JPS58122732A - ウエハの洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 この発明は、ウニへの表面に純水等の洗浄液を噴射して
行なうウェハの洗浄方法に関する。

発明の技術的背景 一般に半導体装置を製造するには、ウェハの表面に各種
の処ｆｆｌを行なう多くの処迩工ＩＩを必要とする。こ
の処理工程の中で、ウェハの表面を洗浄すゐ工程は、各
処理工程間をウニ／烏が移動する際、各処理工程の処理
を常に安定に保持する九めに必要な重要な工程である。

例えば、ホトエ、テング処理工程で処理されたウニノ１
が、そ０１１ｍ１Ｋ工、チンダ液等を有したまま次の処
理工程に移りた場合、この処理工程では不要な工、チン
ダ液等によりて処理内容に悪影響が及ぶことになる。

従来、上記のようなウェハの洗浄方法は、まずウェハを
例えばスピンチャ、りに載置し、このウェハを回転させ
ながらその表面に純水等の洗浄液を噴射して洗浄するも
のである。この場合、第１図に示すように回転するウェ
ハ１１の表面には、ウェハ１１の表面と平行に回転移動
するノズル１２から純水勢の洗浄液が噴射される。なお
、上記スピンチャ、りは、例えは真空吸引力を利用して
ウニＩ・を保持し、しかもウェハを回転させる回転駆動
手段を有している。

ところで、上記のような洗浄方法でウェハの表面を洗浄
すゐ場合、通常洗浄液を噴射するノズル１２０１転速度
は一定である。ｉ九、ウェハ１１が回転する場合、ウェ
ハ１１の表面の中心部と周辺部では周速度が異なル、中
心部の周速度が遅くなる。したがって、回転移動するノ
ズル１２かも洗浄液がウェハ１１の表面に噴射されえ場
合、ウェハ１１の周辺部と中心部では洗浄液が噴射され
る時間が異なることになる。

すなわち、中心部の表面はより多くの洗浄液が噴射され
る。そのため、ウェハ１１の表面の中心部と周辺部では
洗浄効果の均一性を得ることができない不都合がある。

また、ウェハ１１の中心部に、よシ多くの洗浄液が噴射
されると、例えばその中心部にアル１．−ラム尋の膜を
蒸着してあった場合、そのアルミニウム族が剥れる、な
ど、ウェハの表面にダメ−２を与える欠点がある。

この発明は上記の事情を−みてなされたもので、ノズル
から噴射される洗浄液によってウェハの表面を洗浄する
場合、ウェハの表面全体に均一に洗浄液を供給して、ウ
ェハの表面の洗浄効果を常に均一に保持でき、しかもそ
の表面の一部に洗浄液が集中して供給されることによる
ダメージを防止できるウェハの洗浄方法を提供すること
を目的とする。

発明の概要 上記の目的を達成するために、この発明では。

洗浄液を噴射するノズルをウェハの表面上を回転移動さ
せる場合、その表面の周辺部から中心部へｔたは中心部
から周辺部へ移動する際の回転移動の速度を例えばステ
ップモータの動作側＠七行なうことによって変化させる
。

発明の実施例 以下図面を参照してこの発明の一実施例について説明す
る。第２図はこの発明に係るウェハの洗浄方法を説明す
る図で、まずウェハｌｆｔ−スピンチャ、り１２に載置
すゐ。このスピンチャック１３け、例えば真空吸引力を
利用してウェハ１１を保持し、さらにウェハ１１を回転
させる装置である。このスピンチャ、り１１によって回
転しているウェハ１ノの１１１面に、ノでル１２から純
水等の洗浄液１４を噴射させる。このノズル１１は、第
２図に示すようＫ例えば連結棒Ｊｊｉ介してステ、ｆモ
ータ郷の回転駆動装置１６０回転軸１１１１Ｃ接続され
ている。さらにノでル１１Ｋｒｉ、純水勢の洗浄液１４
を供給するための管ＩＩが接続されている。そしてノズ
ル１２は、上記回転駆動装ｆｚｇの駆動によシウエハ１
１の表面上をその表面と平行に回転移動する。

上記のような回転駆動装置１−によって、ノズルＪ２を
回転移動させながら、ウェハ１１の表面に洗浄液１４を
噴射させる場合、例えば第３図（〜に示すようにノズル
１２０回転移動の速度を変化させる。すなわち、ノズル
１２がウニ　□−・１１の表面の周辺部ａＢから中心部
・へ回転移動する際、その回転移動の速度を除々に増大
するように変化させる。また、ノズル１２がその中心部
−から周辺部＆雪へ回転移動する際、その回転移動の速
度を除々に減少するように変化させる。このようなノズ
ル１２０回転移動の速度変化は、ステ、プモータ等の回
転駆動装置１ｄの通常の駆動制御によって行なわれる。

なお、謔３図（Ａ）に示すノズル１２の速度変化の特性
４重および纏１の違いは、ノズル１２から洗浄液１４が
ウェハ１１０表面に噴射されている時間が異なる場合で
ある。また、第３図ω）に示すように、ノでル１２０回
転移動の速度変化を第３図（〜に示す三角制御に対して
台形制御によりて行なってもよい。この場合には、ノズ
ル１２が６エハ１１の表面の周辺部ａ！と中心部Ｃ間の
一定の範囲を回転移動するとき、その速度を増大するよ
うに変化させる。また、周辺部ａｌと中心ｓｅ間の一定
の範囲を回転移動するときは、上記と逆にその速度を減
少するように炭化させる。なお、速度変化の特性・１お
よび・３の違いは、上記第３図（Ａ）のｄ凰および４禦
の場合と同様で洗浄液１４がウェハ１１の表面に噴射さ
れている時間が異なる場合である。

このようにして、回転するウェハ１１の表面にノにル１
２から純水勢の洗浄液１４ｔ−噴射させ、ウェー１１の
表面を洗浄することができる。

そして、この場合、上記のようにノズル１２がウェハ１
１０表面の周辺部から中心部へまたは中心部から周辺部
へ回転移動する際、その回転移動の速度を変化させてノ
でル１２から洗浄液１４を噴射させる。したがりて１周
辺部と中心部では周速度が異なるウニＩ・１１の表面全
体には、ノズル１２から洗浄液１４が均一に供給される
ことになる。そのため、ウェハ１１の表面の洗浄効果は
、周辺部と中心部の違いに関係なく均一に保持される。

また、洗浄液１４がウェハ１１の表面の中ＪｒＪ部等に
集中的により多く供給されることがないため、例えにウ
ェハ１１の表面にアルミニウム轡の膜が蒸着されている
場合、この膜が洗浄液１４によって剥がれるなどのダメ
ージを防止できる。

発明の効果 以上詳述したようにこの発明によれば、ノズルから噴射
される洗浄液によってクエ・・の表面を洗浄する場合、
ウェー・の表面上をノズルが回転移動する際の移動速度
を変化して、ウニノ・の表面全体に均一に洗浄液を供給
できる。し九がって、常にウニ・・の表面の洗浄効果を
均一に保持できる。しかも、ウニ／・の表面の一部に洗
浄液が集中的に供給されることによって生ずるウェハの
ダメージを防止できる効果もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のウニＩ・の洗浄方法を説明する図、第２
図はこの発明の一実施例に係るウニ／１０洗浄方法を説
明する図、第３図（Ａ）　、　（Ｂ）はその一実施例に
係るノズルの動作を説明する図である。 １１・・・ウニ／、１２・・・ノズル、１３・・・スピ
ンチャック。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ウェハを洗浄処ｌの必要な表面を上側にして回転し、上
   記ウニへの表面と平行に１１転移動するノズルから洗浄
   液を上記ウェハの表面に噴射して行なうウニへの洗浄方
   法において、上記ノズルが上記ウェハの表面の周辺部か
   ら中心部へ壇たは中心部から周辺部へ回転移動する場合
   に応じて、回転駆動を制御して上記ノズルの回転移動の
   速度を変化させることを特徴とするウェハの洗浄方法。