JPS58103366A - イミダゾ−ルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式 （本式においてＲ１および基Ｒ１とＲｓとのうちの一つ
または両方は炭素原子を介して結合している基でＴｏり
、そしてそれと異なる基Ｒ２を九はＲｓは水素原子であ
り、この場合飽和炭素原子を介して結合している非芳香
族基Ｒ３および−は互いに結合していてもよく、友だし
Ｒ，およびＲ３が芳香族の基であるときはＲ１は式−Ａ
−０−Ｒ４、−Ａ−８（０）ｎ−Ｒ４および−Ａ−Ｒ１
（式中においてＡＦｉ２価の炭化水素の基であり、Ｒ４
は置換されていないかまたは置換されている炭化水素の
基であＬ　１１ｔｉＯ％　　１ま丸線２であり、−は遊
離のまえ社エステル化ま九はア建ド化されたカルボキシ
ル基である）で表わされる基と真なるものとする〕 で表わされるイミダゾール、およびその塩の新規製造方
法に関する。

式（１）で表わされるイミダゾールは非常に広汎な工業
的用途を有している。例えば式（１）で表わされ、式中
において基Ｒ，，Ｒ，およびＲ１のうち少くとも二つが
互いに独立してフリル基、チェニル基、ピリジル基、フ
ェニル基、低級アルキルフェニル基、低級アルコキシフ
ェニル基、低級アルキルチオフェニル基、ハロフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、３，４−ジメトキ
シフェニル基壕九Ｆｉ、２．４−ジクロロフェニル基で
あり、それらと異なる基がトリフルオロメチル基を九は
アルキル基である化合物、およびその塩は米国特許第３
７０７４７５号明細書に消炎剤として開示されている。

またＪ、Ｃｈｅｍ、　８ｏｅ、、　２７８（１９４１）
から、２−置換された４、５−ジフェニルイミダゾール
でその２−置換基がアリール基またはアルキル基である
ものが化学ルオネツセンス性を有すること、またドイツ
国特許２１．１０６５９９号明細書から２．４．５−　
）リアリールイミダゾールがホトトロピー的、電子写真
的およびゼログラフィー的利用の可能性があることが知
られている。

さらに、式（１）で表わされ式中においてＲ１は低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、フェニル基であるかｔ九
は低級アルキル基か低級アルコキシ基かハロゲン原子か
によって置換されているフェニル基であ夛、基−および
Ｒ３のうち一つがフェニル基であるかｔ九は低級アルキ
ル基か低級アルコキシ基か低級アルキルチオ基か低級ア
ルカンスルホニル基かヒドロキシル基かハロゲン原子か
によって置換適れているフェニル基であり、他の一つが
Ｎ−オキシド化されているかまたはされていない、ＩＩ
Ｉまたは２個の窒素原生を有する６員の複素芳香族基で
あるイミダゾールは米国特許第３９３９８０７号明細書
において消炎性を有すると記載されている。

従って、本発明は、式（夏）で表わされる公知のインダ
ゾール、例えｄ式（菖）中において基Ｒ，、Ｒ，および
Ｒｓ　の少くとも二つが互いに独立してフリル基、チェ
ニル基、ピリジル基、フェニル基、低級アルキルフェニ
ル基、低級アルコキシフェニル基、低級アルキルチオフ
ェニル基、ハロフェニル基、トリフルオロメチルフェニ
ル基、３．４−ジメトキシフェール基または２，４−ジ
クロロフェニル基であり、それらと異なる基がトリフル
オロメチル基また杖アルキル基であるもの、または式中
においてＲ１は低級アルキル基、シクロアルキル基、置
換されていないかま九は・低級アルキル基、低級アルコ
キシ基またはハロゲン原子によって置換されているフェ
ニル基でＴｏシ、基Ｒ８およびＲ３の一つは、置換され
ていないかまたは低級アルキル基、低級アル−キシ基、
低級アルキルチオ基、低級アルカンスルホニル基、ヒド
ロキシルＪ［た祉ハロゲン原子によって置換されている
フェニル基であ°す、他の一つはＮ−オキシド化されて
いるかｔ九嬬されていない、１ｇＡｔえ＃ｉ２個の窒素
原子を有する６゛員の複素芳香族基である龜のを１造す
る丸めに“新規の方法讐使用する方法に関する。

式（１＞で表わされるイミダゾールの製造方法は多数ｉ
られているが、゛それら轢すべて、その使用を制限し、
その工業的規Ｗでの応用の妨げとなるような基本的欠陥
を有している。

例えば式（１）で表わされるインダゾールは通常式Ｒ，
−Ｃ（（））−Ｃ（＝０）−Ｒ３−（１）で表わされる
ジケトンをアンモニアまたはアンモニア供与体および式
Ｒ，−Ｃ１す（Ｉ）で表わされるアルデヒドと反応して
製造される。

例えばスイス特許第５６１２０２号明細書に詳細に配さ
れているこの方法の欠点は、式（璽）ま丸線式（■）で
表わされる出発材料が不利な酸化工ｌ！において使用さ
れることである。式（厘）で表わされるジケトンは通常
先ず、容易に入手し得る一次製品から、予備的酸化工程
によって、１−まえは２−ぞキソエチレン基か１−ヒド
ロキシ−２−オキソエチレン基か２−ヒドロキシ−１−
オキソエチレン基かビニル基かから１，２−ジオキソメ
チレン基を形成させて製造しなければならない。すなわ
ち弐個）で表わされるジケトンはスイス特許第５６１２
０２　号明細書゛により、例えば式Ｒ，−ＣＨ，−Ｃ（
（））−Ｒ３（Ｗ　）で表わされる対応するモノケトン
ま光祉式Ｒ，−Ｇｌ−ＯＨ−Ｒ。

（Ｖ）で表わされるスチリル化合物を二酸化セレンで酸
化するか、弐Ｒ，−Ｃｌ（ＱＨ）−Ｃ（（））−Ｒ３（
１Ｍ）で表わされる対応するヒドロキシケトンを鋼（１
）塩で酸化するかによって得られる。オーの反応に使用
される二酸化セレンおよび還元生成物の高い毒性は安全
上および環境衛生上重大な危険の恐れをもたらすもので
あり、これを妥当な範囲内に止めるには、それができる
としても多大の費用を要する。

オニの反応において社、式０）で表わされる反応生成物
は鋼（厘ン錯塩の形で得られ、目的のインダゾールをこ
れから遊離しなければならない。仁の目的には生理学的
に危険な硫化水素によって反応が行なわれる。さらに欠
点は、反応副生物として得られ重大な環境汚染を生ずる
硫化鋼を無害化するか、永久的に貯蔵するか再処理しな
ければならないことである。また式（鳳）で表わされる
アルデヒドは大量に入手し得ることは稀であシ、一般的
に嬬対応するカルボン酸またはカルボン酸ハロゲン化物
を出発原料として還元によって製造しなければならない
。

前記のスイス特許第５６１２０２号明細書の方法の変法
では、式（Ｖ）で表わされる化合物を亜硝１１によって
ａ−オキシム化し、生成した式 Ｒ，−Ｃ（−ＮＯＨ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｓ（Ｗ）で表わ
されるオキシムを使用することができる。しかしこの方
法では式（１）で表わされる化合物の１−Ｎ−オ中シト
が得られ、式０）の化！物紘次に還元によって遊離しな
ければならない。

スイス特許第５６１７１６号明細書から、式１式％） れるＮ−アシル化されｆ５ａ−アミノケトンをアンモニ
アマ丸線アンモニア供与体と反応させることも知られて
いる。この方法の欠点祉ア建ノヶトンが、工業的規模で
実施するＫａ複雑な数段の合成工程でしか得られないこ
とである。例えばアミノケトンは対応するヒドロキシケ
トンをオキシムに転化し、次にこれを水素で還元してア
ミノケトンとすることによって製造され、さらにこのア
ミノケトンは非常に不安定なことが知られている。Ｎ−
アシル化蝶最後に反応性の酸誘導体との反応によって行
なわれるが、この酸誘導体を先ずカルボン酸から製造し
なければなら゛ない。

例えばスイス特許第５６１’７１７号明細書に記載され
てｈ！別の方法Ｋｔｒい？Ｉｌｉ、式Ｒ，−ＣＨ（Ｘ）
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ。

（ＩＣ）で表わされ、式中においてｘ社友応性のエステ
ル化され九ヒドロキシル基、例えばハロゲン原子、好ま
しく嬬塩素原子を九は臭素原子を表わす反応性のエステ
ル化されたば−ヒドロキシヶトンを弐Ｒ□−Ｃ（−ＮＨ
）−ＮＨ，（Ｖｌ）テ表ｂ−ｓれｂｙｔ　ジンと縮合さ
せる。これにょ９前記のアミノケトンを経由する遠回り
の方法は避けられるが、ア建ジン（これはまえ、塩の形
でのみ安定で使用可能である）の製造も多段階合成が必
要であり、その出発材料は通常環境衛生的に問題のある
ニトリルであり、このニトリルはま九他のカルボン酸誘
導体から製造しなければならない。Ｃｈ＠ｗ、　Ｂ＠ｒ
、　８Ｌ８８−９３に記載されている仁の方法の変法に
おいては、ヒドロキシケトンまたはハロケトンをホルム
アンドと反応させて２−置換されていないインダゾール
を得る仁とができる。しかしこの文献に明白に述ぺであ
る通）、この方法は他のカルボ中ジアミドに紘適用でき
ず従って原理的に、式中で表わされる２−置換され九イ
建ダゾールの製造に社逼嶋でない。

式（１）で表わされるインダゾールを得る別の合成ルー
トはスイス特許第５６１７１Ｎ明細書ＫＩＮ示され九オ
キサゾールおよびアンモニアおよび（まえは）ホルムア
きドから出発する４のである。この場合にも欠点は、オ
キサゾール中間体のＩｌｉ造に多段階の合成がさらに必
要なことである０例えば、Ａ■）で表わされるヒドロキ
シケトンを弐Ｒ１−Ｃα）Ｈ（Ｘ）で表わされるカルボ
ン酸の反応性誘導体と反応させて対応するエステルとし
、次にこれをアンモニア供与体で処理して反応に使用す
べきオキサゾールを得る。

従って本発明の目的社、式（１）で表わされるイミダゾ
ール化合物の製造のための、できるだ−け環境衛生的に
清浄であり、よシ安価な出発材料を使用し、反応工程数
が少なく、かつ実施が答易であるような方法を提供する
ことである。この目的は式Ｒ，−Ｃ）Ｉ（Ｘ）−Ｃ（＝
０）−Ｒ，＜Ｋ）で表わされ、式中においてｘ社友応性
のエステル化されたヒドロキシル基を表わす反応性のエ
ステル化されたヒドロキシケトンま九蝶その塩を、式 ％式％（） で表わされるアンモニウム塩と、必要ならばアンモニア
ま丸線アンモニア供与体の存在において、反応させるこ
とによって達成される。

適当なアンモニア供与体の例としては、式（１）で表わ
される塩の過剰のり１かに、弐Ｒ０−ＣＯＯＨ（Ｍ）で
表わされる駿より弱い酸のアンモニウム塩、例えハＩｉ
ｔ＃アンモニウムを九蝶カルバミン酸アン、モニウムが
挙ぜられる。

従って本発明Ｆｉまた、式（Ｋ）で表わされる化合物を
少くとも２倍モル量の式（力で表わされるアンモニウム
塩と反応させるか、式（Ｋ）で表わされる化合物をほぼ
等モル量の式（１）で表わされるアンモニウム塩、およ
び少くと４勢モル量、しかし好盲しく縮約３〜５倍モル
量のア゛ンモニア壕九蝶アンモニア供与体と反応させる
拳法の変法にも関する。

反応性のエステル化されたヒト０中シル基としては例え
ば、好ましく繻無機または有機の強酸、例えば強鉱酸、
例えばハロゲン化水素酸、例えば塩酸を九は臭化水素酸
か、強有機スルホン酸例えば対応する低級アルカンスル
ホン酸、また社アリールスルホン酸、例えばメタンスル
ホン酸、まえは置換されていないかまえは置換されてい
るベンゼンスルホン酸かによってエステル化され九と１
０キシル基であって、例としてハロゲン原子例えば塩素
原子を九は臭素原子、低級アルキルスルネニルオ命シ基
、例えばメチルスルホニルオキシ基壇九はエチルスルホ
ニルオキシ基、またはアリールスルホニルオキシ基、Ｎ
ｔｔｆ）ルエンｘｅｙｔｃニルオキシ基を九蝶ベンゼン
スルホニルオキシ基が挙げられる。

式（力で表わされるアンモニラ今塩轢ま九、反応条件下
でその場で、例えば反応を式ＣＭ）で表わされる酸を存
在させて液状またはガス状アン毫ニアを導入して行なう
ことによって生成することができる。本方法のこの態様
において社、アンモニアはｔ要式ＣＭ）で表わされる酸
よシ弱い酸の塩、例えば炭酸の塩、例えば炭酸アンモニ
ウムまたはカルバミン酸アンモニウムの形で添加するこ
ともできる。

反応は反応条件下で不活性な溶媒の存在壕九は不在にお
いて、温度を上げて、例えば６０°−１８０’Ｃ１好ま
しくは９（Ｆ　−１２０℃の温度範囲において行なわれ
る。

適当な溶媒の例としては、置換されていないかまた社ハ
ロゲン化されている炭化水素、例えば置換されていない
かｔ九はハロゲン化されている脂肪族、脂環式、まえは
芳香族の炭化水素、例えばヘキサン、シクロヘキサン、
トルエン、タロロホルム、−１＊ｔｉ／ロロベンゼン、
アルカノール例工ばグロパノール、イソプロパツール、
ブタノール、ペンタノール、またはオクタツール、エー
テル例えばジメトキシエタン、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジオキサンｔえはテトラヒドロフラン
、低級アルカンカルボン酸例えばギ酸ま九は酢酸、また
社好ましく線式〇１）で表わされる酸、アミド例えば低
級アルカンカルホキシアミド、例えばホルムアミド１に
友はジメチルホルムアミド、またはラクタム、例えばＮ
−メチルピロリドン、スルホ中シト例えばジメチルスル
ホ命シト、まえ社水が挙げられる。

弐〇）で表わされる化合物の製造方法の好ましい１態様
は、式（ＩＣ）で表わされ式中においてＸ轢例えばハロ
ゲン原子例えば臭素原子である化合物を、反応温度約１
００　’Ｃにおいて式に）で表わされるアンモニウム塩
と反応させることから成る０式（Ｘ）で表わされる化合
物は過剰に、例えば式ＣＫ）で表わされるエステルに対
して約４＝１ないし６：１の比率で添加され、その場で
例えば対応する酸を反応条件下で液体アンモニアと反応
させて生成させてもよい。

本発明の方法の別の好ましい態様においては、式ＣＭ）
で表わされる酸が過剰に加えられ、これは同時に反応の
溶媒として作用する。

式（Ｋ）で表わされる出発化合物のうち若干のみが公知
である。これらは例えば、エステル化され要式Ｒ２−Ｃ
Ｈ、−ＣＯＯＨで表わされる酸とエステル化され圧式Ｒ
，−ＣＯＯＨで表わされる酸とを、好ましくは塩基の存
在においてエステル縮合させることによって得ることが
できる。得られた式Ｒ，−ＣＨ，−Ｃ（＝０）−Ｒ，（
Ｗ）　　で表わされるａ−メチレンケトンは例えば臭、
素化して、式ＣＭ）で表わされ式中ｘ＃ｉ臭素原子であ
る化合物に転化される。

公知の従来技術の方法と比較して本発明の方法によれば
容易に入手し得る出発材料を使用して何段もの反応工程
を省くことができ、かつ廃棄物は生じないか環境衛生的
により害の少い廃棄物しか生じない。従って、α−ハロ
ケトンと高級酸ア建ドとの反応ではイミダゾール化合物
は生成し得ないという当業者のいだいていえ先入感（Ｃ
ｈ＠ｗ、　ｌｉ＠ｒ。

前出）にもか＼わらず、驚くべきことには、式（１）で
表わされるイミダゾールを対応する反応性のエステル化
され九ａ−ヒドロキシケトンと対応するカルボン酸のア
ンモニウム塩とから生成する、簡単、安価で環境衛生的
に清浄であシ容易に工業的規模で笑施し得る製造方法を
開発することができた。

本発明は特に、一般式（Ｄで表わされ、式中にかいてＲ
１は枝分れし゛九Ｃ１−ｃ４低級アルキル基、ま九は置
換されていないかまえは原子番号易以下のハロゲン原子
例えば塩素原子によって置換されているフェニル基であ
り、基Ｒ３およびＲｓのうちの一つま丸線両方は、原子
番号蕊以下のハロゲン原子か、Ｃ８−０４低級アルキル
基かＣ，−Ｃ４低級アルコキシ基かＣ□−０４低級アル
キルチオ基例えばメチルチオ基かによってパラ置換され
て込るか、ｃ、−ｃ、を級アルコキシ基例えばメトキシ
ル基によりてメタおよびパ５ｉ＃ｌ換されているか、を
産は原子番号語以下のハロゲン原子例えば塩素原子によ
ってオルトおよびパラ置換されているフェニル基であり
、それと異なる基Ｒ３およびＲ３蝶ピリジル基またはｌ
−オキシドービ□リジル基例えば３−ピリジル基、フリ
ル基例えば２−フリル基、を九はチェニル基倒えば２ニ
チエニル基であるイミダゾールま九はその塩の製造方法
に関する。

本発明は最も特に妹、実施例に記載の方法に関する。

本発明はまた、反応のどの段階で得られる化合物からで
も出発して残りの反応段階を実施するか、を友は反応を
任意の段階　　□ 発材料を反応条件下で、所望ならばその場で生成するよ
うな本方法の態様に関する。

′　以下実施例によって本発明をさらに詳細に説明する
。

ａ−ブロモベンジル−３−ビリジルヶトンヒドロプロミ
ＶＢ、Ｓ７ｔとビバル酸アンモニウム５．９５Ｆとをビ
パルＩＦ　５０ｆ中で５時間１００　ｔ：でかきまぜる
。

冷却後反応混合物を酢酸エチルで抽出し、２５−アし、
水相を酢酸エチルでさらに１回抽出する。合一した抽出
液を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を蒸留し
て除く。残分をアセトニトリルに熱溶解し溶液を冷却し
て結晶化させる。結晶をＦｉｌしアセトニトリルから再
結晶すると、融点１９１　’　−１９２℃の２−オ三級
ブチルー４１５Ｉ−フェニル−５（引−（３−ピリジル
〕イ？ダゾールを得る。

出発材料嬬次のようにしそ製造することができる：ナト
リウムメトキシド３５．４Ｆをトルエン５νの溶竺に禦
える。混合物 を加熱沸−させ、次にトルエン２７０−中フェニル酢酸
メチル８０．１ｆの溶液を２ＭＩＩ間で徐々に滴加する
。同時にメタノ− １３０−を下降ｌｌ！縮器によって留去する。反ｍｌ温
度が１０８℃に達するまでゆるやかに蒸留を続ける。

次に反応混合物を室温に冷却し、冷却しながら毅塩酸１
５０−と水１３０−との混合物に加える。全体をさらに
５時間加熱沸騰し、次に１０℃に冷却し、沈殿し九生成
物をＰ別する。沈殿管トルエン５Ｏｓｄずつで２回洗浄
し、６０℃で真゛空乾燥すると、融点２１９−２２１℃
のベンジル−３−ピリジルケトン塩酸塩を得る。収量９
３．３　ｆ　（ＩＩ論量の８５ｓ）。

例２ ａ−ブロモベンジル−３−ビリジルーケトンヒドロプロ
ミド１６．５ｆとビパル酸アンモニウム１１ｔとの混合
物をジメチルホルムアミド７０−中で向℃に加熱する。

混合物をこの温度で９時間ガス状アンモニアを通しなが
らかｔｌまぜる。次に反応溶液を蒸発乾固し、・残分を
水１ＯＯ−と酢酸エチル１０〇−との中に溶解し、溶液
を２５１ｓアンモニアで−９に調節する。有機相を分離
しアルカリ相を酢酸エチルで抽出する。合一した有機相
を水洗し硫酸ナトリウム上で乾燥し、乾固する。残分を
アセトニトリルに熱溶解し、冷却して生成物を結晶させ
、ｒ別する。アセトニトリルから再結晶すると融点１９
０−１９１℃の２−才三級プチル−４（５）−フェニル
−５１４１−（３−ピリジル）−イミダゾールを得る。

収量ｓ、ｓｓｔ　（理論量の４９．６慢）。

出発材料は次のようにして製造することができる：臭素
？Ｌ２　ｆをエチレンクロリド１２００−中ベンジルー
３−ビリジルーケトン８４．９　ｆ　（Ｄ＠箪に４０℃
で５時間か轄て論陣する。反応混合物を４０℃で３６時
間かきまぜると、ａ−ブロモベンジル−３−ビリジルー
ケトンヒドロプロミド（ｍ、ｐ、　２２６゜−２３０℃
］をｒ別することができる。収量：１３４．４ｆＣ１ｍ
論量の８７．６１１　）。

例３ ジメチルホルムアミド７５−中α−プロ、モベンジルー
３−ビリジルーケトンヒドロプロミド１７．８Ｆとピパ
ル酸アンモニウム３５．７５　ｆとの溶液を１００℃で
３時間かきまぜる。例２と同様にして後熟ｌする。融点
１９ｆ’　−１９２℃の２−才三級ブチル−４（５）−
フェニル−５１４１−（３−ピリジル）−イミダゾール
の収量８．１３ｆ　ＣＩＩ論量０５８．７ｓ）。

例　　４ ビパル酸４．０９Ｆをジメチルホルムアｚ）′器−に溶
解する。溶液を１００′ｃＫ加熱し次に、最初に炭酸ア
ンモニウム２．９ｔを、次に２−３分かきまぜたｖｋａ
−ブロモベンジル−３−ビリジルーケトンヒドロプロミ
ド２．４１Ｆを添加する。さらに４．６ｔの炭酸アンモ
ニウムを分割して加えながら１００　’Ｃで９時間かき
まぜを統轄る。例２と同様に後処理して、融点１９０．
５°−１９２℃の２−オ三級ブチル−４１５）　−フェ
ニル−５１４１−（３−ピリジル）−イミダゾールを得
る。

例　　５ ａ−ブロモベンジル−３−ビリジルーケトンヒドロプロ
ミド３２．８５　Ｆを、ピパル酸５６．４Ｆとセロソル
ブ１００−との溶液中に１１濁する。室温でアンモニア
を通じてビパル酸を中和し、次に反応混合物を１００℃
で３時間かきまぜる。例２と同様に後処理して融点１９
０．５°−１９１℃の２−オ三級ブチル−４１５１−フ
ェニル−５１４１−（３−ピリジル）−インダゾールを
得る。

例　　６ 臭素１７　ｆをビパルｌ！　２１０　を中のベンジル−
３−ビリジルーケトン塩酸塩２３．３５　ｆ　Ｋ　８５
℃で４時間か杖で論陣する。混合物を９０℃で３時間か
きまぜ、次にビバル酸を、反応器内の残存量が６倍モル
量（ベンジル−３−ピリジル−ケトン塩酸塩に対して）
になる迄減圧で留去する。−一プロモペンジルー３−ビ
リジルーケトンヒドロプロミドとビパル酸と、を含む反
応混合物をセロソルブ１００−で希釈する。次にビバル
酸を１０−１５　’Ｃでガス状アンモニアで中和し九′
後、混合物を１００℃で３時間かき宜ぜる０例２と同様
に後処理すると、融点ＨｅＯ’−１９０，５’ＣＯ３−
才三級プチｊ’　−４１５）　−７ｘ　＝　ルー５（４
１−（１−ピリジル）−イミダゾ−４１６，３３ｆ（Ｓ
論量の５９１　）を得る。

例１ ベンジル−３−ピリジル−ケトン塩酸塩２３．３ｆを８
５℃でビール１１２３Ｇ−中に懸濶する。次に臭素１７
　ｆを６時間かけてこの懸濁液に論陣し、次に過剰の臭
素を７七トン１（）−を加えて分解し、反応温合物を６
０ｔＫ冷却する。ピパル酸アンモニウム９０ｔ１−ｍえ
て反応混合物を６０℃でｉ時間かきまぜ、次に５時間温
度を１００　ｔ　Ｋ上げる。４０ｔＫ冷却後、酢酸エチ
ル２００−と水５０−とを加え、混合物を完全に溶液と
なる迄かきまぜ、次ＫＩＯ−塩酸２０Ｇ−中に注ぐ。有
機相を分離し、１ｏ−塩酸５０−ずつで２回、水で１回
洗浄する。合一し九水相の−を９に調節する。沈殿した
粗生成物を酢酸エチルに取り、溶液を水洗し淡縮して油
状物を得、これをアセトニトリル６０−から結晶する。

融点１９１　’−１９２℃の２−才三級プチル−４（５
）−フェニル−５（４＋−（３−ピリジル］−イ電ダゾ
ールの収量ｓ、ｓ　ｔ　（ｉｓ論量の３０．６−）。

出発材料は例えば次のようにして製造する仁とができる
：ベンジルー３−ピリジルーケトン塩酸塩（例１参照）
　２１．９・ｆを水２９５　ｍｇ　Ｋ　ＩＩ解する。

トルエン９４−を加え丸後濃アンモニア１４．２−をか
きまぜながら加える。トルエン相を分離し水相をトルエ
ン加−ずつで２回抽出する。合一し友有機相を濃縮乾固
すると、融点６０．２°−６１，５℃のベンジル−３−
ピリジル−ケトンを得る。

例　　８ ベンジル−３−ビリジルーケトン１９．７３　ｆとエチ
レンクロリド２０Ｇ−との溶液に８０℃でＵ時間塩素ガ
スを通すと、ａ−りｏｏベンジル−３−ビリジルーケト
ン塩酸塩を戸別することができる。

収量１８．３ｆ　（ＩＩｍ論量６８．２−）。融点２０
７．４°−２１０℃。

例　　９ ａ−プ四モペンジルー３−ピリジルケトンヒドロプロき
ド３１）　ｆ　（０，０８４モル］と吉草酸アンモニウ
ム６０ｆとをセロソルブ１５０−中で１００℃に加熱す
る。反応混合物を仁の温度で３時間かきまぜ良後濃縮乾
固する。例１と同様に後魁環して、融点１１７．５°−
１１９，５℃０２−　ｎ−ブチル−４１５Ｊ−フェニル
−５係１−（：１−ピリジル）−イミダゾールｕｔ（ｍ
論量０５１．５１１Ｇ　）　を得る。

例脆 α−クロロベンジル−３−ビリジルーケトン塩酸塩１ｇ
Ｊｆとビバル酸アンモニウム４８．６　ｆ　　とをエチ
レングリコールモノエチルエーテル１２０−中に懸濁し
、懸濁液を１００℃で３時間かきまぜる。

例２と同様に徒処理すると、融点１９０．５°−１９１
，５゜Ｃの２−才三級ブチル−４（５警−フェニル−５
４４１−（３−ピリジル）−イミダゾールを得る。

例１１ 一一プロモーデスオキシベンゾイン２７．６ｆと酢酸ア
ンモニウム４２．４ｆとをエチレングリコールモノエチ
ルエーテル中で４時間１００℃に加熱する。

不溶解固形分を戸別し、Ｆｉｍを真空で蒸発乾固し、残
分を水１０Ｇ−と酢酸エチル１００　ｍ　Ｋ取る。アン
モニア水で−を９〜Ｗに調節し、水相を分離し、水洗、
濃縮する。結晶性残分を少量のメタノールｊｌｃＷＲす
、ｒ過する。２−メチル−４，５−ジフェニルイミダゾ
ールの収量１２．８Ｆ　（［１論量の５４．７１１　）
で、メタノールから再結晶し得る。融点２３７°−２３
８℃。

例Ｕ 例１１と同様な方法によｐｌａ−クロローデスオ中ジベ
ンゾイン２３Ｆを酢酸アンモニウム４２．感ｆと反応さ
せる。２−メチル−４，５−ジフェニルイミダゾールの
゛収量１２．１ｔ　（ｍ論量の５１．７１６　）。

例Ｕ 例１−９に配したと同様の方法により次の化合物を得る
： ２−（ｐ−クロロフェニル）−４１５）−（ｐ−メトキ
シフェニル）−５（４）−（３−ピリジルコ−イミダゾ
−＃、ｍ、ｐ、　２００’　−２０３℃、２−才三級プ
チル−４１５１−（Ｐ−メトキシフェニル）−５１４−
（３−ビリジルノーイミダゾール、ｍ、ｐ、　２０２°
−２０４℃、 ２−２三ｆｌｋブチル−４（６１−（ｏ−１０ロフエニ
ル）−５１４１−（３−ピリジル）−イきダゾール、ｍ
、ｐ、　２０５°−２０６℃、 ２−オ三級ブチル−４１５１−（ｍ−）リル）−５（４
１−（３−ピリジル）−イミダゾール、ｍ、ｐ、　１７
０゜−１７１ｔ、２−オ三級ブチル−４１５１−（ｐ−
メチルチオフェニル）−５＋４ｌ−（３−ピリジル）−
イｌダシ−＃、ｍ、ｐ、　１９９°−２００℃、２−才
三級プチル−４１５１−ＣＰ−メトキシフェニル）−５
１４１−（３−ピリジルー１−オキシドツーインダゾー
ル、ｍ、ｐ、　２５０°−２５８℃、および２−トリフ
ルオロメチル−４，５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）
−イミダゾール、ｍ、ｐ、　１９２°−１９４℃、２−
オ三級プチルー４，５−ビスーフェニルイ建ダゾール。

例１４ 例１−１２に述べ九と同様の方法によ〕次の化合物を得
る： ２−イソブチル−４，５−ビス−フェニルイミダゾール
、ｍ−ｐ−２１１’　−２１４℃、２−（ｐ−ブロモフ
ェニル）−４，５−ビス−フェニルイミダゾール、ｍ、
ｐ、　２６２°−２６４℃、訃よび５−メチル−２，４
−ビス−フェニルイミダゾール、ｍ、ｐ、　２１４°−
２１５℃。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ＋１ｊ式 （本式において、Ｂ□ならびに基Ｒ２とＲｓとのうちＯ
   少〈と４一つ社員素原子を介しゼ結合され九有機基を、
   そしてそれと異なる基Ｒ８ま九ｄＢ、ｔｉ水素原子を表
   わし、この場合飽和炭素原子を介して結合して−る非芳
   香族Ｏ基Ｒ８および８．は相互に結合していてもよいも
   のとし、たりしＲ８およびＲ１が芳香族の基を表わすと
   き扛Ｒ１紘にム＋Ｒ４、−Ａ−８（０）ｎ−Ｒ４および
   −ム−Ｒ，Ｃ式中においてムＦｉ２価の炭化水素基を表
   わし、Ｒ４は置換されていないかまたは置換されている
   炭化水素基な表わし、ｍＦｉＧ、１または２を表わし、
   Ｒ，はエステル化を九はアミド化されているかまた嬬さ
   れていないカルボ中シル基を表わすンで表わされる基と
   は異なるものとする〕 で表わされるイミダゾールおよびその塩を製造するＫあ
   たり、式 ％式％（） （本式において、Ｒ，、Ｒｓは前記の意味であシ、ｘ社
   反応性のエステル化されたヒドロキシル基を表わすン で表わされる反応性のエステル化されたヒドロキシケト
   ンまえはその塩を式 ％式％（） （本式においてＲ１は前記の意味である）で表わされる
   アンモニウム塩と、必要な場合に社アンモニアまたはア
   ンモニア供給剤と反応させることを特徴上する、前記式
   （１）で表わされるイミダゾールおよびその塩の製造方
   法。 （２）　　式ＣＫ）で表わされ、式中において、Ｘは強
   鉱酸ま九は強有機スルホン酸によってエステル化された
   しドロ中シル基、例えばハロゲン化水素酸、例えば塩酸
   ま友は臭化水素酸、まえは低級アルカンスルホン酸また
   はアリールスルホン酸、例工ばメタンスルホン＃または
   置換されているかま九は置換すれていないベンゼンスル
   ホン酸によってエステル化されたヒドロキシル基である
   化合物から出発する前項（１すに記載の方法。 （３；　　式＜Ｋ）で表わされる化合物をほぼ等モル量
   の式（Ｘ）で表わされるアンモニウム塩、および少くと
   も郷モル量、しかし好ましくＦ１ａ　−５倍モル量のア
   ンモニアと、まえはアンモニア供給剤として少くとも過
   剰モル量の式■で表わされる塩、もしく鉱式Ｒ□−ＣＯ
   ＯＨ（Ｍ）で表わされる酸よりも弱い酸のアンモニウム
   塩、例えば炭酸アンモニウムまたはカルバミン酸アンモ
   ニウムと反応させる前項ｉｌｌま九Ｆ１１２１に記載の
   方法。 １４１　　式（Ｋ）で表わされる化合物を少くとも２倍
   モル饋の式へ）で表わされるアンモニウム塩と反応させ
   る前項（１）−１３１のいずれかに記載の方法。 （５）式（Ｋ）で表わされ、式中においてＸはハロゲン
   原子例えば臭素原子を表わす化合物を反応温度約１００
   ℃において過剰の、例人ば式＜Ｋ）で表わされるエステ
   ルに対して約４１ないし約６：１の比率の、式（１）で
   表わされるアンモニウム塩と反応させる前項＋１１まえ
   は（２１に記載の方法。 （６）　　反応混合物中に式Ｒ，−Ｃ０ＯＨ（ｍｌ　）
   　　で表わされる酸を導入し、液状またはガス状のアン
   モニアと反応させるか、または式Ｒ０−Ｃ００ｆ（０１
   ）　　で表わされる酸をアンモニアと、または式Ｒ，−
   ＣＯＱＨＣ）ｇ）で表わされる酸より弱い醗例えば嶽＃
   Ｏアンモニウム塩例えば炭酸アンモニウムま九轄カルバ
   電ン酸アンモニウムと反応させることによって、反応条
   件下でその場で式■）で表わされるアンモニウム塩を生
   成する前項（１）　−（５１０いずれかに記載の方法。 （７）溶剤として式Ｒ１−Ｃ０ＯＨ（Ｍｌ、、で表わさ
   れる対応する酸を、場合により過剰に、使用する前項１
   １１−（６１のいずれかに記載の方法。 １８１　　式（１）で表わされ、式中においてＲ１株低
   犠アルキル基、シクロアルキル基または置換されてい表
   いかまえは低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハ
   ロゲ、ン原子によって置換されているフェニル基でＴｏ
   シ、基Ｒ８およびＲ，のうち−クは置ルコキシ基、低級
   アルキルチオ基、低級アルカンスルホニル基、ヒドロキ
   シル基また扛ハロゲン原子によって置換されているフェ
   ニル基であｉ他の−りｔｉＮ−オキシド化されているか
   ま丸線されていない、１個ま九は２個の窒素原子を有す
   る６員の複素芳香族の基を表わすイミダゾールま九はそ
   の塩を製造する前項１１１−１７）のいずれかに記載の
   方法。 （９）　　式（１）で表わされ、式中においてＲｏは４
   個以下の炭３に原子を有する枝分れし九低級アル中ル基
   か、または置換されていないかま九嬬原十番号易以下の
   ハロゲン原子例えば塩素原子によって置換されているフ
   ェニル基を表わし、基Ｒ２およびＲｓの少くとも一つは
   、原子番号Ｉ以下のハロゲン原子か４個以下の炭素原子
   を有する低級アルキル基ふ４個以下の炭素原子を有する
   低級アルコキシ基かまたは４個以下の炭素原子を有する
   一低級アルキルチオ基例えばメチルチオ基かによってｐ
   −置換されているか、または４個以下の炭素原子を有す
   る低級アルコキシ基例えばメトキシ基によって飄−およ
   びｐ−置換されているか、を九は原子香号蕊以下のハロ
   ゲン原子例えば塩素原子によって〇−およびｐ−置換さ
   れているフェニル基を表わし、それらと異なる基町まえ
   はＲ，Ｆｉピリジル基ま九ｔｆｔ−オ命シトーピリジル
   基例えば３−ピリジル基、フリル基例えば２−フリル基
   、またはチェニル基例えば２−チェニル基を表わすイき
   ダゾールまたはその塩を製造する前項（１３〜（７１の
   いずれかに記載の方法。 ａｅ　例１１にいし例１０において示す式０）で表わさ
   れる化合物、特に２−オ三級ブチル−４１５＋　−７エ