JPH09148219A

JPH09148219A - 基板アダプタ

Info

Publication number: JPH09148219A
Application number: JP30240295A
Authority: JP
Inventors: Takashi Masuyuki; 崇舛行
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1995-11-21
Filing date: 1995-11-21
Publication date: 1997-06-06

Abstract

(57)【要約】【課題】露光装置等において、ウエハに直接接触する
ことなくウエハをウエハホルダ上に位置決めすると共
に、ウエハ搬送装置やウエハホルダの改造又は交換なし
にサイズの異なるウエハを処理する。【解決手段】ウエハ１Ａの外縁部と密着する内縁部を
有するリング状のウエハアダプタ１７をウエハ１Ａと共
にウエハホルダ２Ａ上に配置する。ウエハアダプタ１７
の外径は、ウエハアダプタ１７の外縁部がウエハホルダ
２Ａ上の位置決め駒と接触する大きさで形成されてお
り、ウエハホルダ２Ａ上で位置決め用のハンマーでウエ
ハアダプタ１７の外縁部の一部を叩くことにより、ウエ
ハアダプタ１７の外縁部を位置決め駒に押しつけて、ウ
エハ１Ａの位置決めを行う。また、サイズの異なるウエ
ハを処理する場合には、ウエハアダプタの内径を変える
ことにより対応する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素
子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、又は薄膜磁
気ヘッド等を製造するためのフォトリソグラフィ工程で
マスク上のパターンを感光性の基板上に投影するための
露光装置において、感光性の基板を搬送する際、又はそ
の基板をウエハホルダ等の上で吸着保持する際のアダプ
タとして使用して好適な基板アダプタに関し、特にフォ
トレジスト等の飛散を嫌う場合、又はサイズの異なる基
板を処理する場合に使用して好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば半導体素子等を製造するた
めのフォトリソグラフィ工程では、マスクとしてのレチ
クル上のパターンを感光基板としてのフォトレジストが
塗布されたウエハ（又はガラスプレート等）上に転写す
るステッパー等の露光装置が使用されている。斯かる露
光装置においては、ウエハはウエハホルダ上に真空吸着
によって保持され、ウエハホルダはウエハの各ショット
領域を順次例えばステップ・アンド・リピート方式で露
光位置に位置決めするためのウエハステージ上に固定さ
れている。

【０００３】図４は、従来のウエハステージの上部の構
成を示し、この図４において、フォトレジストが塗布さ
れたウエハ１は、円板状のウエハホルダ２の表面に例え
ば同心円状に形成された複数の凸部（図４では凸部３Ａ
のみが現れている）上に真空吸着により保持され、ウエ
ハホルダ２はＺステージ４の表面に固定され、Ｚステー
ジ４はＹステージ５上に不図示のガイドに沿って摺動自
在に載置されている。ウエハホルダ２の表面の凸部には
不図示であるがそれぞれ溝が形成されており、その溝の
底部には真空吸着用の排気孔が形成されている。即ち、
それらの凸部の上面はバキュームチャック（真空吸着
部）となっている。

【０００４】Ｚステージ４とＹステージ５との接触部は
斜めに形成され、Ｚステージ４をＹステージ５に対して
Ｘ方向に摺動させることにより、Ｚステージ４の表面の
高さ（Ｚ方向の位置）が変化するようになっている。更
に、Ｙステージ５は不図示のＸステージ上にＹ方向に移
動自在に載置され、Ｘステージ及びＹステージ５を駆動
することにより、Ｚステージ４をＸ方向及びＹ方向に位
置決めできるようになっている。なお、不図示である
が、Ｚステージ４内にはウエハ１の傾斜角を調整するた
めのレベリングテーブル等も備えられており、Ｚステー
ジ４、Ｙステージ５、及びＸステージからウエハステー
ジが構成されている。

【０００５】また、Ｚステージ４上の端部にはＸ軸用の
移動鏡１０Ｘ、及びＹ軸用の移動鏡１０Ｙが固定され、
外部のレーザ干渉計１１Ｘから移動鏡１０Ｘに計測用の
１本のレーザビームが供給され、レーザ干渉計１１Ｙか
ら移動鏡１０Ｙに２本のレーザビームが供給されてい
る。そして、レーザ干渉計１１Ｘによる計測値、及びレ
ーザ干渉計１１Ｙによる２つの計測値の平均値がそれぞ
れＺステージ４の２次元座標（Ｘ，Ｙ）となり、レーザ
干渉計１１Ｙによる２つの計測値の差分より、Ｚステー
ジ４の回転角が求められる。

