JPH1195411A - マスクおよび露光装置 - Google Patents
マスクおよび露光装置Info
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- JPH1195411A JPH1195411A JP26937197A JP26937197A JPH1195411A JP H1195411 A JPH1195411 A JP H1195411A JP 26937197 A JP26937197 A JP 26937197A JP 26937197 A JP26937197 A JP 26937197A JP H1195411 A JPH1195411 A JP H1195411A
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- Japan
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- mask
- protective members
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- glass substrate
- exposure apparatus
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、半導体装置、あるいは液晶表示装置
を製造する際のフォトリソグラフィ工程で用いられるマ
スクに関し、マスク端部が衝撃を受けても破損しにくい
マスクを提供することを目的とする。 【解決手段】マスク１の四隅の角部に弾性部材の保護部
材２が取り付けられている。保護部材２は、マスク１の
角部形状に倣うように形成された凹部をマスク１の角部
にはめ込むようにして取り付ける。保護部材２の内幅ｔ
Bは、マスク１のガラス基板の厚さｔMより若干狭く形成
されており、容易に脱落しないようになっている。保護
部材２外表面は、マスク１の角部形状にほぼ倣った形状
であり、保護部材２の外表面はガラス基板側面より所定
の高さを有している。マスク１がずれて角部が他の部材
に衝突するようなことがあっても、この保護部材２によ
り衝撃が吸収されてマスク１を破損することがない。
を製造する際のフォトリソグラフィ工程で用いられるマ
スクに関し、マスク端部が衝撃を受けても破損しにくい
マスクを提供することを目的とする。 【解決手段】マスク１の四隅の角部に弾性部材の保護部
材２が取り付けられている。保護部材２は、マスク１の
角部形状に倣うように形成された凹部をマスク１の角部
にはめ込むようにして取り付ける。保護部材２の内幅ｔ
Bは、マスク１のガラス基板の厚さｔMより若干狭く形成
されており、容易に脱落しないようになっている。保護
部材２外表面は、マスク１の角部形状にほぼ倣った形状
であり、保護部材２の外表面はガラス基板側面より所定
の高さを有している。マスク１がずれて角部が他の部材
に衝突するようなことがあっても、この保護部材２によ
り衝撃が吸収されてマスク１を破損することがない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、ある
いは液晶表示装置を製造する際のフォトリソグラフィ工
程で用いられるマスクおよび露光装置に関する。
いは液晶表示装置を製造する際のフォトリソグラフィ工
程で用いられるマスクおよび露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置等の製造工程
におけるフォトリソグラフィ工程では、レチクルあるい
は、マスク（以下、マスクという）に形成された回路パ
ターンを投影光学系を介して半導体ウェハやガラスプレ
ート（以下、プレートという）上に投影露光する投影露
光装置が用いられている。この投影露光装置としては種
々の方式のものがあるが、例えば液晶表示装置の製造の
場合、マスク面およびプレート面をほぼ平行にしてマス
クとプレートとを対向させ、マスクとプレートとの間に
マスクパターンの一部の像を正立等倍でプレート面に投
影する投影光学系を配置し、マスクおよびプレートを当
該投影光学系に対して同期して１次元に走査させて露光
するいわゆる走査型露光装置がある。
におけるフォトリソグラフィ工程では、レチクルあるい
は、マスク（以下、マスクという）に形成された回路パ
ターンを投影光学系を介して半導体ウェハやガラスプレ
ート（以下、プレートという）上に投影露光する投影露
光装置が用いられている。この投影露光装置としては種
々の方式のものがあるが、例えば液晶表示装置の製造の
場合、マスク面およびプレート面をほぼ平行にしてマス
クとプレートとを対向させ、マスクとプレートとの間に
マスクパターンの一部の像を正立等倍でプレート面に投
影する投影光学系を配置し、マスクおよびプレートを当
該投影光学系に対して同期して１次元に走査させて露光
するいわゆる走査型露光装置がある。
【０００３】この走査型露光装置で用いられるマスクに
は、低膨張ガラスや石英などからなるガラス基板が使用
される。近年、この走査型露光装置で製造される液晶表
示パネルはますます大型化してきており、それに応じて
マスクも大型化してきている。図６に従来のマスクのガ
ラス基板の形状を示す。図６（ａ）はガラス基板の平面
