
図に示したガス管に、2mm幅の小孔//を79mm 
ピッチでis。
mmの長さにわたって明けたもので、その両端にペンチ
ーリーミキサー/2を取付けたものを用いた。
火炎処理された加熱ガラス板2はその表面に/、20(
4’) °Cに加熱された(OH3)2 S n C12の蒸気
と空気の混合ガスを吹付ノズルlから吸付は酸化錫膜を
形成し、被膜形成の除虫じる排ガスを吹伺ノズルの両側
に設けた排ガス吸引用ダク)j、Jから吸引除去した。
混合ガスの(CH3)25n(J2 の濃度を変えるこ
とにより、種々の被膜厚みの酸化錫膜をガラス板−の表
面に付着させた。なお、混合ガスの吹付は直前のガラス
板の温度は赤外幅射温度言1gにより測定され57.?
°C−5g / ’Cであった。
酸化錫膜を付着したガラス板2はコンベヤー3により徐
冷炉4内に送られ徐冷される。以上のように調整された
酸化錫膜付着ガラス板の膜厚とヘーズ率を測定した結果
を第1表に示した。
一方、ガスバーナ7を用いなかった以外は前記実施例と
全く同じ条件で酸化錫膜被覆ガラスの比較例を製作し、
膜厚とヘーズ率を測定した結果を第1表に示した。
第1表から明らかなように、本発明の方法によって得ら
れた酸化錫膜被覆ガラスのヘーズ率は比較例に比して小
さく優れていることがわかる。
第1表酸化錫膜被覆ガラスのヘーズ率(%)
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示すものであって、第1図は本
発明を実施するための装置の一部切断した側面図、第2
図はガスバーナの正面図である。 /;加熱炉1.2;ガラス板、3;コンベヤー。 l;吹付ノズル、j;吸引用ダクト。 乙;徐冷炉、7;ガスバーナ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高温に加熱したガラス表面に、錫化合物を含む溶液、錫
    化合物の蒸気、及び粉末のいずれかを接触させて、熱分
    解酸化反応によりガラス表面に酸化錫膜を形成する方法
    において、酸化錫膜形成に先だち該ガラス表面に112
    0”c以上の火炎を015秒以上接触せしめることを特
    徴とする酸化錫膜の形成方法。
JP558282A 1982-01-18 1982-01-18 酸化錫膜の形成方法 Pending JPS58125613A (ja)

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