【０００６】露光に際し、不図示のウエハローダにより
ウエハステージ上のウエハホルダ２上にロードされたウ
エハ１は、粗い位置決めの後、既にレチクルアライメン
トの終了したレチクルとの精密なアライメント（位置合
わせ）が行われる。そして、ウエハ１の各ショット領域
に順次レチクル上のパターンが露光されるという工程を
繰り返すことによって、１枚のウエハ１に対する露光工
程が終了すると、ウエハ１はウエハホルダ２からアンロ
ードされ、次のウエハがウエハローダによりウエハホル
ダ２上にロードされる。

【０００７】この場合、ウエハ１はウエハホルダ２にロ
ードされた後、ウエハホルダ２上に真空吸着により固定
されるが、ウエハホルダ２の近傍には、ウエハ１をウエ
ハホルダ２上の所定位置に位置決めするための機構が設
置されている。図５は、図４のウエハステージ上のウエ
ハホルダ２の平面図を示し、この図５において、ウエハ
ホルダ２の中心から伸びる＋Ｘ方向及び−Ｙ方向の端部
には、それぞれウエハ１を位置決めするための位置決め
駒１２Ａ，１２Ｂが設けられている。位置決め駒１２
Ａ，１２Ｂは、共にウエハ１に対向する面がウエハ１の
表面に垂直な状態で形成されており、それぞれウエハ１
の外周部と接触する。不図示のウエハローダによりウエ
ハホルダ２上にロードされたウエハ１の粗い位置決め
は、従来、ウエハホルダ２の位置決め駒１２Ａ，１２Ｂ
からほぼ等間隔の端部位置に設置されたハンマー１３で
ウエハ１の側面を直接叩き、ウエハ１の側面を位置決め
駒１２Ａ，１２Ｂに付勢するという方法により行われて
いた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、ウエハ１の側面を直接ハンマー１３で叩く
ため、ウエハ１に塗布されたフォトレジストが飛散する
等の現象が発生していた。図６は、図５のウエハホルダ
２の端部を示す拡大断面を示し、この図６に示すよう
に、ウエハ１の表面に塗布されたフォトレジスト１４が
側面に回り込んでいる場合、フォトレジスト１４が直接
ハンマー１３で矢印方向に叩かれることによりフォトレ
ジスト１４の一部１４ａが飛散して、ウエハホルダ２上
のバキュームチャック上、例えばバキュームチャック２
５上に回り込む場合もあった。凸部３Ａの溝部分で構成
されるバキュームチャック２５は、ウエハホルダ２内を
貫通する排気孔２６を介して溝部分の空気を排気するこ
とによりウエハ１を凸部３Ａの上部に吸着させるもので
あり、フォトレジスト等の異物がバキュームチャック２
５上に回り込んだ場合、真空度が低下すると共に、ウエ
ハ１自体の歪みが発生し、結果的にウエハ上のショット
領域に投影されるパターンが歪んで、チップの歩留りが
低下するという不都合があった。

【０００９】また、同じ露光装置でサイズの異なるウエ
ハを処理したい場合には、ウエハホルダ、ウエハローダ
等の交換又は改造等を必要とする不都合もあった。本発
明は斯かる点に鑑み、ウエハ等の基板側面から感光材料
等の異物が飛散しないように、基板に直接接触すること
なく基板の位置決めができ、且つサイズの異なるウエハ
等の基板を処理する場合でも、ウエハホルダ、及びウエ
ハローダ等の基板を保持及び運搬する装置の交換又は改
造を必要としない基板アダプタを提供することを目的と
する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明による基板アダプ
タは、マスクパターンが転写される基板（１Ａ）を吸着
保持するための基板ホルダ（２Ａ）に対してその基板
（１Ａ）を位置決めするためのリング状の枠（１７）よ
りなり、その基板ホルダ（２Ａ）上でそのリング状の枠
（１７）の内側にその基板（１Ａ）が収納されるもので
ある。斯かる本発明によれば、基板（１Ａ）の外側に位
置決めのためのリング状の枠からなる基板アダプタ（１
７）を設けるため、基板（１Ａ）に直接接触することな
く基板の位置決めが行われる。従って、例えば基板（１
Ａ）から異物が飛散する現象や基板（１Ａ）の損傷の発
生が抑えられ、基板（１Ａ）を歪みなく安定に基板ホル
ダ（２Ａ）上に保持できる。

