JPH04260319A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH04260319A JPH04260319A JP3022049A JP2204991A JPH04260319A JP H04260319 A JPH04260319 A JP H04260319A JP 3022049 A JP3022049 A JP 3022049A JP 2204991 A JP2204991 A JP 2204991A JP H04260319 A JPH04260319 A JP H04260319A
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- exposure apparatus
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光装置に係り、詳し
くは、半導体集積回路の製造におけるフォトリソグラフ
ィー技術に適用することができ、特にレチクルの撓みを
低減して安定したパターン露光を行うことができる露光
装置に関する。
くは、半導体集積回路の製造におけるフォトリソグラフ
ィー技術に適用することができ、特にレチクルの撓みを
低減して安定したパターン露光を行うことができる露光
装置に関する。
【０００２】近年、ＬＳＩは高集積化が要求されており
、回路パターンを微細化しつつ、ＬＳＩチップを大型化
することが要求されている。このため、露光装置が一度
に露光できる有効露光領域も大きくしていかなくてはな
らず、これに伴いＬＳＩパターンの原板であるレチクル
も次第に大きくなってきている。
、回路パターンを微細化しつつ、ＬＳＩチップを大型化
することが要求されている。このため、露光装置が一度
に露光できる有効露光領域も大きくしていかなくてはな
らず、これに伴いＬＳＩパターンの原板であるレチクル
も次第に大きくなってきている。
【０００３】
【従来の技術】図１０は従来の露光装置の構成を示す概
略図である。図１０においては、３１はレチクル、３２
はレチクル３１をＸ，Ｙ，θ方向に±数ｍｍ程度可動さ
せるための可動ステージ、３３はレチクル３１をレチク
ル可動ステージ３２に吸着するためのレチクル吸着部材
、３４は複数個の投影レンズ３５が配置された投影レン
ズ鏡筒である。
略図である。図１０においては、３１はレチクル、３２
はレチクル３１をＸ，Ｙ，θ方向に±数ｍｍ程度可動さ
せるための可動ステージ、３３はレチクル３１をレチク
ル可動ステージ３２に吸着するためのレチクル吸着部材
、３４は複数個の投影レンズ３５が配置された投影レン
ズ鏡筒である。
【０００４】従来の露光装置では、レチクル３１がレチ
クル吸着部材３３によってレチクル可動ステージ３２に
固定されており、複数個の投影レンズ３５がレチクル３
１下の投影レンズ鏡筒３４内に配置されている。そして
、ＬＳＩチップの大型化に伴い、露光装置の露光できる
有効露光領域を大きくしなければならず、レチクルの大
きさを単純に５インチ角から６インチ角へと大きくして
きている。
クル吸着部材３３によってレチクル可動ステージ３２に
固定されており、複数個の投影レンズ３５がレチクル３
１下の投影レンズ鏡筒３４内に配置されている。そして
、ＬＳＩチップの大型化に伴い、露光装置の露光できる
有効露光領域を大きくしなければならず、レチクルの大
きさを単純に５インチ角から６インチ角へと大きくして
きている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の露光装置では、レチクル３１をレチクル吸着部
材３３によってレチクル可動ステージ３２に固定してお
り、図１１（ａ）に示す如くレチクル吸着部材３３でレ
チクル周辺４箇所（Ａ部）を支えるのみであったため、
図１１（ｂ）に示す如くレチクル３１中心部でレチクル
３１自身の重量によってレチクル３１全体が下側に凸に
なって撓み、ウェーハ側のレチクルパターン像面が湾曲
となり、パターンの位置ずれが生じるという問題があっ
た。
た従来の露光装置では、レチクル３１をレチクル吸着部
材３３によってレチクル可動ステージ３２に固定してお
り、図１１（ａ）に示す如くレチクル吸着部材３３でレ
チクル周辺４箇所（Ａ部）を支えるのみであったため、
図１１（ｂ）に示す如くレチクル３１中心部でレチクル
３１自身の重量によってレチクル３１全体が下側に凸に
なって撓み、ウェーハ側のレチクルパターン像面が湾曲
となり、パターンの位置ずれが生じるという問題があっ
た。
【０００６】この問題を解決する従来の手段としては、
レチクル３１の撓み量をできるだけ小さくするためにレ
チクルの板厚を大きくするということで対処されようと
している。
レチクル３１の撓み量をできるだけ小さくするためにレ
チクルの板厚を大きくするということで対処されようと
している。
【０００７】しかしながら、レチクル板厚を厚くすると
更にレチクル重量は大きくなり、レチクル板にＣｒ等か
らなる遮光膜でＬＳＩパターンを描画する等のレチクル
製作プロセスに対して影響が大きく、具体的にはレチク
ル上に電子線用レジストをスピン塗布する時の回転モー
タの駆動力を上げなければならず、レチクル製作プロセ
スにおける各種装置のレチクル搬送機構の重量耐性を上
げなければならないといった問題があった。
更にレチクル重量は大きくなり、レチクル板にＣｒ等か
らなる遮光膜でＬＳＩパターンを描画する等のレチクル
製作プロセスに対して影響が大きく、具体的にはレチク
ル上に電子線用レジストをスピン塗布する時の回転モー
タの駆動力を上げなければならず、レチクル製作プロセ
スにおける各種装置のレチクル搬送機構の重量耐性を上
げなければならないといった問題があった。
【０００８】そこで本発明は、レチクル板厚を大きくす
ることなくレチクル大口径化に伴うレチクルの撓みを低
減することができ、安定したパターン露光を行うことが
できる露光装置を提供することを目的としている。
ることなくレチクル大口径化に伴うレチクルの撓みを低
減することができ、安定したパターン露光を行うことが
できる露光装置を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による露光装置は
、上記目的達成のため、レチクルをレチクル吸着部材に
よって可動ステージに吸着固定する逐次移動式投影型露
光装置において、該レチクルと該レチクル吸着部材のレ
チクル吸着面より内側でレチクル面を支持するようにレ
チクル支持部材を設けるものである。
、上記目的達成のため、レチクルをレチクル吸着部材に
よって可動ステージに吸着固定する逐次移動式投影型露
光装置において、該レチクルと該レチクル吸着部材のレ
チクル吸着面より内側でレチクル面を支持するようにレ
チクル支持部材を設けるものである。
【００１０】
【作用】本発明では、図１、２に示すように、レチクル
１をレチクル吸着部材３によって可動ステージ２に吸着
固定する際、レチクル１とレチクル吸着部材３のレチク
ル吸着面（図２（ａ）に示すＡ部）より内側でレチクル
面（図２（ｂ）に示すＢ部で、ここでは有効パターン露
光領域よりも外側）を支持するレチクル支持部材６をレ
チクル吸着部材３に設けたため、従来生じていたレチク
ル大口径化に伴うレチクル１の撓みをレチクル支持部材
６によって上側に向かって押し上げることができる。
１をレチクル吸着部材３によって可動ステージ２に吸着
固定する際、レチクル１とレチクル吸着部材３のレチク
ル吸着面（図２（ａ）に示すＡ部）より内側でレチクル
面（図２（ｂ）に示すＢ部で、ここでは有効パターン露
光領域よりも外側）を支持するレチクル支持部材６をレ
チクル吸着部材３に設けたため、従来生じていたレチク
ル大口径化に伴うレチクル１の撓みをレチクル支持部材
６によって上側に向かって押し上げることができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
１、２は本発明に係る露光装置の一実施例を説明する図
であり、図１は一実施例の露光装置の構成を示す概略図
、図２は一実施例の効果を説明する図である。これらの
図において、１はレチクル、２はレチクル１をＸ，Ｙ，
θ方向に±数ｍｍ程度可動させるための可動ステージ、
３はレチクル１を可動ステージ２に吸着するためのレチ
クル吸着部材、４は複数個の投影レンズ５が配置された
投影レンズ鏡筒、６はレチクル吸着部材３に設けられ、
レチクル吸着部材３よりも内側に設けられたレチクル支
持部材、７はレチクル遮光帯である。
１、２は本発明に係る露光装置の一実施例を説明する図
であり、図１は一実施例の露光装置の構成を示す概略図
、図２は一実施例の効果を説明する図である。これらの
図において、１はレチクル、２はレチクル１をＸ，Ｙ，
θ方向に±数ｍｍ程度可動させるための可動ステージ、
３はレチクル１を可動ステージ２に吸着するためのレチ
