JPS6234354B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
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- Paints Or Removers (AREA)
Description
本発明は水分散型樹脂途料あるいは水溶性樹脂
塗料等の水性塗料・インキ並びに抄紙・塗工紙の
製紙分野に最適なる顔料級二酸化チタン（JIS
K5116）スラリーの製造方法に関する。 近年、我が国においても省エネルギーあるいは
工程短縮の観点から塗料・インキ・製紙工業等の
需要家において、水系の顔料分散工程の省力化が
積極的に行われ、分散工程の省略あるいは低減が
可能な二酸化チタンスラリーに対する要望がとみ
に増大している。 二酸化チタンスラリーの調製法には大別して二
通りがあり、一つは製品化した包装直前の粉体す
なわち、粗顔料→湿式粉砕→分級→表面処理→
過・洗浄・脱水→乾燥→微粉砕を経た粉体を分散
剤を用いて所定固形物濃度に再リパルプするもの
で、顔料濃度70％以上の高濃度のものが得易いこ
とが特徴となつているが、反面貯槽壁面や管壁に
ドライフレークが生じ易く、取扱いに細心の注意
が必要である。現在、実用化されているものはこ
の方法によるものがほとんどと見られる。今一つ
の調製法は表面処理タイプ二酸化チタン製品化の
中間工程、すなわち、無機表面処理剤被覆工程終
了後、過・洗浄・脱水工程より得た“フイルタ
ーケーキ”に適切な分散剤を加えて再リパルプす
るもので、スラリーの分散安定性に優れ、またド
ライフレークが生じにくいという利点を有してい
る反面、高顔料濃度が得られ難いという難点を有
している。そしてこの方法の生命は分散剤の選定
にある。 二酸化チタンスラリーは需要家で使用する条件
に合致した水バランスにあることが必須条件であ
り、最低顔料濃度60％以上が要求される。また、
貯蔵中に増粘、沈降のない低粘度安定スラリーが
望まれることは品質、作業性の上から論を俟たな
い。 本発明は前述後者すなわち、“フイルターケー
キ”より出発する方法に関するものであるが、こ
こで用いる分散剤に縮合燐酸塩と、ポリアクリル
酸塩または／およびポリオキシエチレンアルキル
エーテルを組合わせて適用することにより、分散
安定性（低増粘傾向）の優れたスラリーが得られ
ることを見い出し、完成された。 本発明においては分散剤を加える前のスラリー
の含水率を40％以下すなわち固形物濃度を60％以
上にする必要があるが、この為には公知の高圧脱
水あるいは真空脱水による外、本発明者等が先に
特許出願中である「無機表面処理後湿式粉砕して
過・洗浄・脱水を行う高密度充填滓を得る」
方法を採用するのが効果的である。 本発明においてはリパルプに際して、上記特定
組合わせの分散剤を加えた後、先に出願中の湿式
粉砕の工程を採用するのがより効果的である。す
なわち、本発明のスラリーは二酸化チタン粗顔料
（硫酸法、塩素法により得る）→湿式粉砕→分級
→無機表面処理剤被覆→過・洗浄・脱水→リパ
ルプ〔分散剤添加〕→湿式粉砕→二酸化チタンス
ラリーの工程により製造される。 スラリー化段階で添加する分散剤としては従
来、一般に縮合燐酸系またはポリアクリル酸系と
アルカノール系の組合せが用いられていたが、こ
れらの分散剤では増粘傾向の抑制効果が充分でな
かつた。そこで本発明者等はこの点につき研究の
結果上記特定分散剤の組合わせと湿式粉砕を併用
することにより後述実施例に示す如く所期の目的
を達成することに成功したものである。 本発明において用いられる縮合燐酸塩としては
トリポリ燐酸ソーダ、トリポリ燐酸カリ、ヘキサ
メタ燐酸ソーダ、ピロ燐酸ソーダ等が挙げられ、
添加率は固形物に対して0.3〜1.5重量％、好まし
くは0.5〜１重量％である。また、これに組合わ
せるポリアクリル酸塩はポリアクリル酸ソーダ、
ポリアクリル酸アンモン等で、商品名でノプコ
SN−5040（サンノプコ社）、アクアリツクDL−