【００１１】また、基板アダプタのリング状の枠の内径
を変えることによりサイズの異なる基板を基板アダプタ
の内側に収納することができる。従って、例えば基板の
搬送装置及び基板ホルダ等を改造又は交換することな
く、サイズの異なる基板を処理することができる。この
場合、そのリング状の枠（１７）の内縁部の少なくとも
一部にその基板（１Ａ）の内側に突き出たフランジ部
（２０）を設けることが好ましい。これにより、基板
（１Ａ）の搬送及び基板（１Ａ）の基板ホルダ（２Ａ）
に対するロード及びアンロードが容易になる。また、基
板（１Ａ）の内側に突き出たフランジ部（２０）を設け
ることにより、基板（１Ａ）と基板アダプタ（１７）と
の密着度が上がり、例えば、基板（１Ａ）を基板ホルダ
（２Ａ）上に真空吸着で固定するような場合には、基板
（１Ａ）と基板ホルダ（２Ａ）との接触部からの空気の
漏洩が減少し、真空度の低下が抑えられる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明による基板アダプタ
の実施の形態の一例につき図１〜図３を参照して説明す
る。本例は、マスクパターンをウエハ上のショット領域
に転写露光するための露光装置において、ウエハホルダ
上にウエハを固定するためのアダプタ（以下、「ウエハ
アダプタ」と呼ぶ）として本発明を適用したものであ
る。本例で使用されるウエハステージ上の基本的な構成
は図４の場合と同様である。

【００１３】図１（ａ）は、本例のウエハアダプタを適
用した場合のウエハホルダ上の構成を示す断面図であ
り、この図１（ａ）において、円板状のウエハホルダ２
Ａ上には水平にウエハを支持し、バキュームチャックを
構成する４個の同心円状の凸部１８ａ〜１８ｄ（凸部１
８ｄが中心）が設けられている。以下、ウエハホルダ２
Ａの上面に平行な平面（水平面）上で図１（ａ）の紙面
に平行にＸ軸、図１（ａ）の紙面に垂直にＹ軸を取り、
ＸＹ平面に垂直な方向にＺ軸を取って説明する。

【００１４】凸部１８ａ〜１８ｄは、ウエハホルダ２Ａ
の表面に同心円状に形成された溝を持ち、例えば最外周
の凸部１８ａは、ウエハホルダ２Ａの上面から垂直に突
き出た同じ高さをもち、所定の間隔で設けられた２つ
（ペア）の側壁１９ａ及び１９ｂで構成されている。ま
た、側壁１９ａ，１９ｂの間の溝はウエハ１Ａとの間で
密閉空間を構成するように形成されており、その溝の底
部にはその密閉空間から空気を排気するための排気孔１
６が設けられている。排気孔１６はウエハホルダ２Ａの
中央下部から矢印で示すように不図示の外部の真空系に
排気管を介して連絡しており、その外部の真空系により
密閉空間の真空度が制御されている。このような密閉空
間を構成する溝部分をバキュームチャック１５ａとして
示す。他の凸部１８ｂ〜１８ｄも同様な構成であり、凸
部１８ｂ〜１８ｄのそれぞれの溝がバキュームチャック
１５ｂ〜１５ｄを構成している。

【００１５】ウエハ１Ａは、ウエハホルダ２Ａ上のほぼ
中心部に位置するように配置されており、そのウエハ１
Ａの外周を囲むようにリング状のウエハアダプタ１７が
密着して配置されている。ウエハアダプタ１７の内縁部
には、ウエハ１Ａの裏面側に突き出たフランジ部２０が
形成されている。このフランジ部２０は、ウエハ１Ａを
安定的に固定するためと、後述するようにウエハ１Ａを
ウエハアダプタ１７と一体化して搬送する際の脱落防止
の役割を有する。即ち、ウエハローダでウエハ１Ａを搬
送する際には、ウエハアダプタ１７側を保持して移動す
ることによってウエハ１Ａも移動するため、ウエハのサ
イズが変わってもウエハローダを変更する必要がない。
また、前述のように、ウエハアダプタ１７の内縁部は、
ウエハ１Ａの外縁部との接触部からの漏洩によりバキュ
ームチャック１５ａ〜１５ｄによる真空度が低下しない
ように、ウエハ１Ａの外縁部と密着するように形成され
ているが、ウエハアダプタ１７にフランジ部２０を設け
ることにより、ウエハ１Ａとウエハアダプタ１７との接
触部での漏洩を防ぎ、真空度の低下を更に抑えることが
できる。このフランジ部２０は、本例ではウエハアダプ
タ１７の外縁部全体に設けられているが、ウエハ１Ａの
固定に必要な部分だけにフランジ部を設けてもよい。ま
た、ウエハホルダによっては同心円状の凸部１８ａ〜１
８ｄの代わりに、例えばＹ方向に伸びた直線状の凸部が
Ｘ方向に所定ピッチで配列されたタイプもあるが、この
ように凸部が直線状の場合にはフランジ部２０は凸部と
干渉しないように設けられる。

【００１６】また、ウエハアダプタ１７は、ウエハホル
ダ２Ａ上にロードされたときに、その表面がウエハ１Ａ
の表面とほぼ同じ高さになるように、フランジ部２０を
除きウエハ１Ａとほぼ同じ厚さで形成されている。但
し、このウエハアダプタ１７の厚さに制限はなく、他に
影響を及ぼさない範囲でウエハアダプタ１７の厚さを変
更することができる。なお、ウエハアダプタ１７のフラ
ンジ部２０の幅は、フランジ部２０がウエハホルダ２Ａ
の凸部１８ａ〜１８ｄと接触しないように設定されてい
る。また、ウエハアダプタ１７に使用される材質に特に
制限はないが、ウエハアダプタ１７の材質としては、ウ
エハ１Ａと同材質のもの、又はウエハ１Ａへの汚染及び
発塵の少ない金属、セラミックス、若しくは高分子材料
等が望ましい。

【００１７】なお、本例ではウエハアダプタ１７がウエ
ハホルダ２Ａ上にロードされた状態において、ウエハア
ダプタ１７のフランジ部２０はウエハ１Ａの裏面側を支
持するような形で配置されているが、図１（ｂ）のウエ
ハアダプタ１７Ｄに示すように、ウエハ１Ａの表面側に
ウエハアダプタのフランジ部２０Ｄが突き出るような形
で配置することもできる。この場合、ウエハアダプタ１
７Ｄは単にウエハアダプタ１７を裏返したものと同一で
ある。図１（ａ）の場合、ウエハ１Ａをウエハアダプタ
１７上に載せた状態となるため、ウエハ１Ａをウエハア
ダプタ１７と一体化してウエハホルダ２Ａ上にロードす
る場合、及びウエハホルダ２Ａ上からアンロードする場
合にウエハアダプタ１７側を保持すればよいので便利で
ある。また、ウエハ１Ａの表面側に付着した異物等がウ
エハホルダ２Ａ上に落下しない利点がある。一方、図１
（ｂ）の場合は、搬送時にはウエハ１Ａ側を支持する必
要があるが、ウエハ１Ａの外縁部をウエハアダプタ１７
Ｄにより押さえ込んだ状態となるため、ウエハ１Ａの外
縁部の反りが抑えられる効果がある。また、図１（ｂ）
のようにウエハ１Ａの表面側にフランジ部２０Ｄを設け
たタイプのウエハアダプタ１７Ｄであれば、フランジ部
２０Ｄはウエハホルダ２Ａの凸部と機械的に干渉する恐
れがないため、どのようなウエハホルダにも使用でき
る。

【００１８】なお、ウエハアダプタ１７は、ウエハをウ
エハ搬送系からウエハホルダ２Ａ上に搬送するためのウ
エハキャリアーにウエハ１Ａをセットする際にウエハ１
Ａと組み合わせることもできるし、又は露光装置内のウ
エハ搬送系内においてウエハ１Ａと１対１で組み合わせ
扱うことも可能である。次に、本例のウエハアダプタの
動作について主に図２及び図３を参照して説明する。