クル吸着部材、４は複数個の投影レンズ５が配置された
投影レンズ鏡筒、６はレチクル吸着部材３に設けられ、
レチクル吸着部材３よりも内側に設けられたレチクル支
持部材、７はレチクル遮光帯である。
【００１２】なお、レチクル支持部材６はレチクル１の
有効パターン露光領域よりも外側に配置されており、レ
チクル支持部材６のレチクル１側平面は、レチクル吸着
部材３のレチクル１側平面と略同じ高さである。
有効パターン露光領域よりも外側に配置されており、レ
チクル支持部材６のレチクル１側平面は、レチクル吸着
部材３のレチクル１側平面と略同じ高さである。
【００１３】本実施例では、レチクル１をレチクル吸着
部材３によって可動ステージ２に吸着固定する際、レチ
クル１とレチクル吸着部材３のレチクル吸着面（図２（
ａ）に示すＡ部）より内側でレチクル面（図２（ｂ）に
示すＢ部で、ここでは有効パターン露光領域よりも外側
）を支持するレチクル支持部材６をレチクル吸着部材３
に設けたため、従来生じていたレチクル大口径化に伴う
レチクル１の撓みを図１、２（ｂ）に示すように、レチ
クル支持部材６によって上側に向かって押し上げること
ができる。このため、レチクル１板厚を大きくすること
なくレチクル１の撓みを低減することができ、レチクル
１平面形状を補正することができる。
部材３によって可動ステージ２に吸着固定する際、レチ
クル１とレチクル吸着部材３のレチクル吸着面（図２（
ａ）に示すＡ部）より内側でレチクル面（図２（ｂ）に
示すＢ部で、ここでは有効パターン露光領域よりも外側
）を支持するレチクル支持部材６をレチクル吸着部材３
に設けたため、従来生じていたレチクル大口径化に伴う
レチクル１の撓みを図１、２（ｂ）に示すように、レチ
クル支持部材６によって上側に向かって押し上げること
ができる。このため、レチクル１板厚を大きくすること
なくレチクル１の撓みを低減することができ、レチクル
１平面形状を補正することができる。
【００１４】また、図２（ｂ）に示すＢの如く、ここで
はレチクル支持部材６でレチクル１を支持するのをレチ
クル１の有効パターン露光領域よりも外側で行うように
しており、レチクル１の有効パターン露光領域を侵して
いないため、実際の露光に際して問題なく安定した露光
を行うことができる。
はレチクル支持部材６でレチクル１を支持するのをレチ
クル１の有効パターン露光領域よりも外側で行うように
しており、レチクル１の有効パターン露光領域を侵して
いないため、実際の露光に際して問題なく安定した露光
を行うことができる。
【００１５】なお、上記実施例では、レチクル支持部材
６とレチクル吸着部材３のレチクル１側平面の高さを略
同じにする場合について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、図３（ａ）に示すように、レチ
クル支持部材６のレチクル１側平面（Ｇ１Ｇ２面）の高
さをレチクル吸着部材３のレチクル１側平面（Ｈ１Ｈ２
面）の高さよりも高くする場合であってもよく、この場
合、レチクル１の撓みを更に上側に押し上げることがで
き好ましい。平面構造としては、図３（ｂ）、（ｃ）に
示す場合が挙げられ、図３（ｂ）は４箇所のレチクル吸
着部材３面に対してその内側に帯状のレチクル支持部材
６面がある場合であり、図３（ｃ）は帯状のレチクル吸
着部材３面に対してその内側に４箇所のレチクル支持部
材６面がある場合である。
６とレチクル吸着部材３のレチクル１側平面の高さを略
同じにする場合について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、図３（ａ）に示すように、レチ
クル支持部材６のレチクル１側平面（Ｇ１Ｇ２面）の高
さをレチクル吸着部材３のレチクル１側平面（Ｈ１Ｈ２
面）の高さよりも高くする場合であってもよく、この場
合、レチクル１の撓みを更に上側に押し上げることがで
き好ましい。平面構造としては、図３（ｂ）、（ｃ）に
示す場合が挙げられ、図３（ｂ）は４箇所のレチクル吸
着部材３面に対してその内側に帯状のレチクル支持部材
６面がある場合であり、図３（ｃ）は帯状のレチクル吸
着部材３面に対してその内側に４箇所のレチクル支持部
材６面がある場合である。
【００１６】次に、本発明においては、図４に示すよう
に、ガス導入部よりレチクル支持部材６に設けられたガ
ス導入口１１を通してレチクル支持部材６のレチクル１
側表面からガスを吹き出すようにして、レチクル支持部
材６をレチクル面に接触させることなくレチクル平面形
状を補正する場合であってもよい。この場合、使用する
ガスとしてはドライエアーが好ましく、レチクル吸着部
材３のレチクル１側平面（Ｇ１Ｇ２面）はレチクル支持
部材６のレチクル１側平面（Ｈ１Ｈ２面）と同じか、こ
れより低い位置であるのが好ましい。
に、ガス導入部よりレチクル支持部材６に設けられたガ
ス導入口１１を通してレチクル支持部材６のレチクル１
側表面からガスを吹き出すようにして、レチクル支持部
材６をレチクル面に接触させることなくレチクル平面形
状を補正する場合であってもよい。この場合、使用する
ガスとしてはドライエアーが好ましく、レチクル吸着部
材３のレチクル１側平面（Ｇ１Ｇ２面）はレチクル支持
部材６のレチクル１側平面（Ｈ１Ｈ２面）と同じか、こ
れより低い位置であるのが好ましい。
【００１７】次に、本発明においては、図５に示すよう
に、レチクル１と投影レンズ５間に露光光に対して透明
な平面板１２を設けるようにしてもよく、この場合、投
影レンズ５表面に塵が直接付着するのを防止することが
できる。この場合、平面板１２表面に塵が付着すること
になるが、平面板１２表面を拭くことにより容易に塵を
除去することができる。なお、投影レンズ５表面は無反
射コーティング等の表面処理を施しているため拭くこと
ができない。平面板１２の配置位置はレチクル吸着部材
３間であっても、投影レンズ鏡筒４内であっても何れで
もよい。 露光波長が ２５０〜 ５００ｎｍの場合は、平面板１
２は合成石英が望ましい。
に、レチクル１と投影レンズ５間に露光光に対して透明
な平面板１２を設けるようにしてもよく、この場合、投
影レンズ５表面に塵が直接付着するのを防止することが
できる。この場合、平面板１２表面に塵が付着すること
になるが、平面板１２表面を拭くことにより容易に塵を
除去することができる。なお、投影レンズ５表面は無反
射コーティング等の表面処理を施しているため拭くこと
ができない。平面板１２の配置位置はレチクル吸着部材
３間であっても、投影レンズ鏡筒４内であっても何れで
もよい。 露光波長が ２５０〜 ５００ｎｍの場合は、平面板１
２は合成石英が望ましい。
【００１８】次に、本発明においては、図６に示すよう
に、レチクル支持部材６をレチクル吸着部材３間に設け
た平面板１２に貼り付けた場合であってもよく、あるい
はレチクル支持部材６をレチクル１に貼り付けた場合で
あってもよい。なお、この場合、図７に示すように、レ
チクル１にペリクルが貼り付けられていてもよい。図７
において、１３はペリクル膜、１４はペリクル枠である
。
に、レチクル支持部材６をレチクル吸着部材３間に設け
た平面板１２に貼り付けた場合であってもよく、あるい
はレチクル支持部材６をレチクル１に貼り付けた場合で
あってもよい。なお、この場合、図７に示すように、レ
チクル１にペリクルが貼り付けられていてもよい。図７
において、１３はペリクル膜、１４はペリクル枠である
。
【００１９】次に、本発明においては、図８に示すよう
に、レチクル１をペリクル膜１３が貼り付けられたペリ
クル枠１４で覆う場合であってもよく、この場合、ペリ
クル枠１４の高さよりも高い突起状部材１５を設けても
よく、レチクル１を床上落下させてもペリクル膜１３を
傷つけるといった事故を防ぐことができ好ましい。
に、レチクル１をペリクル膜１３が貼り付けられたペリ
クル枠１４で覆う場合であってもよく、この場合、ペリ
クル枠１４の高さよりも高い突起状部材１５を設けても
よく、レチクル１を床上落下させてもペリクル膜１３を
傷つけるといった事故を防ぐことができ好ましい。
【００２０】次に、本発明においては、図９に示すよう
に、レチクル吸着面上にレチクル１を挟んで押し付ける
パッド１６を設ける場合であってもよく、この場合、レ
チクル支持部材６によってレチクル１がレチクル吸着面
から離れるのを防止することができ好ましい。なお、パ
ッド１６は枠状のものであってもよい。
に、レチクル吸着面上にレチクル１を挟んで押し付ける
パッド１６を設ける場合であってもよく、この場合、レ
チクル支持部材６によってレチクル１がレチクル吸着面
から離れるのを防止することができ好ましい。なお、パ
ッド１６は枠状のものであってもよい。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、レチクル板厚を大きく
することなくレチクル大口径化に伴うレチクルの撓みを
低減することができ、安定したパターン露光を行うこと
ができるという効果がある。
することなくレチクル大口径化に伴うレチクルの撓みを
低減することができ、安定したパターン露光を行うこと
ができるという効果がある。
【図１】一実施例の露光装置の構成を示す概略図である
。
。
【図２】一実施例の効果を説明する図である。
【図３】本発明に適用できるレチクル吸着部材とレチク
ル支持部材の位置関係を説明する図である。
ル支持部材の位置関係を説明する図である。
【図４】本発明に適用できる露光装置を説明する図であ
る。
る。
【図５】本発明に適用できる露光装置を説明する図であ
る。
る。
【図６】本発明に適用できる露光装置を説明する図であ
る。
る。
【図７】本発明に適用できる露光装置を説明する図であ
る。
る。
【図８】本発明に適用できる露光装置を説明する図であ
る。
る。
【図９】本発明に適用できる露光装置を説明する図であ
る。
る。
【図１０】従来例の露光装置の構成を示す概略図である
。
。
【図１１】従来例の課題を説明する図である。
１ レチクル
２ 可動ステージ
３ レチクル吸着部材
４ 投影レンズ鏡筒
５ 投影レンズ
６ レチクル支持部材
７ レチクル遮光帯
１１ ガス導入口
１２ 平面板
１３ ペリクル膜
１４ ペリクル枠
１５ 突起状部材
１６ パッド
Claims (5)
- 【請求項１】 レチクル（１）をレチクル吸着部材（
３）によって可動ステージ（２）に吸着固定する逐次移
動式投影型露光装置において、該レチクル（１）と該レ
チクル吸着部材（３）のレチクル吸着面より内側でレチ
クル面を支持するようにレチクル支持部材（６）を設け
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 レチクル支持部材（６）のレチクル（
１）側表面からガスを吹き出す手段を設けることを特徴
とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 レチクル（１）と投影レンズ（５）間
に露光光に対して透明な平面板（１２）を設けることを
特徴とする請求項１乃至２記載の露光装置。 - 【請求項４】 平面板（１２）にレチクル面を支持す
るレチクル支持部材（６）を設けることを特徴とする請
求項３記載の露光装置。 - 【請求項５】 レチクル吸着面上にレチクル（１）を
挟んで押さえ付けるパッド（１６）を設けることを特徴
とする請求項１乃至５記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3022049A JPH04260319A (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3022049A JPH04260319A (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04260319A true JPH04260319A (ja) | 1992-09-16 |
Family
ID=12072072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3022049A Withdrawn JPH04260319A (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04260319A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003100619A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Nikon Corp | マスク保持装置、マスク保持方法、および露光装置 |
-
1991
- 1991-02-15 JP JP3022049A patent/JPH04260319A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003100619A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Nikon Corp | マスク保持装置、マスク保持方法、および露光装置 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |