JPS58104973A - 二酸化チタンスラリ−の製造方法 - Google Patents
二酸化チタンスラリ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS58104973A JPS58104973A JP56204716A JP20471681A JPS58104973A JP S58104973 A JPS58104973 A JP S58104973A JP 56204716 A JP56204716 A JP 56204716A JP 20471681 A JP20471681 A JP 20471681A JP S58104973 A JPS58104973 A JP S58104973A
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- JP
- Japan
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- slurry
- titanium dioxide
- dispersant
- dioxide slurry
- acid salt
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- Paints Or Removers (AREA)
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水分散型樹脂塗料あるいは水溶性樹脂塗料等の
水性塗料・インキ並びに抄紙・塗工紙の製紙分野に最適
なる顔料様二酸化チタン(、O8K&//A)スラリー
の製造方法に関する。
水性塗料・インキ並びに抄紙・塗工紙の製紙分野に最適
なる顔料様二酸化チタン(、O8K&//A)スラリー
の製造方法に関する。
近年、我が国においても省エネルギーちるいは工程短縮
の集魚から塗料・インキ・製紙工業等の需要家において
、水系の顔料分散工程の省力化が積極的に行われ、分散
工程の省略あるいに低減が可能な二酸化チタンスラリー
に対する要望がとみに増大している。
の集魚から塗料・インキ・製紙工業等の需要家において
、水系の顔料分散工程の省力化が積極的に行われ、分散
工程の省略あるいに低減が可能な二酸化チタンスラリー
に対する要望がとみに増大している。
二酸化チタンスラリーの調製法には大別して二通りがあ
り、一つに製品化した包装直前の粉体すなわち、粗頼科
−+湿式粉砕→分級→表面処理→r逼・洗浄・脱水→乾
燥−+微粉砕を経念粉体を分散剤を用いて所定固形物濃
度に再リパルプするもので、領料濃度70%以上の高濃
度のものが得易いことが特徴となっているが、反面貯槽
壁面や管壁にドライフレークが生じ易く、取扱いに細心
の注意が必要である。現在、実用化されているものはこ
の方法によるものがほとんどと見られる。今一つの調製
法は表面処理タイプ二階化チタン製品化の中間工程、す
なわち、無機表面処理剤被覆工程終了後%濾過・洗浄・
脱水工程より得た″′フィルターケーキ”に適切な分散
剤を加えて再リパルプするもので、スラリーの分散安定
性に優れ、まtドライフレークが生じKくいという利点
を有している反面、高顔料/Inが得られ稚いという細
点を有してhる。そしてこの方法の生命蝶分散剤の選定
釦ある。
り、一つに製品化した包装直前の粉体すなわち、粗頼科
−+湿式粉砕→分級→表面処理→r逼・洗浄・脱水→乾
燥−+微粉砕を経念粉体を分散剤を用いて所定固形物濃
度に再リパルプするもので、領料濃度70%以上の高濃
度のものが得易いことが特徴となっているが、反面貯槽
壁面や管壁にドライフレークが生じ易く、取扱いに細心
の注意が必要である。現在、実用化されているものはこ
の方法によるものがほとんどと見られる。今一つの調製
法は表面処理タイプ二階化チタン製品化の中間工程、す
なわち、無機表面処理剤被覆工程終了後%濾過・洗浄・
脱水工程より得た″′フィルターケーキ”に適切な分散
剤を加えて再リパルプするもので、スラリーの分散安定
性に優れ、まtドライフレークが生じKくいという利点
を有している反面、高顔料/Inが得られ稚いという細
点を有してhる。そしてこの方法の生命蝶分散剤の選定
釦ある。