【００１９】図２（ａ）は、本例のウエハアダプタ１７
の動作を説明するための平面図を示し、この図２（ａ）
において、ウエハホルダ２Ａの中心から伸びる−Ｙ方向
及び＋Ｘ方向の端部上方には、ウエハ１Ａを位置決めす
ための位置決め駒２２Ａ，２２Ｂが設置されている。本
例のウエハアダプタ１７は、ウエハ１Ａと密着する形で
設置されている。リング状のウエハアダプタ１７の内径
及び外径は、ウエハアダプタ１７がウエハ１Ａと共にウ
エハホルダ２Ａ上に位置決めされたときに、その内縁部
がウエハ１Ａと密着し、その外縁部が位置決め駒２２
Ａ，２２Ｂと接する大きさで設計されている。ウエハ１
Ａの位置決めは、ウエハアダプタ１７の縁をハンマー１
３Ａで叩き、ウエハアダプタ１７を位置決め駒２２Ａ，
２２Ｂに付勢することにより行われる。

【００２０】本例の方法によれば、ハンマー１３Ａ及び
位置決め駒２２Ａ，２２Ｂがウエハ１Ａの側面と直接接
触することがないため、ウエハ１Ａの側面に付着したフ
ォトレジスト等の飛散による発塵を低減することができ
る。従って、飛散したフォトレジスト等の異物がウエハ
１Ａとウエハホルダ２Ａとの間に混入して、真空度を低
下させたりウエハ１Ａが変形する等の現象が抑えられ、
ウエハ１Ａを歪みなく高い平坦度でウエハホルダ２Ａ上
に吸着保持できる。従って、ウエハの各ショット領域に
高い解像度でレチクルのパターンが投影され、不良チッ
プの発生が減少して、チップの歩留りが向上する。

【００２１】更に、図１（ａ）より分かるように、本例
ではウエハ１Ａ及びウエハアダプタ１７によって全部の
バキュームチャック１５ａ〜１５ｄが覆われているた
め、これらのバキュームチャック１５ａ〜１５ｄを共通
の排気孔１６を介して排気でき、排気系の構成が簡略で
ある。これに対して、ウエハアダプタ１７がないときに
は、バキュームチャック１５ｃ及び１５ｄのみを動作さ
せるために排気系が複雑化する。

【００２２】また、本例のウエハアダプタはウエハのサ
イズに合わせて形成することができるため、各種のサイ
ズのウエハに対応することができる。図３は、同一のウ
エハホルダ２Ａ上で、サイズの異なるウエハを処理する
場合の例を示し、図３（ａ）は半径ｒ１の比較的小さな
サイズのウエハ１Ｂにウエハアダプタ１７Ａを適用した
例、図３（ｂ）は、図３（ａ）のウエハ１Ｂより大きな
サイズの半径ｒ２のウエハ１Ｃにウエハアダプタ１７Ｂ
を適用した例、及び図３（ｃ）は、更に大きなサイズの
半径ｒ３のウエハ１Ｄにウエハアダプタ１７Ｃを適用し
た例を示している。ウエハホルダ２Ａの大きさ及びバキ
ュームチャック１５ａ〜１５ｄの位置は一定であり、ま
た、位置決め駒２２Ａ，２２Ｂの位置も一定であるた
め、ウエハアダプタ１７Ａ〜ウエハアダプタ１７Ｃの外
側の半径は同一の半径Ｒとなり、それぞれの内径だけが
変化している。この場合、ウエハホルダ２Ａのサイズは
一定であるため、図３（ｃ）のウエハ１Ｄのサイズがウ
エハアダプタを適用できる場合の限界であり、ウエハ１
Ｄよりサイズの大きな図３（ｄ）に示す半径Ｒのウエハ
１Ｅの場合はウエハアダプタを適用することができな
い。但し、ウエハホルダの大きさを変更すれば、図３
（ｄ）のウエハ１Ｅの場合を含め更に大きなサイズのウ
エハにもウエハアダプタを適用することができる。この
ように、本例のウエハアダプタを使用することにより、
ウエハ搬送系やウエハホルダ等を改造又は変更すること
なく、サイズの異なるウエハを処理することが可能とな
る。

【００２３】なお、以上の例はウエハアダプタの内縁部
をほぼ円形に形成した例を示したが、ウエハアダプタの
内縁部の形をウエハの形に合わせて形成した例について
説明する。即ち、上述の実施の形態ではウエハ１Ａ〜１
Ｅは円形に表現されているが、実際には通常ウエハの外
周部には平坦な切り欠き部（オリエンテーションフラッ
ト）、又は三角形状の切り欠き部（ノッチ）が形成さ
れ、これらの切り欠き部が例えば粗い位置決めの目印と
して使用される。そこで、ウエハとの密着度を高めるた
めに、ウエハの切り欠きに対応させて変形させたウエハ
アダプタの例につき説明する。

【００２４】図２（ｂ）は、ウエハ１Ｆのオリエンテー
ションフラット２１に対応させてその内縁部及び外周部
を所定形状に形成したウエハアダプタ２７の平面図を示
し、この図２（ｂ）において、ウエハアダプタ２７の円
周状の内縁部の一部にオリエンテーションフラット２１
に対しても密着するように凸部２７ａが形成されてお
り、ウエハ１Ｆとウエハアダプタ２７とは全ての側面で
密着した状態になっている。更に、ウエハアダプタ２７
の外周部の一部に、凸部２７ａのエッジ部と平行になる
ように平坦な切り欠き部２７ｂが形成されている。この
切り欠き部２７ｂをオリエンテーションフラットとみな
して位置決め駒２２Ａに接触させることで、粗い位置決
めが行われる。このようなウエハ１Ｆのオリエンテーシ
ョンフラット２１に沿った形状を有するウエハアダプタ
２７を使用することにより、ウエハ１Ｆとウエハアダプ
タ２７との相対位置が一定に調整される。また、ウエハ
１Ｆがウエハアダプタ２７に対して安定するため、搬送
時の安定性がよくなる利点もある。

【００２５】なお、基板としては本例のウエハの他ガラ
ス等も同様に適用できる。また、本発明の基板アダプタ
は、露光装置のウエハのアダプタとしてばかりでなく、
ステージ上での位置決めが必要な各種基板のアダプタと
して同様に適用できる。このように、本発明は上述の実
施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で種々の構成を取り得る。

【００２６】

【発明の効果】本発明の基板アダプタによれば、基板に
直接接触することなく基板の位置決めができるため、基
板からの発塵等の弊害を低減することができる。従っ
て、基板ホルダのメンテナンス（清掃作業）の頻度が減
少し、作業効率の改善、装置稼働率が向上する利点があ
る。同時に、例えば飛散したフォトレジスト等の異物に
よる基板の歪みが減少し、チップの歩留りが向上する利
点がある。また、様々なサイズのウエハ等の基板にも基
板ホルダ及び基板搬送装置を改造又は交換することなく
容易に対応できるため、装置の運用及び導入に対しての
制約がなくなるという利点もある。

【００２７】また、リング状の枠の内縁部の少なくとも
一部に基板の内側に突き出たフランジ部を設ける場合に
は、基板の搬送及び基板の基板ホルダに対するロード及
びアンロードが容易になる。また、そのフランジ部によ
り基板と基板アダプタとの密着度が上がり、例えば、基
板を基板ホルダ上に真空吸着で固定するような場合に
は、基板と基板ホルダとの接触部からの空気の漏洩が減
少し、真空度の低下が抑えられる利点もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は、本発明の実施の形態の一例のウエハ
アダプタ等を示す拡大断面図、（ｂ）は、フランジ部を
ウエハの表面側に設けたウエハアダプタ等を示す拡大断
面図である。

【図２】（ａ）は、図１（ａ）のウエハアダプタ１７の
動作を説明するための平面図、（ｂ）は、図２（ａ）の
ウエハアダプタの変形例を示す平面図である。

【図３】その実施の形態の一例での種々のウエハアダプ
タを示す平面図である。

【図４】従来のウエハステージの上部構成例を示す斜視
図である。

【図５】ウエハをウエハホルダ上に位置決めする際の従
来の動作を説明するための平面図である。

【図６】従来の方法によりウエハをウエハホルダ上に位
置決めする際のフォトレジストの飛散の様子を示す部分
拡大断面図である。

【符号の説明】

１Ａ〜１Ｆウエハ２Ａウエハホルダ１３Ａハンマー１５ａ〜１５ｄバキュームチャック１７，１７Ａ〜１７Ｄ，２７ウエハアダプタ２２Ａ，２２Ｂ位置決め駒

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスクパターンが転写される基板を吸着
保持するための基板ホルダに対して前記基板を位置決め
するためのリング状の枠よりなり、前記基板ホルダ上で前記リング状の枠の内側に前記基板
が収納されることを特徴とする基板アダプタ。
【請求項２】請求項１記載の基板アダプタであって、前記リング状の枠の内縁部の少なくとも一部に前記基板
の内側に突き出たフランジ部を設けたことを特徴とする
基板アダプタ。