図であり、図６（ｂ）は同側面図である。図６に示すよ
うに、ガラス基板は、約５００ｍｍ×６００ｍｍ程度の
長方形形状を有し、厚さが８ｍｍ程度で重量が５〜１０
Ｋｇ程度である。このように近年用いられるマスクは大
きく、かつ重くなってきている。また、それに伴ってマ
スクの製造コストも高くなってきている。
は、低膨張ガラスや石英などからなるガラス基板が使用
される。近年、この走査型露光装置で製造される液晶表
示パネルはますます大型化してきており、それに応じて
マスクも大型化してきている。図６に従来のマスクのガ
ラス基板の形状を示す。図６（ａ）はガラス基板の平面
図であり、図６（ｂ）は同側面図である。図６に示すよ
うに、ガラス基板は、約５００ｍｍ×６００ｍｍ程度の
長方形形状を有し、厚さが８ｍｍ程度で重量が５〜１０
Ｋｇ程度である。このように近年用いられるマスクは大
きく、かつ重くなってきている。また、それに伴ってマ
スクの製造コストも高くなってきている。
【０００４】通常マスクは、専用のマスクケースに収納
されて保管されており、使用の際には、マスク搬送系に
よりマスクケースからマスクを取り出して搬送し、走査
型露光装置のマスクテーブルに載置される。マスク搬送
系での搬送、およびマスクテーブルへの載置は、マスク
のパターン形成領域外のマスク周辺部の数ヶ所を真空吸
着して行われる。
されて保管されており、使用の際には、マスク搬送系に
よりマスクケースからマスクを取り出して搬送し、走査
型露光装置のマスクテーブルに載置される。マスク搬送
系での搬送、およびマスクテーブルへの載置は、マスク
のパターン形成領域外のマスク周辺部の数ヶ所を真空吸
着して行われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、近年のよう
にマスクのガラス基板が大型化して重くなってくると、
真空吸着が十分でない場合には、マスク搬送系での搬送
中の加減速時、あるいは走査露光におけるマスクテーブ
ルの移動中の加減速時に、マスクが慣性により搬送系や
マスクテーブルの所定位置からずれてしまうことがあ
る。マスク搬送系での搬送の際にマスクがずれてしまう
と、マスク搬送系からマスクテーブルにマスクを受け渡
す際に、マスクテーブルのマスク載置領域周囲の部材と
マスク端部が衝突してしまう。また、マスクテーブルに
載置されたマスクが走査移動の際にずれてしまう場合
も、マスクテーブルのマスク載置領域周囲の壁面とマス
ク端部が衝突してしまう。
にマスクのガラス基板が大型化して重くなってくると、
真空吸着が十分でない場合には、マスク搬送系での搬送
中の加減速時、あるいは走査露光におけるマスクテーブ
ルの移動中の加減速時に、マスクが慣性により搬送系や
マスクテーブルの所定位置からずれてしまうことがあ
る。マスク搬送系での搬送の際にマスクがずれてしまう
と、マスク搬送系からマスクテーブルにマスクを受け渡
す際に、マスクテーブルのマスク載置領域周囲の部材と
マスク端部が衝突してしまう。また、マスクテーブルに
載置されたマスクが走査移動の際にずれてしまう場合
も、マスクテーブルのマスク載置領域周囲の壁面とマス
ク端部が衝突してしまう。
【０００６】このような衝突によりマスク端部が衝撃を
受けると、マスク端部には大きな集中応力が発生して、
衝突を受けた部位が破損することがある。今後ますます
大型マスクへの移行が進むことが考えられ、マスク端部
の破損事故も増大する可能性がある。
受けると、マスク端部には大きな集中応力が発生して、
衝突を受けた部位が破損することがある。今後ますます
大型マスクへの移行が進むことが考えられ、マスク端部
の破損事故も増大する可能性がある。
【０００７】図６に示した従来のマスクは、マスク端面
の欠け等の発生を防止するために、ガラス基板のエッジ
部に面取り５０を形成する加工を施している。しかし、
上述のような大型化したガラス基板が受けるような衝撃
に対しては、面取り５０だけで端部の破損を十分防止で
きるとはいえない。
の欠け等の発生を防止するために、ガラス基板のエッジ
部に面取り５０を形成する加工を施している。しかし、
上述のような大型化したガラス基板が受けるような衝撃
に対しては、面取り５０だけで端部の破損を十分防止で
きるとはいえない。
【０００８】本発明の目的は、マスク端部が衝撃を受け
ても破損しにくいマスクを提供することにある。また、
本発明の目的は、マスク端部が衝突してもマスク端部を
破損させにくい露光装置を提供することにある。
ても破損しにくいマスクを提供することにある。また、
本発明の目的は、マスク端部が衝突してもマスク端部を
破損させにくい露光装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の実施の形態を表
す図１乃至図５に対応付けて説明すると上記目的は、表
面にパターンが形成されたマスク（１）において、マス
ク（１）の側面部の少なくとも一部にマスク（１）の破
損を防止する保護部材（２、８）を設けたことを特徴と
するマスク（１）によって達成される。本発明のマスク
（１）において、マスク（１）はほぼ矩形状の形状であ
り、保護部材（２）は側面部の角部に設けられているこ
とを特徴とする。また、本発明のマスク（１）におい
て、保護部材（８）は側面部に沿って帯状に設けられて