二酸化チタンスラリーは需要家で使用する条件に合致し
t水バランスにあることが必須条件であり、最低顔料濃
度10チ以上が要求される。”* 7t。
t水バランスにあることが必須条件であり、最低顔料濃
度10チ以上が要求される。”* 7t。
貯蔵中に増粘、沈降のない低粘度安定スラリーが望まれ
ることは品質、作業性の上から論を俟tない0 本発明に前述後者すなわち、″′フィルターケーヤ”よ
り出発する方法に関するものであるが、ここで用いる分
散剤に縮合燐酸塩と、ポリアクリル酸塩を九h/および
ポリオキシエチレンアルキルエーテルを組合わせて適用
することにより、分散安定性(低増粘傾向)の優れたス
ラリーが得られることを見い出し、完成された1゜ ′″AKkl、n−’(u+1&?]、を−、t、bl
l?!(DX?lJ −の含水率t−10−以下すなわ
ち固形物濃度を60チ以上にする必要があるが、この為
には公知の高圧脱水ある込は真空脱水による7外、本発
明者等が先に特許出題中である「無機表面処理後湿式粉
砕してr過・洗浄−脱水を行う高密度光J#F滓を得る
」方法を採用するのが効果的である。
ることは品質、作業性の上から論を俟tない0 本発明に前述後者すなわち、″′フィルターケーヤ”よ
り出発する方法に関するものであるが、ここで用いる分
散剤に縮合燐酸塩と、ポリアクリル酸塩を九h/および
ポリオキシエチレンアルキルエーテルを組合わせて適用
することにより、分散安定性(低増粘傾向)の優れたス
ラリーが得られることを見い出し、完成された1゜ ′″AKkl、n−’(u+1&?]、を−、t、bl
l?!(DX?lJ −の含水率t−10−以下すなわ
ち固形物濃度を60チ以上にする必要があるが、この為
には公知の高圧脱水ある込は真空脱水による7外、本発
明者等が先に特許出題中である「無機表面処理後湿式粉
砕してr過・洗浄−脱水を行う高密度光J#F滓を得る
」方法を採用するのが効果的である。
本発明においてはりパルプに際して、上記特定組合わせ
の分散剤を加えt後、先に出願中の湿式粉砕の工i!を
採用するのがより効果的である。すなわち、本発明のス
ラリーハ二酸化チタン粗頷科(硫酸法、塩素法により得
る)→湿式扮砕5分級→無機表面処理剤被覆→濾過Φ洗
浄・脱水1リパルプ〔分散剤添加〕→湿湿式粉砕三二酸
化チタンスラリー工sKより製造される。
の分散剤を加えt後、先に出願中の湿式粉砕の工i!を
採用するのがより効果的である。すなわち、本発明のス
ラリーハ二酸化チタン粗頷科(硫酸法、塩素法により得
る)→湿式扮砕5分級→無機表面処理剤被覆→濾過Φ洗
浄・脱水1リパルプ〔分散剤添加〕→湿湿式粉砕三二酸
化チタンスラリー工sKより製造される。
スラリー化段階で添加する分散剤としては従来、一般K
l1合燐酸系ま7tハポリアクリル陵系とアルカノール
系の組合せが用いられてい友が、これらの分散剤では増
粘傾向の抑制効果が充分でなかった。そこで本発−考等
はこの点につき研究の結果上記特定分散剤−組合わせと
湿式粉砕を併用すること罠より後述−’mNK示す如く
所期の目的を達成することに成功しtものである。
l1合燐酸系ま7tハポリアクリル陵系とアルカノール
系の組合せが用いられてい友が、これらの分散剤では増
粘傾向の抑制効果が充分でなかった。そこで本発−考等
はこの点につき研究の結果上記特定分散剤−組合わせと
湿式粉砕を併用すること罠より後述−’mNK示す如く
所期の目的を達成することに成功しtものである。
本発明において用いられる縮合燐酸塩としてはトリポリ
燐酸ソーダ、トリポリ燐暇カリ、へ中サメタ燐酸ソーダ
、ピロ燐酸ソーダ等が挙げられ。
燐酸ソーダ、トリポリ燐暇カリ、へ中サメタ燐酸ソーダ
、ピロ燐酸ソーダ等が挙げられ。
添加率扛固形物に対して0.J〜1.tlts、好まし
くは0.3〜1重電噂である。まtlこれに組合わせる
ポリアクリル酸塩はポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリ
ル酸アンモン等で、商品名でノプフBN−30170(
サンノプコ社)、アクアリックDL−IIQ(日本触媒
ン、ポイズ、tJO(花王アトラス)、アロロンT−4
tO(東亜合成)等が挙げられる。
くは0.3〜1重電噂である。まtlこれに組合わせる
ポリアクリル酸塩はポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリ
ル酸アンモン等で、商品名でノプフBN−30170(
サンノプコ社)、アクアリックDL−IIQ(日本触媒
ン、ポイズ、tJO(花王アトラス)、アロロンT−4
tO(東亜合成)等が挙げられる。
を次、ポリオ中シエチレンアルキルエーテルトシてはア
ルキル基がラウリル、セチル、ステアリル、オレイル等
で、商品名でエマルゲン各種(花王アトラス)が挙げら
れる。ポリアクリル酸系及びポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル系何れも添加率は固形物に対して固形物換算
0./ −/、!r It ’li%好ましはO,コ〜
/ll’Jである。このリパルグ工程でにニーダ−、デ
ィスパーザ−等の混線、分散機器の使用が効果を上げる
。
ルキル基がラウリル、セチル、ステアリル、オレイル等
で、商品名でエマルゲン各種(花王アトラス)が挙げら
れる。ポリアクリル酸系及びポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル系何れも添加率は固形物に対して固形物換算
0./ −/、!r It ’li%好ましはO,コ〜
/ll’Jである。このリパルグ工程でにニーダ−、デ
ィスパーザ−等の混線、分散機器の使用が効果を上げる
。
次工程のlI&式粉砕K[サンドミル形式の機器の使用
が好適であり、メディアはガ′ラスビーズ、アルミナビ
ーズ、ジルコニアビーズ、オタワサンド等が用いられ、
ディスクやヴエツセルの形状等により多くの布板機種が
ある。
が好適であり、メディアはガ′ラスビーズ、アルミナビ
ーズ、ジルコニアビーズ、オタワサンド等が用いられ、
ディスクやヴエツセルの形状等により多くの布板機種が
ある。
本発明の方法により製造されるスラリーの銘柄は適用す
る無機表面処理剤の種類(含水チタニア。
る無機表面処理剤の種類(含水チタニア。
含水シリカ、含水アルミナ等の単独もしくは複数の組合
わせ)に応じて種々が可能であり、表面処理剤と分散剤
の組合わせ適性I/Cは規則性は艷い出せないが、経験
的に含水チタニア−含水シリカ−含水アルミナ表面処理
に対しては礫合燐酸系、ポリアクリル酸系、ポリオキシ
エチレンアルキルニーデル王者の添加が好ましく、含水
チタニア−含水アルミナ、まtは含水アルミナ単独表面
処理ゝには縮合燐酸系、ポリアクリル酸系の王者の添加
が好ましくs 1*含水シリカ−含水アルミナ多量表面
処理には縮合燐酸系、ポリオキシエチレンアルキルエー
テルの王者の添加が好ましい。[もこれ等スラリーを長
期保存する場合はノブコサイド9N−コ/j(サンノプ
コ社)等の防腐剤の微量添加が必要である。
わせ)に応じて種々が可能であり、表面処理剤と分散剤
の組合わせ適性I/Cは規則性は艷い出せないが、経験
的に含水チタニア−含水シリカ−含水アルミナ表面処理
に対しては礫合燐酸系、ポリアクリル酸系、ポリオキシ
エチレンアルキルニーデル王者の添加が好ましく、含水
チタニア−含水アルミナ、まtは含水アルミナ単独表面
処理ゝには縮合燐酸系、ポリアクリル酸系の王者の添加
が好ましくs 1*含水シリカ−含水アルミナ多量表面
処理には縮合燐酸系、ポリオキシエチレンアルキルエー
テルの王者の添加が好ましい。[もこれ等スラリーを長
期保存する場合はノブコサイド9N−コ/j(サンノプ
コ社)等の防腐剤の微量添加が必要である。
以下実権例により更に詳しく本発明の二酸化チタンスラ
リ−製造方法を説明する。
リ−製造方法を説明する。
実施例7
0−ラーミルで粉砕された硫酸法ルチル粗顔料(−次粒
子径O,コSμ)sootyを水でリパルプして’40
09/11 スラリー(分散剤としてノプコSN −
10(40をTto、 K対して0./ %添加)ト
なし。
子径O,コSμ)sootyを水でリパルプして’40
09/11 スラリー(分散剤としてノプコSN −
10(40をTto、 K対して0./ %添加)ト
なし。
撮動ミル粉砕(メディア、アルミナボール、滞留時間3
0分)をしてからスラリー濃度を一〇〇1/Jに下げて
分級し%ファインスラリーのみを集めて濃度調整(a2
0P/nル、//3473 (Tie□2!0KF)を
無機表面処理工程へ。スラリーを70″Cに加温してチ
タニル硫酸溶・液(/ 00 t /J as T i
O2)コS1を投入後−0分熟成し、次いで珪酸ソー
ダ溶液(A o P/43 as8102)コ1pvt
t投入して同じく一0分熟成して更にアルミン酸ソーダ
溶液(100S’ /eas Ax、 o、 ) j
j Jを投入して同様−0分の熟成の後、検値酸<2o
ot/J、)を用いて中和し、−0分熟成後、高圧プレ
スフィルターで濾過・洗浄・脱水した。f滓の固形物濃
度は441%であった。このf滓/3&印(Tio、
tooKpンをニーダ−に移し、トリポリ燐酸ンーダ0
.,7印及びポイズ3JO(花王アトラス製ポリアクリ
ル酸系分散剤)O,コ即、エマルゲンL−4tO(化工
アトラス製ポリオ今ジエチレンアルキルエーテル系分散
剤)0.−印を投入し、混線して流動化させた後、ディ
スパーザ−で完全にス2り一化し、次いでサンドミル粉
砕(メディア、ガラスピーズ)をし、−ダ時間弛〈攪拌
しながら熟成した後% :t!!−l記載の二酸化チタ
ンスラリーを得た。
0分)をしてからスラリー濃度を一〇〇1/Jに下げて
分級し%ファインスラリーのみを集めて濃度調整(a2
0P/nル、//3473 (Tie□2!0KF)を
無機表面処理工程へ。スラリーを70″Cに加温してチ
タニル硫酸溶・液(/ 00 t /J as T i
O2)コS1を投入後−0分熟成し、次いで珪酸ソー
ダ溶液(A o P/43 as8102)コ1pvt
t投入して同じく一0分熟成して更にアルミン酸ソーダ
溶液(100S’ /eas Ax、 o、 ) j
j Jを投入して同様−0分の熟成の後、検値酸<2o
ot/J、)を用いて中和し、−0分熟成後、高圧プレ
スフィルターで濾過・洗浄・脱水した。f滓の固形物濃
度は441%であった。このf滓/3&印(Tio、
tooKpンをニーダ−に移し、トリポリ燐酸ンーダ0
.,7印及びポイズ3JO(花王アトラス製ポリアクリ
ル酸系分散剤)O,コ即、エマルゲンL−4tO(化工
アトラス製ポリオ今ジエチレンアルキルエーテル系分散
剤)0.−印を投入し、混線して流動化させた後、ディ
スパーザ−で完全にス2り一化し、次いでサンドミル粉
砕(メディア、ガラスピーズ)をし、−ダ時間弛〈攪拌
しながら熟成した後% :t!!−l記載の二酸化チタ
ンスラリーを得た。
!jl!施9’llコ
実絢例/における分散剤をトリポリ燐酸力1)o、sK
−及びアクアリックDL−1Io(日本触媒製ポリアク
リル酸系分散剤)0.1Klbエマルゲンr、 −$
60、sQとして表−7記載の二酸化チタンスラリーを
得次。
−及びアクアリックDL−1Io(日本触媒製ポリアク
リル酸系分散剤)0.1Klbエマルゲンr、 −$
60、sQとして表−7記載の二酸化チタンスラリーを
得次。
!!施例3
実権例/にお、け、る分散剤をピロ燐酸ンーダO,S即
及びノプコsN−,t710(サンノプコ製ポリアクリ
ル酸系分散剤) 0.J々、エマルゲン/:10(化工
アトラス製ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散
剤)O,コーとして表−l記載の二酸化チタンスラリー
を得た。
及びノプコsN−,t710(サンノプコ製ポリアクリ
ル酸系分散剤) 0.J々、エマルゲン/:10(化工
アトラス製ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散
剤)O,コーとして表−l記載の二酸化チタンスラリー
を得た。
実権例q
ローラーミルで粉砕し几硫酸法ルチル粗顔料(−次粒子
径O,コJμ)sooxpを水でリパルプしてeooP
/−13ス2リー(分散剤としてノプコSN −j Q
ダOt’I’10. K対して0./ j慢添加)と
なし、実施例1と同様操作でファインスラリーを得、濃
度調整(ココof/43)I、、て/ / J IJi
(’rio、コs。
径O,コJμ)sooxpを水でリパルプしてeooP
/−13ス2リー(分散剤としてノプコSN −j Q
ダOt’I’10. K対して0./ j慢添加)と
なし、実施例1と同様操作でファインスラリーを得、濃
度調整(ココof/43)I、、て/ / J IJi
(’rio、コs。
−)を無機表面処理工程へ。スラリーを70″GK加温
してチタニル硫酸溶液(100f/)&ttTiO,)
月1投入後−〇分熟成し、次いで硫酸アルミ溶液(to
ll/J as^1.o、)sipを投入して同じく一
0分熟成後、苛性ソーダ溶液(コoot/43)を用い
て中和し、1f分熟成の後、高圧プレスフィルターで濾
過・洗浄・脱水した。P滓の固形物濃度は6j−であつ
t、このP滓/jtコQ(TiO。
してチタニル硫酸溶液(100f/)&ttTiO,)
月1投入後−〇分熟成し、次いで硫酸アルミ溶液(to
ll/J as^1.o、)sipを投入して同じく一
0分熟成後、苛性ソーダ溶液(コoot/43)を用い
て中和し、1f分熟成の後、高圧プレスフィルターで濾
過・洗浄・脱水した。P滓の固形物濃度は6j−であつ
t、このP滓/jtコQ(TiO。
/DO々ンをニーダーに移し、以下分散剤にヘキサメタ
燐酸ンーダo、s印、ポイズ5JOi、o’Kpを用い
る以外に実施例Iと同様操作を行い、表−1記載の二酸
化チタンスラリーを得た。
燐酸ンーダo、s印、ポイズ5JOi、o’Kpを用い
る以外に実施例Iと同様操作を行い、表−1記載の二酸
化チタンスラリーを得た。
実M1例S
実権例ダの分散剤をヘキサメタ燐酸ンーダ0.IKP%
ノブ″:19)i−10ダo o、フ即として表−l記
載の二酸化チタンスラリーを14)&。
ノブ″:19)i−10ダo o、フ即として表−l記
載の二酸化チタンスラリーを14)&。
実施例1
実権例43分散剤をトリポリ燐酸ンーダo、フKp、ア
ロロンチー参〇(東亜合成製ポリアクリル暖系分散剤)
/KPとして表−7記載の二暇化チタンスラリーを%几
。
ロロンチー参〇(東亜合成製ポリアクリル暖系分散剤)
/KPとして表−7記載の二暇化チタンスラリーを%几
。
実権例フ
i!!櫓例ダと同様ルチル粗顔料を用いて同様操作でフ
ァインスラリーを得、濃fllllI (ココof/J
)して//J4J (Tto、 2soKy) を無
機表面処理工程へ。スラリーをりO′Cに加温して珪酸
ノーfs液(40f/J as 810. ) コ
コ91を投入して10分熟成、次いで硫酸アルミ溶液(
/ OJ P as Al、O,)ダ61を投入して2
0分熟成後、検値9(200?/J)を用いて中和、2
0分熟成後、高圧プレスフィルターでP遇・洗浄・脱水
した。P滓の固形物濃度は4λチであつ几。このr滓/
41((’rio、 / 000)をニーグーに移し、
以下分散剤にトリポリ燐酸ンーダ0.!119.エマル
ゲンL −4100、!;に9を用いる以外はwm例/
と同様操作を行い、表−/記載の二酸化チタンスラリー
を得た。
ァインスラリーを得、濃fllllI (ココof/J
)して//J4J (Tto、 2soKy) を無
機表面処理工程へ。スラリーをりO′Cに加温して珪酸
ノーfs液(40f/J as 810. ) コ
コ91を投入して10分熟成、次いで硫酸アルミ溶液(
/ OJ P as Al、O,)ダ61を投入して2
0分熟成後、検値9(200?/J)を用いて中和、2
0分熟成後、高圧プレスフィルターでP遇・洗浄・脱水
した。P滓の固形物濃度は4λチであつ几。このr滓/
41((’rio、 / 000)をニーグーに移し、
以下分散剤にトリポリ燐酸ンーダ0.!119.エマル
ゲンL −4100、!;に9を用いる以外はwm例/
と同様操作を行い、表−/記載の二酸化チタンスラリー
を得た。
実施例S
実施例りの分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダO07にテ、
エマルゲン/JOJ、4’llとして表−1記載の二嘴
化チタンスラリーを碍た。
エマルゲン/JOJ、4’llとして表−1記載の二嘴
化チタンスラリーを碍た。
次に実権例1〜lの対照として一般に用いられている分
散剤(縮合燐酸系またはポリアクリル酸系各々とコーア
ミノーコーメチル−7−プロパノールとの組合わせ)を
用いて参考例/−jを用意し、実施例/−jと貯蔵安定
性の比較を表−一で行った。
散剤(縮合燐酸系またはポリアクリル酸系各々とコーア
ミノーコーメチル−7−プロパノールとの組合わせ)を
用いて参考例/−jを用意し、実施例/−jと貯蔵安定
性の比較を表−一で行った。
参考例I
実権例1〜3の分散剤をピ・10燐酸ンーダo、pt
Kり、コーアミノーコーメチルーl−グロパノール(以
下AMPと略称)o、sxpとしたもの。
Kり、コーアミノーコーメチルーl−グロパノール(以
下AMPと略称)o、sxpとしたもの。
参考例コ
実権例/〜Jの分散剤をアクアリックDL−IIIl々
、^MP O0!Kliとしtもの。
、^MP O0!Kliとしtもの。
参考例3
実権例q〜1の分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダ0.7騨
、^ypo、ル即としtもの。
、^ypo、ル即としtもの。
参考例ダ
実11〜4の分散剤をポイズ!;30 /にり、AM
PO04IKPとしtもの。
PO04IKPとしtもの。
参考例3
実権例フ〜8の分散剤をトリポリ燐酸ノーダo、?■!
、 AMP O,,4即としたもの。
、 AMP O,,4即としたもの。
次いで本発明に従って裏遣される二暖化チタンスラリー
の顔料性能を評価する九めに、先ず一つは実tIfA例
1と7の二酸化チタンスラリー及び実権例/、?のP滓
をそれぞれドライヤーで/!10”CでS時間の乾燥を
L1スチームマイクロナイザーで微粉砕し九二酸桔1チ
タン粉体とを用いてエマルジョン塗料(配合は表−JK
記載)を精製し、表−Jで性能の比較を実施した。用い
た工1ルジョン樹脂はモビニールナ//l(ヘキスト合
成II)で酢酸ビニル系である。二つ目として実施例ダ
の二酸化チタンスラリー及び!!梅例ダのP滓をドライ
ヤーで/30″CでS時間の乾燥をし、スチームマイク
ロナイザーで微粉砕をした二酸化チタン粉体とを用いて
アクリルエマルジョン系で塗料化(配合に表−ダに記載
)シ、表−ダで性能比較を実施し几。
の顔料性能を評価する九めに、先ず一つは実tIfA例
1と7の二酸化チタンスラリー及び実権例/、?のP滓
をそれぞれドライヤーで/!10”CでS時間の乾燥を
L1スチームマイクロナイザーで微粉砕し九二酸桔1チ
タン粉体とを用いてエマルジョン塗料(配合は表−JK
記載)を精製し、表−Jで性能の比較を実施した。用い
た工1ルジョン樹脂はモビニールナ//l(ヘキスト合
成II)で酢酸ビニル系である。二つ目として実施例ダ
の二酸化チタンスラリー及び!!梅例ダのP滓をドライ
ヤーで/30″CでS時間の乾燥をし、スチームマイク
ロナイザーで微粉砕をした二酸化チタン粉体とを用いて
アクリルエマルジョン系で塗料化(配合に表−ダに記載
)シ、表−ダで性能比較を実施し几。
用いた樹脂はアクリルΦスチレン共重合体エマルジョン
でモビニール+707(ヘキスト合成1m! )である
。
でモビニール+707(ヘキスト合成1m! )である
。
表 −I
Claims (1)
- 顔料様二酸化チタンを製造するに際し、無機表面被覆処
理され九二酸化チタンを含むスラリーの含水率をダ0チ
以下にし友後、縮合燐酸塩と、ポリアクリル酸塩ま7t
は/およびポリオキシエチレンアルキルエーテルを組合
わせた分散剤を加えて流動状スラリーとなし、次いで湿
式粉砕により分散せしめることを特徴とする顔料級二酸
化チタンスラリーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56204716A JPS58104973A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 二酸化チタンスラリ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56204716A JPS58104973A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 二酸化チタンスラリ−の製造方法 |
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- 1981-12-18 JP JP56204716A patent/JPS58104973A/ja active Granted
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