40（日本触媒）、ポイズ530（花王アトラス）、ア
ロンＴ−40（東亜合成）等が挙げられる。また、
ポリオキシエチレンアルキルエーテルとしてはア
ルキル基がラウリル、セチル、ステアリル、オレ
イル等で、商品名でエマルゲン各種（花王アトラ
ス）が挙げられる。ポリアクリル酸系及びポリオ
キシエチレンアルキルエーテル系何れも添加率は
固形物に対して固形物換算0.1〜1.5重量％、好ま
しくは0.2〜１重量％である。このリパルプ工程
ではニーダー、デイスパーザー等の混練、分散機
器の使用が効果を上げる。 次工程の湿式粉砕にはサンドミル形式の機器の
使用が好適であり、メデイアはガラスビーズ、ア
ルミナビース、ジルコニアビーズ、オタワサンド
等が用いられ、デイスクやヴエツセルの形状等に
より多くの市販機種がある。 本発明の方法により製造されるスラリーの銘柄
は適用する無機表面処理剤の種類（含水チタニ
ア、含水シリカ、含水アルミナ等の単独もしくは
複数の組合わせ）に応じて種々が可能であり、表
面処理剤と分散剤の組合わせ適性には規則性は見
い出せないが、経験的に含水チタニア−含水シリ
カ−含水アルミナ表面処理に対しては縮合燐酸
系、ポリアクリル酸系、ポリオキシエチレンアル
キルエーテル三者の添加が好ましく、含水チタニ
ア−含水アルミナ、または含水アルミナ単独表面
処理には縮合燐酸系、ポリアクリル酸系の二者の
添加が好ましく、また含水シリカ−含水アルミナ
多量表面処理には縮合燐酸系、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテルの二者の添加が好ましい。ま
た、これ等スラリーを長期保存する場合はノプコ
サイドSN−215（サンノプコ社）等の防腐剤の微
量添加が必要である。 以下実施例により更に詳しく本発明の二酸化チ
タンスラリー製造方法を説明する。 実施例 １ ローラーミルで粉砕された硫酸法ルチル粗顔料
（一次粒子径0.25μ）500Kgを水でリパルプして
400g／スラリー（分散剤としてノプコSN−
5040をTiO2に対して0.1％添加）となし、振動ミ
ル粉砕（メデイア、アルミナボール、滞留時間30
分）をしてからスラリー濃度を200g／に下げ
て分級し、フアインスラリーのみを集めて濃度調
整（220g／）し、1136（TiO2250Kg）を無機
表面処理工程へ。スラリーを70℃に加温してチタ
ニル硫酸溶液（100g／ asTiO2）25を投入
後20分熟成し、次いで珪酸ソーダ溶液（60g／
as SiO2）21を投入して同じく20分熟成して
更にアルミン酸ソーダ溶液（100g／ as
Al2O3）55を投入して同様20分の熟成の後、稀
硫酸（200g／）を用いて中和し、20分熟成
後、高圧プレスフイルターで過・洗浄・脱水し
た。滓の固形物濃度は64％であつた。この滓
156Kg（TiO2100Kg）をニーダーに移し、トリポ
リ燐酸ソーダ0.7Kg及びポイズ530（花王アトラス
製ポリアクリル酸系分散剤）0.2Kg、エマルゲン
Ｌ−40（花王アトラス製ポリオキシエチレンアル
キルエーテル系分散剤）0.2Kgを投入し、混練し
て流動化させた後、デイスパーザーで完全にスラ
リー化し、次いでサンドミル粉砕（メデイア、ガ
ラスビーズ）をし、24時間弛く撹拌しながら熟成
した後、表−１記載の二酸化チタンスラリーを得
た。 実施例 ２ 実施例１における分散剤をトリポリ燐酸カリ
0.5Kg及びアクアリツクDL−40（日本触媒製ポリ
アクリル酸系分散剤）0.5Kg、エマルゲンＬ−40
0.5Kgとして表−１記載の二酸化チタンスラリー
を得た。 実施例 ３ 実施例１における分散剤をピロ燐酸ソーダ0.5
Kg及びノプコSN−5040（サンノプコ製ポリアク
リル酸系分散剤）0.3Kg、エマルゲン120（花王ア
トラス製ポリオキシエチレンアルキルエーテル系
分散剤）0.2Kgとして表−１記載の二酸化チタン
スラリーを得た。 実施例 ４ ローラーミルで粉砕した硫酸法ルチル粗顔料
（一次粒子径0.23μ）500Kgを水でリパルプして
400g／スラリー（分散剤としてノプコSN−
5040をTiO2に対して0.15％添加）となし、実施
例１と同様操作でフアインスラリーを得、濃度調
整（220g／）して1136（TiO2250Kg）を無機
表面処理工程へ。スラリーを70℃に加温してチタ
ニル硫酸溶液（100g／ asTiO2）25を投入
後20分熟成し、次いで硫酸アルミ溶液（108g／
as Al2O3）51を投入して同じく20分の熟
成後、苛性ソーダ溶液（200g／）を用いて中
和し、20分熟成の後、高圧プレスフイルターで
過・洗浄・脱水した。滓の固形物濃度は65％で
あつた。この滓152Kg（TiO2100Kg）をニーダ
ーに移し、以下分散剤にヘキサメタ燐酸ソーダ
0.5Kg、ポイズ5301.0Kgを用いる以外は実施例１
と同様操作を行い、表−１記載の二酸化チタンス
ラリーを得た。 実施例 ５ 実施例４の分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダ0.7
Kg、ノプコSN−5040 0.7Kgとして表−１記載の
二酸化チタンスラリーを得た。 実施例 ６ 実施例４の分散剤をトリポリ燐酸ソーダ0.7
Kg、アロンＴ−40（東亜合成製ポリアクリル酸系
分散剤）１Kgとして表−１記載の二酸化チタンス
ラリーを得た。 実施例 ７ 実施例４と同様ルチル粗顔料を用いて同様操作
でフアインスラリーを得、濃度調整（220g／
）して1136（TiO2250Kg）を無機表面処理工
程へ。スラリーを70℃に加温して珪酸ソーダ溶液
（60g／ as SiO2）229を投入して20分熟
成、次いで硫酸アルミ溶液（108g／ as
Al2O3）46を投入して20分熟成後、稀硫酸
（200g／）を用いて中和。20分熟成後、高圧プ
レスフイルターで過・洗浄・脱水した。滓の
固形物濃度は62％であつた。この滓161Kg
（TiO2100Kg）をニーダーに移し、以下分散剤に
トリポリ燐酸ソーダ0.5Kg、エマルゲンＬ−40
0.5Kgを用いる以外は実施例１と同様操作を行
い、表−１記載の二酸化チタンスラリーを得た。 実施例 ８ 実施例７の分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダ0.7
Kg、エマルゲン1200.4Kgとして表−１記載の二酸
化チタンスラリーを得た。 次に実施例１〜８の対照として一般に用いられ
ている分散剤（縮合燐酸系またはポリアクリル酸
系各々と２−アミノ−２−メチル−１−プロパノ
ールとの組合わせ）を用いて参考例１〜５を用意
し、実施例１〜８と貯蔵安定性の比較を表−２で
行つた。 参考例 １ 実施例１〜３の分散剤をピロ燐酸ソーダ0.8
Kg、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール
（以下AMPと略称）0.5Kgとしたもの。 参考例 ２ 実施例１〜３の分散剤をアクアリツクDL−401
Kg、AMP 0.5Kgとしたもの。 参考例 ３ 実施例４〜６の分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダ
0.7Kg、AMP0.6Kgとしたもの。 参考例 ４ 実施例４〜６の分散剤をポイズ530 １Kg、
AMP0.4Kgとしたもの。 参考例 ５ 実施例７〜８の分散剤をトリポリ燐酸ソーダ
0.7Kg、AMP0.6Kgとしたもの。 次いで本発明に従つて製造される二酸化チタン
スラリーの顔料性能を評価するために、先ず一つ
は実施例１と７の二酸化チタンスラリー及び実施
例１、７の滓をそれぞれドライヤーで150℃で
８時間の乾燥をし、スチームマイクロナイザーで
微粉砕した二酸化チタン粉体とを用いてエマルジ
ヨン塗料（配合は表−３に記載）を調製し、表−
３で性能の比較を実施した。用いたエマルジヨン
樹脂はモビニール＃116（ヘキスト合成製）で酢
酸ビニル系である。二つ目として実施例４の二酸
化チタンスラリー及び実施例４の滓をドライヤ
ーで150℃で８時間の乾燥をし、スチームマイク
ロナイザーで微粉砕をした二酸化チタン粉体とを
用いてアクリルエマルジヨン系で塗料化（配合は
表−４に記載）し、表−４で性能比較を実施し
た。用いた樹脂はアクリル・スチレン共重合体エ
マルジヨンでモビニール＃707（ヘキスト合成
製）である。
塗料等の水性塗料・インキ並びに抄紙・塗工紙の
製紙分野に最適なる顔料級二酸化チタン（JIS
K5116）スラリーの製造方法に関する。 近年、我が国においても省エネルギーあるいは
工程短縮の観点から塗料・インキ・製紙工業等の
需要家において、水系の顔料分散工程の省力化が
積極的に行われ、分散工程の省略あるいは低減が
可能な二酸化チタンスラリーに対する要望がとみ
に増大している。 二酸化チタンスラリーの調製法には大別して二
通りがあり、一つは製品化した包装直前の粉体す
なわち、粗顔料→湿式粉砕→分級→表面処理→
過・洗浄・脱水→乾燥→微粉砕を経た粉体を分散
剤を用いて所定固形物濃度に再リパルプするもの
で、顔料濃度70％以上の高濃度のものが得易いこ
とが特徴となつているが、反面貯槽壁面や管壁に
ドライフレークが生じ易く、取扱いに細心の注意
が必要である。現在、実用化されているものはこ
の方法によるものがほとんどと見られる。今一つ
の調製法は表面処理タイプ二酸化チタン製品化の
中間工程、すなわち、無機表面処理剤被覆工程終
了後、過・洗浄・脱水工程より得た“フイルタ
ーケーキ”に適切な分散剤を加えて再リパルプす
るもので、スラリーの分散安定性に優れ、またド
ライフレークが生じにくいという利点を有してい
る反面、高顔料濃度が得られ難いという難点を有
している。そしてこの方法の生命は分散剤の選定
にある。 二酸化チタンスラリーは需要家で使用する条件
に合致した水バランスにあることが必須条件であ
り、最低顔料濃度60％以上が要求される。また、
貯蔵中に増粘、沈降のない低粘度安定スラリーが
望まれることは品質、作業性の上から論を俟たな
い。 本発明は前述後者すなわち、“フイルターケー
キ”より出発する方法に関するものであるが、こ
こで用いる分散剤に縮合燐酸塩と、ポリアクリル
酸塩または／およびポリオキシエチレンアルキル
エーテルを組合わせて適用することにより、分散
安定性（低増粘傾向）の優れたスラリーが得られ
ることを見い出し、完成された。 本発明においては分散剤を加える前のスラリー
の含水率を40％以下すなわち固形物濃度を60％以
上にする必要があるが、この為には公知の高圧脱
水あるいは真空脱水による外、本発明者等が先に
特許出願中である「無機表面処理後湿式粉砕して
過・洗浄・脱水を行う高密度充填滓を得る」
方法を採用するのが効果的である。 本発明においてはリパルプに際して、上記特定
組合わせの分散剤を加えた後、先に出願中の湿式
粉砕の工程を採用するのがより効果的である。す
なわち、本発明のスラリーは二酸化チタン粗顔料
（硫酸法、塩素法により得る）→湿式粉砕→分級
→無機表面処理剤被覆→過・洗浄・脱水→リパ
ルプ〔分散剤添加〕→湿式粉砕→二酸化チタンス
ラリーの工程により製造される。 スラリー化段階で添加する分散剤としては従
来、一般に縮合燐酸系またはポリアクリル酸系と
アルカノール系の組合せが用いられていたが、こ
れらの分散剤では増粘傾向の抑制効果が充分でな
かつた。そこで本発明者等はこの点につき研究の
結果上記特定分散剤の組合わせと湿式粉砕を併用
することにより後述実施例に示す如く所期の目的
を達成することに成功したものである。 本発明において用いられる縮合燐酸塩としては
トリポリ燐酸ソーダ、トリポリ燐酸カリ、ヘキサ
メタ燐酸ソーダ、ピロ燐酸ソーダ等が挙げられ、
添加率は固形物に対して0.3〜1.5重量％、好まし
くは0.5〜１重量％である。また、これに組合わ
せるポリアクリル酸塩はポリアクリル酸ソーダ、
ポリアクリル酸アンモン等で、商品名でノプコ
SN−5040（サンノプコ社）、アクアリツクDL−
40（日本触媒）、ポイズ530（花王アトラス）、ア
ロンＴ−40（東亜合成）等が挙げられる。また、
ポリオキシエチレンアルキルエーテルとしてはア
ルキル基がラウリル、セチル、ステアリル、オレ
イル等で、商品名でエマルゲン各種（花王アトラ
ス）が挙げられる。ポリアクリル酸系及びポリオ
キシエチレンアルキルエーテル系何れも添加率は
固形物に対して固形物換算0.1〜1.5重量％、好ま
しくは0.2〜１重量％である。このリパルプ工程
ではニーダー、デイスパーザー等の混練、分散機
器の使用が効果を上げる。 次工程の湿式粉砕にはサンドミル形式の機器の
使用が好適であり、メデイアはガラスビーズ、ア
ルミナビース、ジルコニアビーズ、オタワサンド
等が用いられ、デイスクやヴエツセルの形状等に
より多くの市販機種がある。 本発明の方法により製造されるスラリーの銘柄
は適用する無機表面処理剤の種類（含水チタニ
ア、含水シリカ、含水アルミナ等の単独もしくは
複数の組合わせ）に応じて種々が可能であり、表
面処理剤と分散剤の組合わせ適性には規則性は見
い出せないが、経験的に含水チタニア−含水シリ
カ−含水アルミナ表面処理に対しては縮合燐酸
系、ポリアクリル酸系、ポリオキシエチレンアル
キルエーテル三者の添加が好ましく、含水チタニ
ア−含水アルミナ、または含水アルミナ単独表面
処理には縮合燐酸系、ポリアクリル酸系の二者の
添加が好ましく、また含水シリカ−含水アルミナ
多量表面処理には縮合燐酸系、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテルの二者の添加が好ましい。ま
た、これ等スラリーを長期保存する場合はノプコ
サイドSN−215（サンノプコ社）等の防腐剤の微
量添加が必要である。 以下実施例により更に詳しく本発明の二酸化チ
タンスラリー製造方法を説明する。 実施例 １ ローラーミルで粉砕された硫酸法ルチル粗顔料
（一次粒子径0.25μ）500Kgを水でリパルプして
400g／スラリー（分散剤としてノプコSN−
5040をTiO2に対して0.1％添加）となし、振動ミ
ル粉砕（メデイア、アルミナボール、滞留時間30
分）をしてからスラリー濃度を200g／に下げ
て分級し、フアインスラリーのみを集めて濃度調
整（220g／）し、1136（TiO2250Kg）を無機
表面処理工程へ。スラリーを70℃に加温してチタ
ニル硫酸溶液（100g／ asTiO2）25を投入
後20分熟成し、次いで珪酸ソーダ溶液（60g／
as SiO2）21を投入して同じく20分熟成して
更にアルミン酸ソーダ溶液（100g／ as
Al2O3）55を投入して同様20分の熟成の後、稀
硫酸（200g／）を用いて中和し、20分熟成
後、高圧プレスフイルターで過・洗浄・脱水し
た。滓の固形物濃度は64％であつた。この滓
156Kg（TiO2100Kg）をニーダーに移し、トリポ
リ燐酸ソーダ0.7Kg及びポイズ530（花王アトラス
製ポリアクリル酸系分散剤）0.2Kg、エマルゲン
Ｌ−40（花王アトラス製ポリオキシエチレンアル
キルエーテル系分散剤）0.2Kgを投入し、混練し
て流動化させた後、デイスパーザーで完全にスラ
リー化し、次いでサンドミル粉砕（メデイア、ガ
ラスビーズ）をし、24時間弛く撹拌しながら熟成
した後、表−１記載の二酸化チタンスラリーを得
た。 実施例 ２ 実施例１における分散剤をトリポリ燐酸カリ
0.5Kg及びアクアリツクDL−40（日本触媒製ポリ
アクリル酸系分散剤）0.5Kg、エマルゲンＬ−40
0.5Kgとして表−１記載の二酸化チタンスラリー
を得た。 実施例 ３ 実施例１における分散剤をピロ燐酸ソーダ0.5
Kg及びノプコSN−5040（サンノプコ製ポリアク
リル酸系分散剤）0.3Kg、エマルゲン120（花王ア
トラス製ポリオキシエチレンアルキルエーテル系
分散剤）0.2Kgとして表−１記載の二酸化チタン
スラリーを得た。 実施例 ４ ローラーミルで粉砕した硫酸法ルチル粗顔料
（一次粒子径0.23μ）500Kgを水でリパルプして
400g／スラリー（分散剤としてノプコSN−
5040をTiO2に対して0.15％添加）となし、実施
例１と同様操作でフアインスラリーを得、濃度調
整（220g／）して1136（TiO2250Kg）を無機
表面処理工程へ。スラリーを70℃に加温してチタ
ニル硫酸溶液（100g／ asTiO2）25を投入
後20分熟成し、次いで硫酸アルミ溶液（108g／
as Al2O3）51を投入して同じく20分の熟
成後、苛性ソーダ溶液（200g／）を用いて中
和し、20分熟成の後、高圧プレスフイルターで
過・洗浄・脱水した。滓の固形物濃度は65％で
あつた。この滓152Kg（TiO2100Kg）をニーダ
ーに移し、以下分散剤にヘキサメタ燐酸ソーダ
0.5Kg、ポイズ5301.0Kgを用いる以外は実施例１
と同様操作を行い、表−１記載の二酸化チタンス
ラリーを得た。 実施例 ５ 実施例４の分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダ0.7
Kg、ノプコSN−5040 0.7Kgとして表−１記載の
二酸化チタンスラリーを得た。 実施例 ６ 実施例４の分散剤をトリポリ燐酸ソーダ0.7
Kg、アロンＴ−40（東亜合成製ポリアクリル酸系
分散剤）１Kgとして表−１記載の二酸化チタンス
ラリーを得た。 実施例 ７ 実施例４と同様ルチル粗顔料を用いて同様操作
でフアインスラリーを得、濃度調整（220g／
）して1136（TiO2250Kg）を無機表面処理工
程へ。スラリーを70℃に加温して珪酸ソーダ溶液
（60g／ as SiO2）229を投入して20分熟
成、次いで硫酸アルミ溶液（108g／ as
Al2O3）46を投入して20分熟成後、稀硫酸
（200g／）を用いて中和。20分熟成後、高圧プ
レスフイルターで過・洗浄・脱水した。滓の
固形物濃度は62％であつた。この滓161Kg
（TiO2100Kg）をニーダーに移し、以下分散剤に
トリポリ燐酸ソーダ0.5Kg、エマルゲンＬ−40
0.5Kgを用いる以外は実施例１と同様操作を行
い、表−１記載の二酸化チタンスラリーを得た。 実施例 ８ 実施例７の分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダ0.7
Kg、エマルゲン1200.4Kgとして表−１記載の二酸
化チタンスラリーを得た。 次に実施例１〜８の対照として一般に用いられ
ている分散剤（縮合燐酸系またはポリアクリル酸
系各々と２−アミノ−２−メチル−１−プロパノ
ールとの組合わせ）を用いて参考例１〜５を用意
し、実施例１〜８と貯蔵安定性の比較を表−２で
行つた。 参考例 １ 実施例１〜３の分散剤をピロ燐酸ソーダ0.8
Kg、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール
（以下AMPと略称）0.5Kgとしたもの。 参考例 ２ 実施例１〜３の分散剤をアクアリツクDL−401
Kg、AMP 0.5Kgとしたもの。 参考例 ３ 実施例４〜６の分散剤をヘキサメタ燐酸ソーダ
0.7Kg、AMP0.6Kgとしたもの。 参考例 ４ 実施例４〜６の分散剤をポイズ530 １Kg、
AMP0.4Kgとしたもの。 参考例 ５ 実施例７〜８の分散剤をトリポリ燐酸ソーダ
0.7Kg、AMP0.6Kgとしたもの。 次いで本発明に従つて製造される二酸化チタン
スラリーの顔料性能を評価するために、先ず一つ
は実施例１と７の二酸化チタンスラリー及び実施
例１、７の滓をそれぞれドライヤーで150℃で
８時間の乾燥をし、スチームマイクロナイザーで
微粉砕した二酸化チタン粉体とを用いてエマルジ
ヨン塗料（配合は表−３に記載）を調製し、表−
３で性能の比較を実施した。用いたエマルジヨン
樹脂はモビニール＃116（ヘキスト合成製）で酢
酸ビニル系である。二つ目として実施例４の二酸
化チタンスラリー及び実施例４の滓をドライヤ
ーで150℃で８時間の乾燥をし、スチームマイク
ロナイザーで微粉砕をした二酸化チタン粉体とを
用いてアクリルエマルジヨン系で塗料化（配合は
表−４に記載）し、表−４で性能比較を実施し
た。用いた樹脂はアクリル・スチレン共重合体エ
マルジヨンでモビニール＃707（ヘキスト合成
製）である。
【表】
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- １ 顔料級二酸化チタンを製造するに際し、湿式
仕上げ工程で得られる無機表面被覆処理された二
酸化チタンを含むスラリーの含水率を40％以下に
した後、縮合燐酸塩と、ポリアクリル酸塩また
は／およびポリオキシエチレンアルキルエーテル
を組合わせた分散剤を加えて流動状スラリーとな
し、次いで湿式粉砕により分散せしめることを特
徴とする顔料級二酸化チタンスラリーの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56204716A JPS58104973A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 二酸化チタンスラリ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56204716A JPS58104973A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 二酸化チタンスラリ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58104973A JPS58104973A (ja) | 1983-06-22 |
| JPS6234354B2 true JPS6234354B2 (ja) | 1987-07-27 |
Family
ID=16495119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56204716A Granted JPS58104973A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 二酸化チタンスラリ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58104973A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63222755A (ja) * | 1987-03-13 | 1988-09-16 | 株式会社日立製作所 | Ｍｒｉ信号検出器 |
| CN104017403A (zh) * | 2014-05-28 | 2014-09-03 | 江苏巨珩新材料科技有限公司 | 一种用于铝板表面的无溶剂uv涂料及其制备方法 |
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| CN102585618B (zh) * | 2012-01-16 | 2014-01-01 | 嘉宝莉化工集团股份有限公司 | 一种哑光耐污涂料及其制备方法 |
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-
1981
- 1981-12-18 JP JP56204716A patent/JPS58104973A/ja active Granted
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| CN104017403B (zh) * | 2014-05-28 | 2016-04-27 | 江苏巨珩新材料科技有限公司 | 一种用于铝板表面的无溶剂uv涂料及其制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58104973A (ja) | 1983-06-22 |
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