いることを特徴とする。また、保護部材（２、８）はマ
スク（１）から取り外し可能であることを特徴とする。
す図１乃至図５に対応付けて説明すると上記目的は、表
面にパターンが形成されたマスク（１）において、マス
ク（１）の側面部の少なくとも一部にマスク（１）の破
損を防止する保護部材（２、８）を設けたことを特徴と
するマスク（１）によって達成される。本発明のマスク
（１）において、マスク（１）はほぼ矩形状の形状であ
り、保護部材（２）は側面部の角部に設けられているこ
とを特徴とする。また、本発明のマスク（１）におい
て、保護部材（８）は側面部に沿って帯状に設けられて
いることを特徴とする。また、保護部材（２、８）はマ
スク（１）から取り外し可能であることを特徴とする。
【００１０】また、上記目的は、パターンが形成された
マスク（１）を保持するマスクテーブル（２４）を有
し、パターンの像を感光基板（２２）上に露光する露光
装置であって、マスクテーブル（２４）は、マスク
（１）側面と対向する位置にマスク破損防止用の保護部
材（９）を設けていることを特徴とする露光装置によっ
て達成される。
マスク（１）を保持するマスクテーブル（２４）を有
し、パターンの像を感光基板（２２）上に露光する露光
装置であって、マスクテーブル（２４）は、マスク
（１）側面と対向する位置にマスク破損防止用の保護部
材（９）を設けていることを特徴とする露光装置によっ
て達成される。
【００１１】本発明のマスクによれば、マスク側面ある
いは角部に保護部材が設けられているので、マスクを搬
送、載置する際にマスク端部が衝撃を受けても容易に破
損することはない。また本発明の露光装置によれば、マ
スク側面が接触しうる位置に保護部材を設けているの
で、マスクを搬送、載置する際にマスク端部が接触して
も、衝撃を緩和して容易に破損させないようにすること
ができる。
いは角部に保護部材が設けられているので、マスクを搬
送、載置する際にマスク端部が衝撃を受けても容易に破
損することはない。また本発明の露光装置によれば、マ
スク側面が接触しうる位置に保護部材を設けているの
で、マスクを搬送、載置する際にマスク端部が接触して
も、衝撃を緩和して容易に破損させないようにすること
ができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態による
マスクを図１乃至図３を用いて説明する。まず、本実施
の形態によるマスクの構成を図１を用いて説明する。図
１（ａ）は本実施の形態によるマスクの平面図であり、
図１（ｂ）、（ｃ）は、マスクの角部に取り付けた保護
部材を示す図である。図１（ａ）に示すように本実施の
形態によるマスク１は、その四隅の角部に保護部材２が
取り付けられている。保護部材２の材質は、例えばシリ
コンゴムやテフロンなどの合成樹脂を用いた弾性材料で
ある。
マスクを図１乃至図３を用いて説明する。まず、本実施
の形態によるマスクの構成を図１を用いて説明する。図
１（ａ）は本実施の形態によるマスクの平面図であり、
図１（ｂ）、（ｃ）は、マスクの角部に取り付けた保護
部材を示す図である。図１（ａ）に示すように本実施の
形態によるマスク１は、その四隅の角部に保護部材２が
取り付けられている。保護部材２の材質は、例えばシリ
コンゴムやテフロンなどの合成樹脂を用いた弾性材料で
ある。
【００１３】図１（ｂ）、（ｃ）に示すように、保護部
材２はマスク１の角部形状に倣うように形成された凹部
を有し、凹部をマスク１の角部にはめ込むようにして取
り付ける。マスク１のガラス基板の厚さｔMは例えば８
ｍｍであり、保護部材２の内幅ｔBは、ガラス基板の厚
さｔMより若干狭く形成されているので、保護部材２を
マスク１の角部に取り付けたらその弾力性により容易に
脱落しないようになっている。保護部材２外表面も、マ
スク１の角部形状にほぼ倣った形状であり、保護部材２
の外表面の高さはガラス基板側面より所定幅だけ高くな
っている。
材２はマスク１の角部形状に倣うように形成された凹部
を有し、凹部をマスク１の角部にはめ込むようにして取
り付ける。マスク１のガラス基板の厚さｔMは例えば８
ｍｍであり、保護部材２の内幅ｔBは、ガラス基板の厚
さｔMより若干狭く形成されているので、保護部材２を
マスク１の角部に取り付けたらその弾力性により容易に
脱落しないようになっている。保護部材２外表面も、マ
スク１の角部形状にほぼ倣った形状であり、保護部材２
の外表面の高さはガラス基板側面より所定幅だけ高くな
っている。
【００１４】マスク１は保護部材２が取り付けられた状
態でマスクケース内に保管され、またマスク１を使用す
る際には保護部材２が取り付けられたまま、搬送系によ
り搬送されて露光装置のマスクテーブルに載置される。
従って、搬送の途中や、マスクテーブルへの載置の際、
あるいはマスクテーブルの移動の際にマスク１がずれ
て、マスク１の角部が他の部材に衝突するようなことが
あっても、この保護部材２により衝撃を吸収することが
できるのでマスク１を破損することがない。
態でマスクケース内に保管され、またマスク１を使用す
る際には保護部材２が取り付けられたまま、搬送系によ
り搬送されて露光装置のマスクテーブルに載置される。
従って、搬送の途中や、マスクテーブルへの載置の際、
あるいはマスクテーブルの移動の際にマスク１がずれ
て、マスク１の角部が他の部材に衝突するようなことが
あっても、この保護部材２により衝撃を吸収することが
できるのでマスク１を破損することがない。
【００１５】次に、図２（ａ）は、四隅角部に保護部材
２が取り付けられたマスク１をマスクケース４に収納し
た状態を示している。マスク１はマスクケース４内の４
個の支持部材６により支持されている。本実施の形態で
は、マスク１の四隅角部にのみ保護部材２を取り付けて
いるので、マスク１を周囲下方から支持する支持部材６
に保護部材２が当たって干渉し合うことはない。また、
図２（ｂ）、（ｃ）に示すように、マスク１を収納した
マスクケース４を移動させる際に、振動や衝撃がマスク
ケース４に加えられ、ケース内に収納されたマスク１が
移動したとしても、マスク１は保護部材２により直接マ
スクケース４の側壁に衝突することはなく、保護部材２
により衝撃が緩和されるのでマスク１のガラス基板の角
部や周辺端部を破損させることがない。
２が取り付けられたマスク１をマスクケース４に収納し
た状態を示している。マスク１はマスクケース４内の４
個の支持部材６により支持されている。本実施の形態で
は、マスク１の四隅角部にのみ保護部材２を取り付けて
いるので、マスク１を周囲下方から支持する支持部材６
に保護部材２が当たって干渉し合うことはない。また、
図２（ｂ）、（ｃ）に示すように、マスク１を収納した
マスクケース４を移動させる際に、振動や衝撃がマスク
ケース４に加えられ、ケース内に収納されたマスク１が
移動したとしても、マスク１は保護部材２により直接マ
スクケース４の側壁に衝突することはなく、保護部材２
により衝撃が緩和されるのでマスク１のガラス基板の角
部や周辺端部を破損させることがない。
【００１６】保護部材２はマスク１のガラス基板角部に
接着剤などにより固定してもよく、また着脱可能に取り
付けてもよい。着脱可能に保護部材２を取り付けると、
マスクの洗浄工程で保護部材２を取り外して、酸やアル
カリ系の洗浄液でマスク１を容易に洗浄できるようにな
る。なお、中性または中性に近い洗浄液の場合は、保護
部材２を取り付けたまま洗浄することができる。
接着剤などにより固定してもよく、また着脱可能に取り
付けてもよい。着脱可能に保護部材２を取り付けると、
マスクの洗浄工程で保護部材２を取り外して、酸やアル
カリ系の洗浄液でマスク１を容易に洗浄できるようにな
る。なお、中性または中性に近い洗浄液の場合は、保護
部材２を取り付けたまま洗浄することができる。
【００１７】また、保護部材２をマスクケースやマスク
搬送系に取り付けることも可能であるが、本実施の形態
のように保護部材２をマスク１自体に取り付けるように
すると、マスク１をマスクケース４に収納する段階から
マスクケース４と共に露光装置にセットする段階、マス
ク搬送系によりマスクケース４からマスク１を取り出し
て搬送する段階、マスク１をマスクテーブルに載置する
段階、そしてマスクテーブルを走査して露光する段階の
全てにおいてマスク１を衝撃から保護してマスク１の破
損を防止することができる。このように本実施の形態に
よれば、極めて簡単な構造で高価なマスクを衝撃から保
護することができる。
搬送系に取り付けることも可能であるが、本実施の形態
のように保護部材２をマスク１自体に取り付けるように
すると、マスク１をマスクケース４に収納する段階から
マスクケース４と共に露光装置にセットする段階、マス
ク搬送系によりマスクケース４からマスク１を取り出し
て搬送する段階、マスク１をマスクテーブルに載置する
段階、そしてマスクテーブルを走査して露光する段階の
全てにおいてマスク１を衝撃から保護してマスク１の破
損を防止することができる。このように本実施の形態に
よれば、極めて簡単な構造で高価なマスクを衝撃から保
護することができる。
【００１８】次に、図３を用いて本実施の形態によるマ
スク１が走査型露光装置のマスクテーブルに載置された
露光段階の様子を説明する。図３（ａ）は、等倍で正立
正像を投影する投影光学系２０を有する走査型露光装置
の主要部を示す図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）に
示す走査型露光装置をマスク１の搬入、搬出方向から見
た図である。図３（ａ）、（ｂ）において、図示しない
照明光学系からの照明光で照明されたマスク１のパター
ン像は、所定の結像特性を有する投影光学系２０を介し
て、等倍かつ正立正像で感光基板としてのガラスプレー
ト２２上に転写される。マスク１はパターン面１４側の
周辺部を６個の支持部材１６により真空吸着されてマス
クテーブル２４の基準ピン３４上方に固定される。マス
クテーブル２４はコの字状のキャリッジ２６の一方の側
面に取り付けられている。マスクテーブル２４のマスク
載置面に対向するキャリッジ２６の他方の側面にはプレ
ート２２が載置されている。
スク１が走査型露光装置のマスクテーブルに載置された
露光段階の様子を説明する。図３（ａ）は、等倍で正立
正像を投影する投影光学系２０を有する走査型露光装置
の主要部を示す図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）に
示す走査型露光装置をマスク１の搬入、搬出方向から見
た図である。図３（ａ）、（ｂ）において、図示しない
照明光学系からの照明光で照明されたマスク１のパター
ン像は、所定の結像特性を有する投影光学系２０を介し
て、等倍かつ正立正像で感光基板としてのガラスプレー
ト２２上に転写される。マスク１はパターン面１４側の
周辺部を６個の支持部材１６により真空吸着されてマス
クテーブル２４の基準ピン３４上方に固定される。マス
クテーブル２４はコの字状のキャリッジ２６の一方の側
面に取り付けられている。マスクテーブル２４のマスク
載置面に対向するキャリッジ２６の他方の側面にはプレ
ート２２が載置されている。
【００１９】キャリッジ２６は図示しない駆動機構によ
り駆動され、図示しない照明光学系および投影光学系２
０に対して相対的にＸ方向に移動できるようになってお
り、このキャリッジ２６の移動と共にマスク１とプレー
ト２２とが投影光学系２０に対して同期して走査するよ
うになっている。
り駆動され、図示しない照明光学系および投影光学系２
０に対して相対的にＸ方向に移動できるようになってお
り、このキャリッジ２６の移動と共にマスク１とプレー
ト２２とが投影光学系２０に対して同期して走査するよ
うになっている。
【００２０】露光の際にはキャリッジ２６を投影光学系
２０に対しＸ方向に走査させることにより、マスク１に
描画された所望の回路パターンの像が順次プレート２２
上に投影露光される。この走査露光の際、不測の事態に
よりマスク支持部材１６での真空吸着が解除されると、
マスクテーブル２４の加減速によりマスク１は図３
（ｃ）に示すようにマスクテーブル２４の側壁に衝突す
る。ところが、本実施の形態によるマスク１の角部に取
り付けられた保護部材２により衝突の衝撃は緩和されて
マスク１の破損を回避することができる。
２０に対しＸ方向に走査させることにより、マスク１に
描画された所望の回路パターンの像が順次プレート２２
上に投影露光される。この走査露光の際、不測の事態に
よりマスク支持部材１６での真空吸着が解除されると、
マスクテーブル２４の加減速によりマスク１は図３
（ｃ）に示すようにマスクテーブル２４の側壁に衝突す
る。ところが、本実施の形態によるマスク１の角部に取
り付けられた保護部材２により衝突の衝撃は緩和されて
マスク１の破損を回避することができる。
【００２１】次に、本発明の第２の実施の形態によるマ
スクを図４を用いて説明する。図４（ａ）は、本実施の
形態によるマスク１の平面図であり、図４（ｂ）はマス
ク１の角部近傍の斜視図であり、図４（ｃ）は、図４
（ｂ）に示すＡ−Ａ線で切断したマスク１の部分断面図
である。図４（ａ）、（ｂ）に示すように、本実施の形
態によるマスク１は、マスク１の側面全周にバンド状の
保護部材８を掛け渡した点に特徴を有している。バンド
状の保護部材８のバンドの幅は、マスク１のガラス基板
の板厚よりやや小さく形成されている。図４（ｃ）に示
すように、ガラス基板の板厚が８ｍｍであり、ガラス基
板側面部に厚さ方向の長さが１ｍｍとなるテーパ１０が
全周に渡って形成されているので、保護部材８のバンド
の幅は６ｍｍとしている。こうすることにより、例えば
マスク保持部１２などにより、クロム（Ｃｒ）層をエッ
チングしてパターンが形成されたマスク面１４を真空吸
着するような際、保護部材８のバンド側部がマスク保持
部１２と干渉してしまうことがない。
スクを図４を用いて説明する。図４（ａ）は、本実施の
形態によるマスク１の平面図であり、図４（ｂ）はマス
ク１の角部近傍の斜視図であり、図４（ｃ）は、図４
（ｂ）に示すＡ−Ａ線で切断したマスク１の部分断面図
である。図４（ａ）、（ｂ）に示すように、本実施の形
態によるマスク１は、マスク１の側面全周にバンド状の
保護部材８を掛け渡した点に特徴を有している。バンド
状の保護部材８のバンドの幅は、マスク１のガラス基板
の板厚よりやや小さく形成されている。図４（ｃ）に示
すように、ガラス基板の板厚が８ｍｍであり、ガラス基
板側面部に厚さ方向の長さが１ｍｍとなるテーパ１０が
全周に渡って形成されているので、保護部材８のバンド
の幅は６ｍｍとしている。こうすることにより、例えば
マスク保持部１２などにより、クロム（Ｃｒ）層をエッ
チングしてパターンが形成されたマスク面１４を真空吸
着するような際、保護部材８のバンド側部がマスク保持
部１２と干渉してしまうことがない。
【００２２】本実施の形態による保護部材８も第１の実
施の形態で説明したのと同様にマスク１のガラス基板周
辺部に対して接着剤などで固定してもよく、また着脱可
能に取り付けてもよい。着脱可能に保護部材８を取り付
ける際にはガラス基板周囲の長さよりも、保護部材８の
バンドの長さを若干短めにして、保護部材８の弾力性に
より容易に脱落することなく着脱可能にすることができ
る。こうすることにより、マスクの洗浄工程で保護部材
８を取り外して、酸やアルカリ系の洗浄液でマスク１を
容易に洗浄できるようになる。また、中性または中性に
近い洗浄液の場合は、保護部材８を取り付けたまま洗浄
することができる。
施の形態で説明したのと同様にマスク１のガラス基板周
辺部に対して接着剤などで固定してもよく、また着脱可
能に取り付けてもよい。着脱可能に保護部材８を取り付
ける際にはガラス基板周囲の長さよりも、保護部材８の
バンドの長さを若干短めにして、保護部材８の弾力性に
より容易に脱落することなく着脱可能にすることができ
