JPS58115851A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPS58115851A JPS58115851A JP56213292A JP21329281A JPS58115851A JP S58115851 A JPS58115851 A JP S58115851A JP 56213292 A JP56213292 A JP 56213292A JP 21329281 A JP21329281 A JP 21329281A JP S58115851 A JPS58115851 A JP S58115851A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D86/00—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56213292A JPS58115851A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56213292A JPS58115851A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58115851A true JPS58115851A (ja) | 1983-07-09 |
| JPH0338751B2 JPH0338751B2 (enExample) | 1991-06-11 |
Family
ID=16636698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56213292A Granted JPS58115851A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58115851A (enExample) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63158875A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-01 | Nec Corp | 薄膜トランジスタの製造方法 |
| JPS63168052A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-12 | Nec Corp | 薄膜トランジスタとその製造方法 |
| US5077233A (en) * | 1984-10-09 | 1991-12-31 | Fujitsu Limited | Method for recrystallizing specified portions of a non-crystalline semiconductor material to fabricate a semiconductor device therein |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5210779U (enExample) * | 1975-07-10 | 1977-01-25 |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP56213292A patent/JPS58115851A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5210779U (enExample) * | 1975-07-10 | 1977-01-25 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5077233A (en) * | 1984-10-09 | 1991-12-31 | Fujitsu Limited | Method for recrystallizing specified portions of a non-crystalline semiconductor material to fabricate a semiconductor device therein |
| JPS63158875A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-01 | Nec Corp | 薄膜トランジスタの製造方法 |
| JPS63168052A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-12 | Nec Corp | 薄膜トランジスタとその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0338751B2 (enExample) | 1991-06-11 |
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