る。こうすることにより、マスクの洗浄工程で保護部材
８を取り外して、酸やアルカリ系の洗浄液でマスク１を
容易に洗浄できるようになる。また、中性または中性に
近い洗浄液の場合は、保護部材８を取り付けたまま洗浄
することができる。
【００２３】図３に示した走査型露光装置に本実施の形
態によるマスク１を載置して露光を行う際にマスク１の
ずれが生じてマスク１がマスクテーブル２４に衝突する
事態が生じても、保護部材８により衝撃を緩和して、マ
スク１を破損させないようにすることができる。
態によるマスク１を載置して露光を行う際にマスク１の
ずれが生じてマスク１がマスクテーブル２４に衝突する
事態が生じても、保護部材８により衝撃を緩和して、マ
スク１を破損させないようにすることができる。
【００２４】次に、本発明の第３の実施の形態による露
光装置を図５を用いて説明する。本実施の形態において
は、マスク１を衝撃から保護する保護部材をマスク１に
設ける代わりに、露光装置側に設けた点に特徴を有して
いる。図５（ａ）は、等倍で正立正像を投影する投影光
学系２０を有する走査型露光装置の主要部を示す図であ
る。図５（ｂ）は、図５（ａ）に示す走査型露光装置を
マスク１の搬入、搬出方向から見た図である。図５
（ａ）、（ｂ）において、図示しない照明光学系は、所
定の照明領域でマスク１の一部領域をほぼ均一な照度で
照明するようになっている。照明光学系は、例えばｇ
線、ｈ線等の照明光を射出する超高圧氷銀ランプ等から
なる光源及び、光源からの照明光が通過するフライアイ
レンズ、視野絞り、コンデンサーレンズ等から構成され
る光学系を有している。
光装置を図５を用いて説明する。本実施の形態において
は、マスク１を衝撃から保護する保護部材をマスク１に
設ける代わりに、露光装置側に設けた点に特徴を有して
いる。図５（ａ）は、等倍で正立正像を投影する投影光
学系２０を有する走査型露光装置の主要部を示す図であ
る。図５（ｂ）は、図５（ａ）に示す走査型露光装置を
マスク１の搬入、搬出方向から見た図である。図５
（ａ）、（ｂ）において、図示しない照明光学系は、所
定の照明領域でマスク１の一部領域をほぼ均一な照度で
照明するようになっている。照明光学系は、例えばｇ
線、ｈ線等の照明光を射出する超高圧氷銀ランプ等から
なる光源及び、光源からの照明光が通過するフライアイ
レンズ、視野絞り、コンデンサーレンズ等から構成され
る光学系を有している。
【００２５】照明されたマスク１のパターン像は、所定
の結像特性を有する投影光学系２０を介して、等倍かつ
正立正像で感光基板としてのガラスプレート２２上に転
写されるようになっている。マスク１はパターン面１４
側の周辺部を６個の支持部材１６により真空吸着されて
マスクテーブル２４の基準ピン３４上方に固定され、マ
スクテーブル２４はコの字状のキャリッジ２６の一方の
側面に取り付けられている。また、マスクテーブル２４
は図示しない微動アクチュエータにより、キャリッジ２
６に対してＸ方向（図中紙面に垂直な方向）、Ｙ方向
（図中紙面の上下方向）、及びＸ−Ｙ面内での回転方向
に微動することができるようになっている。そして、マ
スクテーブル２４のＹ方向に延びる２つの側壁部のマス
ク１端部と対向する内面側に、マスク１を保護する保護
部材９が設けられている。この保護部材９の材質は、第
１の実施の形態による保護部材２と同一である。
の結像特性を有する投影光学系２０を介して、等倍かつ
正立正像で感光基板としてのガラスプレート２２上に転
写されるようになっている。マスク１はパターン面１４
側の周辺部を６個の支持部材１６により真空吸着されて
マスクテーブル２４の基準ピン３４上方に固定され、マ
スクテーブル２４はコの字状のキャリッジ２６の一方の
側面に取り付けられている。また、マスクテーブル２４
は図示しない微動アクチュエータにより、キャリッジ２
６に対してＸ方向（図中紙面に垂直な方向）、Ｙ方向
（図中紙面の上下方向）、及びＸ−Ｙ面内での回転方向
に微動することができるようになっている。そして、マ
スクテーブル２４のＹ方向に延びる２つの側壁部のマス
ク１端部と対向する内面側に、マスク１を保護する保護
部材９が設けられている。この保護部材９の材質は、第
１の実施の形態による保護部材２と同一である。
【００２６】マスクテーブル２４の載置面に対向するキ
ャリッジ２６の他方の側面にはプレート２２が載置され
ている。キャリッジ２６は図示しない駆動機構により駆
動され、図示しない照明光学系および投影光学系２０に
対して相対的にＸ方向に移動できるようになっており、
このキャリッジ２６の移動と共にマスク１とプレート２
２とが投影光学系２０に対して同期して走査するように
なっている。
ャリッジ２６の他方の側面にはプレート２２が載置され
ている。キャリッジ２６は図示しない駆動機構により駆
動され、図示しない照明光学系および投影光学系２０に
対して相対的にＸ方向に移動できるようになっており、
このキャリッジ２６の移動と共にマスク１とプレート２
２とが投影光学系２０に対して同期して走査するように
なっている。
【００２７】キャリッジ２６のＸ方向の端面には、図示
しない移動鏡が固定され、この移動鏡にレーザ干渉計
（図示せず）からのレーザ光を反射させて、キャリッジ
２６のＸ方向の移動量が高分解能で計測されるようにな
っている。このレーザ干渉計からの位置情報に基づい
て、キャリッジ２６は正確に位置決めされるようになっ
ている。
しない移動鏡が固定され、この移動鏡にレーザ干渉計
（図示せず）からのレーザ光を反射させて、キャリッジ
２６のＸ方向の移動量が高分解能で計測されるようにな
っている。このレーザ干渉計からの位置情報に基づい
て、キャリッジ２６は正確に位置決めされるようになっ
ている。
【００２８】露光の際にはキャリッジ２６を投影光学系
２０に対しＸ方向に走査させることにより、マスク１に
描画された所望の回路パターンの像が順次プレート２２
上に投影露光される。この走査露光の際、不測の事態に
よりマスク支持部材１６での真空吸着が解除されると、
マスクテーブル２４の加減速によりマスク１は図５
（ｃ）に示すようにマスクテーブル２４の側壁に衝突す
る。ところが、本実施の形態による露光装置のマスクテ
ーブル２４の側壁部は、マスク１端部と対向する内面側
に保護部材９が設けられているので、マスク１端部は直
接マスクテーブル２４の側壁に衝突せずに保護部材９に
接触する。この保護部材９により衝突の衝撃は緩和され
てマスク１の破損を回避することができる。
２０に対しＸ方向に走査させることにより、マスク１に
描画された所望の回路パターンの像が順次プレート２２
上に投影露光される。この走査露光の際、不測の事態に
よりマスク支持部材１６での真空吸着が解除されると、
マスクテーブル２４の加減速によりマスク１は図５
（ｃ）に示すようにマスクテーブル２４の側壁に衝突す
る。ところが、本実施の形態による露光装置のマスクテ
ーブル２４の側壁部は、マスク１端部と対向する内面側
に保護部材９が設けられているので、マスク１端部は直
接マスクテーブル２４の側壁に衝突せずに保護部材９に
接触する。この保護部材９により衝突の衝撃は緩和され
てマスク１の破損を回避することができる。
【００２９】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の
変形が可能である。例えば、上記実施の形態において
は、液晶表示装置を製造するためのマスクおよび走査型
露光装置を用いて本発明を説明したが、本発明はこれに
限られず、半導体装置を製造するためのマスクにも適用
することができ、また、露光装置においては、いわゆる
ステップ・アンド・リピート方式、あるいはステップ・
アンド・スキャン方式の露光装置にも本発明を適用する
ことはもちろん可能である。更に、電子線やＸ線を光源
とする荷電粒子線露光装置に適用することも可能であ
る。また、本実施の形態においては、保護部材２の弾性
を用いて保護部材２をマスク１１に取り付けたが、例え
ば接着剤により保護部材２をマスク１１に取り付けても
構わない。この場合は、保護部材２の内幅ｔＢはガラス
基板の厚さｔＭよりも広く形成することができる。
変形が可能である。例えば、上記実施の形態において
は、液晶表示装置を製造するためのマスクおよび走査型
露光装置を用いて本発明を説明したが、本発明はこれに
限られず、半導体装置を製造するためのマスクにも適用
することができ、また、露光装置においては、いわゆる
ステップ・アンド・リピート方式、あるいはステップ・
アンド・スキャン方式の露光装置にも本発明を適用する
ことはもちろん可能である。更に、電子線やＸ線を光源
とする荷電粒子線露光装置に適用することも可能であ
る。また、本実施の形態においては、保護部材２の弾性
を用いて保護部材２をマスク１１に取り付けたが、例え
ば接着剤により保護部材２をマスク１１に取り付けても
構わない。この場合は、保護部材２の内幅ｔＢはガラス
基板の厚さｔＭよりも広く形成することができる。
【００３０】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、マスク側
面が接触しうる位置に保護部材を設けているので、マス
クを搬送、載置する際にマスク端部が接触しても、衝撃
を緩和して容易に破損させないようにすることができ
る。
面が接触しうる位置に保護部材を設けているので、マス
クを搬送、載置する際にマスク端部が接触しても、衝撃
を緩和して容易に破損させないようにすることができ
る。
【図１】本発明の第１の実施の形態によるマスクを示す
図である。
図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態によるマスクを示す
図である。
図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態によるマスクの保護
動作を説明する図である。
動作を説明する図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態によるマスクを示す
図である。
図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態による露光装置の概
略を示す図である。
略を示す図である。
【図６】従来のマスクに用いられているガラス基板を示
す図である。
す図である。
１ マスク ２ 保護部材 ４ マスクケース ６ 支持部材 ８、９ 保護部材 １０ テーパ １２ マスク保持部 １４ マスク面 １６ 支持部材 ２０ 投影光学系 ２２ ガラスプレート ２４ マスクテーブル ２６ キャリッジ ３４ 基準ピン ５０ 面取り
Claims (5)
- 【請求項１】表面にパターンが形成されたマスクにおい
て、 前記マスクの側面部の少なくとも一部に前記マスクの破
損を防止する保護部材を設けたことを特徴とするマス
ク。 - 【請求項２】請求項１記載のマスクにおいて、 前記マスクはほぼ矩形状の形状であり、前記保護部材は
前記側面部の角部に設けられていることを特徴とするマ
スク。 - 【請求項３】請求項１記載のマスクにおいて、 前記保護部材は前記側面部に沿って帯状に設けられてい
ることを特徴とするマスク。 - 【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載のマスク
において、 前記保護部材は前記マスクから取り外し可能であること
を特徴とするマスク。 - 【請求項５】パターンが形成されたマスクを保持するマ
スクテーブルを有し、前記パターンの像を感光基板上に
露光する露光装置であって、 前記マスクテーブルは、前記マスク側面と対向する位置
にマスク破損防止用の保護部材を設けていることを特徴
とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26937197A JPH1195411A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | マスクおよび露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26937197A JPH1195411A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | マスクおよび露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1195411A true JPH1195411A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17471473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26937197A Withdrawn JPH1195411A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | マスクおよび露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1195411A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010061334A (ko) * | 1999-12-28 | 2001-07-07 | 윤종용 | 포토리소그래피 공정에서 사용되는 레티클 |
| JP2013088793A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体用ガラス基板及びその製造方法 |
| CN104980099A (zh) * | 2015-07-09 | 2015-10-14 | 常熟市华能水处理设备有限责任公司 | 无框架太阳能光伏电池组件的护角结构 |
| JP2018060989A (ja) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | 日本特殊陶業株式会社 | 枠体部材、発光装置、およびこれらの製造方法 |
-
1997
- 1997-09-16 JP JP26937197A patent/JPH1195411A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010061334A (ko) * | 1999-12-28 | 2001-07-07 | 윤종용 | 포토리소그래피 공정에서 사용되는 레티클 |
| JP2013088793A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体用ガラス基板及びその製造方法 |
| US9205528B2 (en) | 2011-10-24 | 2015-12-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Electronic grade glass substrate and making method |
| US9902037B2 (en) | 2011-10-24 | 2018-02-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Electronic grade glass substrate and making method |
| CN104980099A (zh) * | 2015-07-09 | 2015-10-14 | 常熟市华能水处理设备有限责任公司 | 无框架太阳能光伏电池组件的护角结构 |
| JP2018060989A (ja) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | 日本特殊陶業株式会社 | 枠体部材、発光装置、およびこれらの製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |