JPH1186029A - 画像描画装置 - Google Patents

画像描画装置

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JPH1186029A
JPH1186029A JP9247073A JP24707397A JPH1186029A JP H1186029 A JPH1186029 A JP H1186029A JP 9247073 A JP9247073 A JP 9247073A JP 24707397 A JP24707397 A JP 24707397A JP H1186029 A JPH1186029 A JP H1186029A
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    • G09G5/39Control of the bit-mapped memory

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フレームバッファ用の二次元描画回路をZバ
ッファ用の設定回路に流用でき、Zバッファの高速設定
処理とコスト低減とを両立することができる画像描画装
置を提供する。 【解決手段】 同一メモリバッファ240上にフレーム
バッファ220とZバッファ230を設け、メモリ制御
回路250によって各バッファ220、230に選択的
にアクセスする。二次元描画回路200には、描画用ピ
クセルバイト数設定レジスタ302を設け、アクセスす
るバッファ220、230の1ピクセルあたりのバイト
数を設定する。また、描画用先頭アドレス設定レジスタ
304を設けて、アクセスするバッファ220、230
に応じた先頭アドレスを設定する。これらレジスタの設
定によって、二次元描画回路200のメモリアドレス演
算部330で、各バッファ220、230で共通の座標
演算を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置の表示画
面上に三次元描画を行うことができる画像描画装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】図12は、従来の画像描画装置の構成例
を示すブロック図である。この画像描画装置は、画像表
示を行うCRT10と、CRT10の表示画面に対応す
る表示用データを格納するフレームバッファ12と、フ
レームバッファ12に対して所望の矩形画像の描画等を
行う二次元描画回路14と、フレームバッファ12に対
して三次元描画を行うための奥行きデータ(Z値)を格
納するZバッファ16と、Zバッファ16に格納された
奥行きデータに基づいてフレームバッファ12に三次元
描画を行う三次元直線描画回路18と、Zバッファ16
に対して所望の矩形領域のデータ設定等を行うZバッフ
ァ設定回路20と、本画像描画装置の全体的な制御を行
うプロセッサ22と、プロセッサ22の制御プログラム
やワークエリアを提供するメインメモリ24とを有す
る。以上のような構成において、まず、プロセッサ22
は、メインメモリ24上に二次元描画データを作成す
る。この二次元描画データは、例えば線分(直線)の集
まりとして構成され、これをフレームバッファ12に書
き込むことにより、CRT10に画像が表示される。
【0003】また、二次元描画回路14は、特定の二次
元画像をフレームバッファ12に高速に書き込む専用の
回路であり、具体的には二次元直線を描画する専用回
路、二次元矩形領域を塗りつぶす専用回路、次元矩形領
域を他の位置に転送する専用回路等が存在する。この二
次元描画回路14では、上述のような二次元画像の形状
や位置を特定するためのアドレス等を設定するととも
に、描画する色データ等を設定することにより、描画す
る二次元画像の属性に応じた規則的な座標演算動作によ
って高速の描画を実現するものである。
【0004】次に、三次元描画には、Zバッファ16お
よび三次元直線描画回路18とを用いて行う。Zバッフ
ァ16は、フレームバッファ12に描画してある各画素
(XY座標)に対し、各画素がもっている奥行きデータ
(Z値)を格納したものである。三次元直線描画回路1
8は、プロセッサ22より入力された三次元直線のXY
座標における各点の奥行きデータ(ソースZ値)と、Z
バッファ16に予め格納されている奥行きデータ(ディ
スティネーションZ値)とを比較し、奥行きの小さい方
のデータを選択してフレームバッファ12上のデータを
書き換える処理を行うものである。これにより、三次元
物体を二次元画像として描く場合に、手前の物体によっ
て後ろの物体が隠されるような、自然な画像を描くこと
ができる。
【0005】図13は、三次元直線描画回路18の構成
を示すブロック図である。この三次元直線描画回路18
は、プロセッサ22より入力されたソースZ値を格納す
るレジスタ102と、このレジスタ102に格納された
ソースZ値とZバッファ16に格納されているディステ
ィネーションZ値とを比較する比較器104と、描画時
にAND、OR、XOR等の論理回路によってソース値
と元々フレームバッファ12上に存在しているデータと
の論理演算を行い、その結果を描画データに反映させる
ためのROP(Raster Operation Processor)回路10
6と、描画する直線の始点と終点の座標パラメータを与
えることにより、フレームバッファ12上に直線を描画
する直線演算回路108と、比較器104の演算結果に
基づいてZバッファ16を書き換える転送回路110
と、フレームバッファ12にアクセスするためのアドレ
スを生成、制御するフレームバッファアドレス演算部1
12と、Zバッファ16にアクセスするためのアドレス
を生成、制御するZバッファアドレス演算部114とを
有する。
【0006】図14は、任意のベクトル(直線)を描画
する場合のZ値の演算処理を説明する説明図である。座
標(Xs,Ys)から座標(Xe,Ye)に直線をひく
とき、直線を構成する各画素に対して座標とZ値を算出
する。Z値の演算は、プロセッサ22により与えられ
る、始点座標(Xs,Ys)における値(Zs=初期
値)と各画素間の増分(Zi)に基づいて、直線を構成
する各画素毎に終点座標(Xe,Ye)まで行う。そし
て、このように演算したZ値と、その座標に元からある
画素のZ値とを比較器104によって比較し、新たに演
算したZ値が小なら、この演算結果をZバッファ16に
書き込み、またフレームバッファ12ヘの画素の書き込
みを許し、新しい描画による画素を書き込む。また、新
たに演算したZ値が大なら、Zバッファ16もフレーム
メモリ12もそのままにする(すなわち元からある画素
が残る)。なお、このような制御を三次元直線描画回路
18としてハードウェアで行う代わりに、ソフトウエア
によって実行するシステムもある。
【0007】また、このような画像描画装置において、
Zバッファ16の値を設定する方法としては、以下のよ
うなものがる。 プロセッサ22によってZバッファ16を直接アクセ
スし、Z値を設定するアドレスをプロセッサ22で算出
することにより、Z値を1つ1つ設定していく方法。 上述のような三次元直線描画回路18を使用してZバ
ッファ16にZ値を設定して行く方法。 Zバッファ設定回路20を使つてZ値を設定する方
法。 このうち、プロセッサ22によって直接Z値を設定する
方法では、設定する領域の各点において、Z値を1つ1
つ設定していくものであるため、高速な処理が困難であ
るとともに、システム全体を制御するプロセッサ22の
負担も大きくなる。
【0008】また、三次元直線描画回路18を使用して
Zバッファ16にZ値を設定して行く方法では、設定す
る領域のスキャンラインを構成する各線分を、上述のよ
うな始点と終点を指定して、1本ずつ描画していくこと
により、所望の領域の設定を行うことができ、特に比較
的単純形状の図形については、上述したプロセッサ22
で直接設定する方法に比べて高速な処理を行える。しか
し、この方法は、多数の線分を指定して描画処理を行う
ものであり、また、各点のZ値を比較する処理が含まれ
るため、Zバッファ設定回路20を使う方法に比べれば
低速である。
【0009】次に、Zバッファ設定回路20を使つてZ
値を設定する方法は、三次元直線描画回路18よりもさ
らに高速なZ値の設定が可能である。すなわち、Zバッ
ファ設定回路20は、特定の二次元画像をZバッファ1
6に高速に書き込む専用の回路であり、Zバッファ16
内の二次元領域を指定するとともに、設定するZ値を指
定することにより、Z値を設定する二次元領域の属性に
応じた規則的な座標演算動作によって高速の設定を実現
するものである。また、このようなZバッファ設定回路
20によって、Zバッファ16内の特定領域を他の領域
に転送する動作を高速に行うこともできる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の画像描画装置において、Zバッファ16に対する高
速な設定や転送を行うためには、専用のZバッファ設定
回路20を設けなければならず、高価な構成となる問題
がある。ところで、上述した二次元描画回路14とZバ
ッファ設定回路20とは、特定領域の座標演算を行う部
分は類似する構成を有しているが、それぞれアクセスの
対象となるフレームバッファ12とZバッファ16の属
性に対応して構成されているため、互いに流用すること
が困難である。これは、フレームバッファ12とZバッ
ファ16とで1画素あたりのバイト数が異なっているこ
とに起因している。つまり、フレームバッファ12にお
ける1画素あたりのバイト数は、このフレームバッファ
12に格納される色データの階調度に応じて決定され、
例えば、各色成分に255の階調度をもたせる場合に
は、各色成分毎に1画素あたり1バイトのデータが必要
となり、4つの色成分では、1画素あたりのバイト数が
4バイト(32ビット)となる。一方、Zバッファ16
における1画素あたりのバイト数は、Z値データによる
奥行きの解像度によって決定され、1画素あたりのバイ
ト数を大きくすれば、それだけ奥行き方向に複雑な立体
画像を描画できることになる。例えば1画素あたり2バ
イトのZ値データが用いられる。そして、以上のような
フレームバッファ12に格納される色データの階調度
と、Zバッファ16に格納されるZ値データの解像度と
は、通常は互いに異なっているため、これに対応して各
バッファの構成も異なっている。
【0011】このため、図12に示す構成のように、各
バッファ12、16への処理を高速に行うためには、フ
レームバッファ12用の二次元描画回路14とZバッフ
ァ16用のZバッファ設定回路20とを、それぞれ個別
に設ける必要があり、コスト低減を図る上で障害とな
る。また、上述のようなZバッファ16を用いた装置で
は、一般的に、価格が高くても高速なシステム構成にす
ることが多く、メモリ構成もフレームバッファとZバッ
ファとを別メモリとし、プロセッサ22および三次元直
線描画回路18等とのバスインターフェースも、それぞ
れ別に設けていたため、この点からも二次元描画回路1
4とZバッファ設定回路20との兼用は困難であり、こ
の結果、コスト低減を図ることは困難であった。そこで
本発明の目的は、フレームバッファ用の二次元描画回路
をZバッファ用の設定回路に流用でき、Zバッファの高
速設定処理とコスト低減とを両立することができる画像
描画装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するため、表示装置の表示画面に対応する表示用データ
を格納するフレームバッファと、前記フレームバッファ
に特定の二次元画像を描画するための座標演算を行う二
次元描画回路と、前記フレームバッファに対して三次元
描画を行うための奥行きデータを格納するZバッファ
と、前記Zバッファに格納された奥行きデータに基づい
て前記フレームバッファに三次元描画を行う三次元直線
描画回路とを有する画像描画装置において、前記フレー
ムバッファおよびZバッファの各領域を同一物理メモリ
上に設定するとともに、各バッファへのアクセスを制御
するメモリ制御回路と、前記二次元描画回路の座標演算
における1画素あたりのビット数を前記フレームバッフ
ァの描画データに対応するビット数または前記Zバッフ
ァの奥行きデータに対応するビット数に変更するビット
数変更手段とを設け、前記二次元描画回路の座標演算に
おける1画素あたりのビット数を前記ビット数変更手段
で変更することにより、前記フレームバッファへの描画
と前記Zバッファへの奥行きデータの設定とを前記二次
元描画回路の座標演算によって選択的に行うようにした
ことを特徴とする。
【0013】本発明の画像描画装置では、メモリ制御回
路によって、フレームバッファおよびZバッファの各領
域を同一物理メモリ上に適宜設定するとともに、二次元
描画回路より2つのバッファ領域に選択的アクセスす
る。そして、二次元描画回路からフレームバッファへア
クセスする場合には、ビット数変更手段により二次元描
画回路の座標演算における1画素あたりのビット数をフ
レームバッファの描画データに対応するビット数に変更
してアクセスする。また、二次元描画回路からZバッフ
ァへアクセスする場合には、ビット数変更手段により二
次元描画回路の座標演算における1画素あたりのビット
数をZバッファの奥行きデータに対応するビット数に変
更してアクセスする。これにより、共通の二次元描画回
路によって、フレームバッファに対する特定画像の描画
や転送と、Zバッファに対する特定領域の設定や転送を
高速に行うことができる。また、メモリ制御回路によっ
て、Zバッファをフレームバッファと同様の構成とする
ことにより、物理メモリ上に1画素あたりのビット数と
大きさの等しい2つのフレームバッファを設定し、ビッ
ト数変更手段によるビット数の変更を行うことなく各フ
レームバッファへの描画を交互に行うことにより、各フ
レームバッファをアニメーション用のダブルバッファと
して用いるようなシステムも構築可能である。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明による画像描画装置
の実施の形態例について説明する。図1は、本発明の第
1の形態例による画像描画装置の構成を示すブロック図
である。この画像描画装置は、画像表示を行うCRT2
10と、CRT210の表示用のフレームバッファ22
0および三次元描画用のZバッファ230を備えるバッ
ファメモリ240と、バッファメモリ240の所望の矩
形領域の描画および設定等を行う二次元描画回路200
と、バッファメモリ240に対する各バッファ領域の設
定とアクセスを制御するメモリ制御回路250と、Zバ
ッファ230に格納されたZ値データに基づいてフレー
ムバッファ220に三次元描画を行う三次元直線描画回
路260と、本画像描画装置の全体的な制御を行うプロ
セッサ270と、プロセッサ270の制御プログラムや
ワークエリアを提供するメインメモリ280とを有す
る。三次元直線描画回路260は、図13に示す三次元
直線描画回路18と同様に、図14に示した原理でフレ
ームバッファ220に三次元直線の描画を行うものであ
り、プロセッサ270は、三次元直線描画回路260に
上述したソースZ値を供給する。三次元直線描画回路2
60は、プロセッサ270からのソースZ値とZバッフ
ァ230に格納されているディスティネーションZ値と
を比較し、この比較結果に基づいて、フレームバッファ
220に三次元直線の描画を行う。
【0015】本例の画像描画装置では、同一物理メモリ
であるバッファメモリ240上に、フレームバッファ2
20とZバッファ230を設け、メモリ制御回路250
により、二次元描画回路200が両方のバッファ22
0、230に自在にアクセスできるようにしたものであ
る。なお、本例において、フレームバッファ220は、
640×480ピクセル(画素)の大きさを有し、1ピ
クセルあたり8ビット、16ビットまたは32ビットの
色データを記憶するものである。上述のようにフレーム
バッファ220における1ピクセルあたりのビット数は
色データの階調度によって決定される。また、色データ
の階調度は、オペレータによるキーボード(図示せず)
等からの入力やアプリケーションソフトによって決定さ
れる。また、フレームバッファ220の先頭アドレス
は、3000000hであるものとする。なお、末尾の
hは、16進数であることを示している。
【0016】また、Zバッファ230は、640×48
0ピクセルの大きさを有し、1ピクセルあたり16ビッ
トまたは32ビットのZ値により奥行きを表すようにな
っている。上述のようにZバッファ230における1ピ
クセルあたりのビット数は、Z値データによる奥行きの
解像度によって決定される。また、Z値データによる奥
行きの解像度は、オペレータによるキーボード等からの
入力やアプリケーションソフトによって決定される。ま
た、Zバッファ230の先頭アドレスは、3004B0
0hであるものとする。また、本例における二次元描画
回路200は、矩形領域の塗りつぶし処理を行う専用回
路として構成されている。そして、フレームバッファ2
20に対しては、所望の矩形領域を所望の色で塗りつぶ
す処理を行う。また、Zバッファ230に対しては所望
の矩形領域にZ値を設定して、例えば初期設定等の処理
を行うものである。
【0017】図2は、二次元描画回路200の構成を示
すブロック図である。図示のように、この二次元描画回
路200は、矩形領域の塗りつぶし処理を行うための各
種パラメータを設定するレジスタ部300と、このレジ
スタ部300に設定されたパラメータに基づいて、フレ
ームバッファ220およびZバッファ230に対するア
ドレス演算を行うメモリアドレス演算部330とを有す
る。レジスタ部300は、描画用ピクセルバイト数設定
レジスタ302と、描画用先頭アドレス設定レジスタ3
04と、始点設定レジスタ306と、幅・高さレジスタ
308と、描画モード設定レジスタ310と、開始設定
レジスタ312と、色設定レジスタ314とを有する。
このようなレジスタ部300に対する各パラメータの設
定は、オペレータによるキーボード等からの入力やアプ
リケーションソフトに基づいて、フレームバッファ22
0またはZバッファ230へのアクセスに先立ち、プロ
セッサ270によって行われる。プロセッサ270は、
フレームバッファ220への矩形描画時とZバッファ2
30への矩形描画時(Zデータ設定時)とで、描画用先
頭アドレスや描画用ピクセルバイト数を変更した設定を
行う。二次元描画回路200は、上述のようなレジスタ
部300への各パラメータの設定に基づいて、メモリア
ドレス演算部330において矩形領域の描画ピクセルの
アドレスを演算し、このアドレスをメモリ制御回路25
0に出力する。メモリ制御回路250は、メモリアドレ
ス演算部330からのアドレスに基づいて、フレームバ
ッファ220またはZバッファ230にアクセスし、色
設定レスジタ314に格納される色データまたはZ値デ
ータを書き込んでいく。この際、描画用先頭アドレス設
定レジスタ304に設定された描画用先頭アドレスに基
づいて、フレームバッファ220にアクセスするか、Z
バッファ230にアクセスするかが決定される。また、
描画用ピクセルバイト数設定レジスタ302に設定され
たバイト数によって、フレームバッファ220にアクセ
スする場合にはフレームバッファ220に対応したバイ
ト数によるデータの書き込みが行われ、Zバッファ23
0にアクセスする場合にはZバッファ230に対応した
バイト数によるデータの書き込みが行われる。また、始
点設定レジスタ306、幅・高さレジスタ308、描画
モード設定レジスタ310、および開始設定レジスタ3
12に設定される各パラメータの機能については、フレ
ームバッファ220にアクセスする場合とZバッファ2
30にアクセスする場合とで共通である。なお、メモリ
アドレス演算部330におけるアドレス演算は、例えば
メモリ制御回路250からの同期信号に基づいて、メモ
リ制御回路250におけるデータの書き込み動作に同期
しながら行われる。以下、二次元描画回路200の詳細
について説明する。
【0018】図3は、本例におけるレジスタ部300の
各設定レジスタに対するメモリアドレスとフォーマット
の関係の具体例を示す説明図である。本例のレジスタ部
300は32ビットの幅を有し、レジスタ部300の先
頭アドレスは2000000hであるものとする。描画
用ピクセルバイト数設定レジスタ302は、ビット数変
更手段を構成するものであり、アクセス対象のバッファ
220または230に対応して、矩形のアドレスを計算
する場合の1ピクセルあたりのビット数をバイト単位で
設定するレジスタであり、1ピクセルあたりのビット数
が8であれば0h、16であれば1h、32であれば2
hを設定する。
【0019】描画用先頭アドレス設定レジスタ304
は、アクセス対象のバッファ220または230に対応
して、描画する矩形を指定する座標系の原点(0,0)
のメモリアドレスを設定するものである。始点設定レジ
スタ306は、塗りつぶす矩形の左上の点のピクセル座
標を設定するレジスタであり、上位16ビットによって
Y座標、下位16ビットによってX座標を表すものとす
る。幅・高さレジスタ308は、塗りつぶす矩形の幅・
高さを表すデータを設定するものであり、上位16ビッ
トによって高さ、下位16ビットによって幅を表すもの
とする。なお、本例では、矩形の左上の点と矩形の幅・
高さとで矩形を指定したが、この代わりに、矩形の左上
の点と右下の点で矩形を指定しもよい。
【0020】描画モード設定レジスタ310は、直線描
画と短形描画を選択するためのレジスタであり、矩形塗
りつぶし時には1hを設定する。開始設定レジスタ31
2は、描画の開始を指示するためのレジスタであり、こ
のレジスタ312に1を設定することで、描画を起動す
る。色設定レジスタ314は、矩形を塗りつぶす色、ま
たは矩形のZ値を設定するレジスタであり、描画用ピク
セルバイト数設定レジスタ302の設定値に応じて、8
ビット(1バイト)なら、8ビットによる色データを設
定し、16ビット(2バイト)なら、16ビットによる
色データまたはZ値を設定し、32ビット(4バイト)
なら、32ビットによる色データまたはZ値を設定す
る。また、Zバッファ230のクリア時には、色設定レ
ジスタ314に0hをセットして、各点に0クリアデー
タを書き込む。Zバッファ230を用いた三次元描画で
は、Zバッファ230のクリアがしばしば必要となる
が、以上のような二次元描画回路200によって、矩形
をZバッファ230に書き込むことにより、Zバッファ
230のクリアが高速に行える。このクリアには大量な
メモリアクセスが必要となるため、二次元描画回路20
0を使用することで処理の高速化が実現できる。
【0021】図4(A)は、Zバッファ230の全領域
に対応する0hの矩形データにより、Zバッファ230
全体を0クリアした様子を示している。一方、図4
(B)に示すように、CRT210の画面に表示された
ウインドウを0クリアすることもできる。また、フレー
ムバッファ220とZバッファ230とで、1ピクセル
あたりのデータビット数(バイト数)が違う場合には、
矩形の始点・幅高さ情報から物理アドレスを計算するた
めの計算式を変えなければならないが、描画用ピクセル
バイト数設定レジスタ302を設けることで、フレーム
バッファ220上の塗りつぶしではフレームバッファ2
20の座標指定方法(x,y)で矩形を指定でき、Zバ
ッファ230上の塗りつぶしでは、Zバッファ230上
の座標系(x,y)で矩形を指定できる。すなわち、こ
のレジスタ302を用いることで、フレームバッファ2
20とZバッファ230のピクセルバイト数が異なって
いても、共通の二次元描画回路200を使用することが
できる。また、メモリアドレス演算部330は、以上の
ようなレジスタ部300の設定パラメータに基づいて、
描画する各ピクセルの1点1点のアドレスを算出してい
くものである。
【0022】図5は、フレームバッファ220とZバッ
ファ230の同じ矩形に対する色設定レジスタ314の
設定例を示す説明図である。図5(A)はフレームバッ
ファ220に対する描画データの例を示しており、色設
定レジスタ314には、塗りつぶす色を指定する「AL
PHA」「RED」「GREEN」「BLUE」のデー
タが設定されている。また、図5(B)はZバッファ2
30に対するZ値の例を示しており、Z値データとして
の「Z」が設定されている。また、始点設定レジスタ3
06と幅・高さレジスタ308には、同じ値が設定され
ている。
【0023】図6は、図5(A)に示すレジスタの設定
によってフレームバッファ220に矩形領域を塗りつぶ
した様子と、図5(B)に示すレジスタの設定によって
Zバッファ230の矩領域にZ値を設定した様子を示し
ている。なお、図6において、レジスタ1.は描画用先頭
アドレス設定レジスタ304、レジスタ2.は描画用ピク
セルバイト数設定レジスタ302、レジスタ3.は始点設
定レジスタ306、レジスタ4.は幅・高さレジスタ30
8、レジスタ5.は色設定レジスタ314である。なお、
二次元描画回路200は、通常はフレームバッファ22
0によって表示データを格納する状態に保持しておき、
Zバッファ230への設定を行う場合にだけ、一時的に
Zバッファ230への設定用のデータに書き換え、Zバ
ッファ230への設定が終了した後、自動的にフレーム
バッファ220用のデータに書き換えるようにする。例
えば、Zバッファ230が1ピクセルあたり32ビット
で、フレームバッファ220が1ピクセルあたり32ビ
ット以外である場合に、二次元描画回路200の描画用
ピクセルバイト数設定レジスタ302を一時的に32ビ
ットに設定し、Zバッファ230への設定を行った後、
描画用ピクセルバイト数設定レジスタ302をフレーム
バッファ220に適合する値に変更しておく。
【0024】次に、本例におけるZバッファ230の全
領域をクリアする場合の手順について説明する。図7
は、このZバッファ230のクリア時の動作手順を示す
フローチャートである。まず、プロセッサ270より、
レジスタ部300の設定を行う。最初は描画モード設定
レジスタ310に、矩形塗りつぶしモードを指定する1
hを設定する(ステップS2)。次に、描画用先頭アド
レス設定レジスタ304に3004B00hに設定する
(ステップS4)。次に、描画用ピクセルバイト数設定
レジスタ302に32bpp=2hを設定する(ステッ
プS6)。なお、bppは1ピクセルあたりのビット数
(bitper pixel)を示している。次に、始
点設定レジスタ306に(0,0)=0hを設定する
(ステップS8)。次いで、幅・高さレジスタ308に
(幅640,高さ480)を設定する(ステップS1
0)。すなわち、ここではZバッファ230の全領域を
クリアするため、Zバッファ230の全領域を指定して
いる。さらに、色設定レジスタ314を0h(Z値=
0)に設定する(ステップS12)。そして、開始設定
レジスタ312に1hを設定する(ステップS14)こ
とにより、クリア処理が起動される。
【0025】まず、クリア処理が起動されると、二次元
描画回路200のメモリアドレス演算部330で以下の
数式より描画点のアドレスを計算し、メモリ制御回路2
50に送る(ステップS16)。 描画点アドレス=先頭アドレス+X座標×描画用ピクセ
ルバイト数+Y座標×描画用ピクセルバイト数×1スキ
ャンラインのピクセル数 メモリ制御回路250は、二次元描画回路200から送
られてきた上記アドレス上に色設定レジスタ314の値
を書き込む(ステップS18)。そして、1回の書き込
みが終わると、二次元描画回路200のメモリアドレス
演算部330は、次の描画点を計算し(ステップS1
6)、描画用ピクセルバイト数を参考にして、アドレス
を1ピクセル分のバイト数だけ進ませて、次の描画点上
に色設定レジスタ314の値を書き込む(ステップS1
8)。また、矩形領域の右端まで描画したときは、(ス
キャンラインバイト数−矩形の幅バイト数)だけアドレ
スを進め、次のスキャンライン上の描画点の値を書き込
んでいく。以上のような動作を、矩形領域の全てのピク
セルについて実行されたか判定し(ステップS20)、
終了しない場合はステップS16に戻ってステップS1
6、S18の処理を実行する。このように、本例の画像
描画装置では、フレームバッファ220用の二次元描画
回路200を用いてZバッファ230のクリアや書き換
え等を行うことができ、安価な構成で、Zバッファ23
0の高速設定を実現できる。
【0026】次に、本発明の第2の形態例について説明
する。上述した例では、二次元描画回路200として矩
形塗りつぶし回路を採用した場合について説明したが、
本例では、同様の二次元描画回路200として矩形転送
回路を採用した場合について説明する。ウインドウ型の
OS(Operating System)では、アプ
リケーションウインドウの移動が頻繁に生じる。このた
め、Zバッファを使用したシステムでは、フレームバッ
ファ上のデータ移動だけではなく、そのウインドウの矩
形に対応するZバッファ上のデータの移動も必要にな
る。図8は、このようなウインドウのCRT画面上での
移動に伴って、フレームバッファ220の描画データと
Zバッファ230のZ値データとが移動する状態を示し
ている。この図において、(A)は、CRT画面上の左
右の三次元アプリレーションウインドウが右下に移動し
た場合を表わし、(B)は、フレームバッファ220上
で矩形領域の色値データが移動した場合を表わし、また
(C)は、Zバッファ230上で矩形領域のZ値データ
が移動した場合を表わしている。本例では、二次元描画
回路200を用いてZバッファ上の矩形データの移動を
高速に行うものである。
【0027】図9は、本例の二次元描画回路200の構
成を示すブロック図である。図示のように、この二次元
描画回路200は、図2に示す構成に対してレジスタ部
300の一部を変更したものである。すなわち、本例の
二次元描画回路200では、転送元の矩形始点アドレス
を格納する転送元矩形始点位置設定レジスタ320と、
転送先の矩形始点アドレスを格納する転送先矩形始点位
置設定レジスタ322とを有する。また、本例において
も、描画用ピクセルバイト数設定レジスタ302、描画
用先頭アドレス設定レジスタ304、幅・高さレジスタ
308、描画モード設定レジスタ310、開始設定レジ
スタ312および色設定レジスタ314が設けられてお
り、これらは上述の図2に示す例と同様の機能を有して
いる。
【0028】図10は、本例におけるレジスタ部300
の各設定レジスタに対するメモリアドレスとフォーマッ
トの関係の具体例を示す説明図である。転送元矩形始点
位置設定レジスタ320は、転送元矩形領域の左上の点
のピクセル座標を格納するものであり、上位16ビット
にY座標、下位16ビットにX座標を格納する。転送先
矩形始点位置設定レジスタ322は、転送先矩形領域の
左上の点のピクセル座標を格納するものであり、上位1
6ビットにY座標、下位16ビットにX座標を格納す
る。また、本例では、転送元矩形位置を(10,7
0)、転送矩形幅、高さを(210,50)、転送先矩
形位置を(130,200)として説明する。また、本
例の色設定レジスタ314は、転送元の矩形領域を転送
によってクリアした後の領域に設定するZ値を格納する
ものであり、本例では0hを格納するものとする。
【0029】次に、本例におけるZバッファ230の矩
形領域を転送する場合の手順について説明する。図11
は、このZバッファ230の転送時の動作手順を示すフ
ローチャートである。まず、プロセッサ270より、レ
ジスタ部300の設定を行う。最初に描画モード設定レ
ジスタ310に、矩形転送モードを指定する2hを設定
する(ステップS32)。次に、描画用先頭アドレス設
定レジスタ304に3004B00hに設定する(ステ
ップS34)。次いで、描画用ピクセルバイト数設定レ
ジスタ302に32bpp=2hを設定する(ステップ
S36)。次に、転送元矩形始点位置設定レジスタ32
0に(10,70)を設定する(ステップS38)。次
いで、転送先矩形始点位置設定レジスタ322に(13
0,200)を設定する(ステップS40)。次に、幅
・高さレジスタ308に(幅210,高さ50)を設定
する(ステップS42)。さらに、色設定レジスタ31
4を0h(Z値=0)に設定する(ステップS44)。
そして、開始設定レジスタ312に1hを設定する(ス
テップS46)ことにより、クリア処理が起動される。
【0030】クリア処理が起動されると、まず、二次元
描画回路200のメモリアドレス演算部330で以下の
数式より転送元矩形領域における描画点のアドレスを計
算し、メモリ制御回路250に送る(ステップS4
8)。 描画点アドレス=先頭アドレス+X座標×描画用ピクセ
ルバイト数+Y座標×描画用ピクセルバイト数×1スキ
ャンラインのピクセル数 メモリ制御回路250は、二次元描画回路200から送
られてきたアドレスに対応するZバッファ230のZ値
を読み取って、図示しない転送用レジスタに格納する
(ステップS50)。そして、上記アドレス上に色設定
レジスタ314の値(0h)を書き込む(ステップS5
2)。次に、ステップS48で用いたのと同様の式によ
り、転送先矩形領域における描画点のアドレスを計算
し、メモリ制御回路250に送る(ステップS54)。
メモリ制御回路250は、二次元描画回路200から送
られてきたアドレス上に上述した転送用レジスタに格納
したZ値を書き込む(ステップS56)。そして、1回
の転送が終わると、ステップS48に戻って次の描画点
の転送を行う。以上のような動作を、矩形領域の全ての
ピクセルについて実行する(ステップS58)。このよ
うに、本例の画像描画装置では、フレームバッファ22
0用の二次元描画回路200を用いてZバッファ230
の矩形領域の転送を行うことができ、安価な構成で、Z
バッファ230の高速な書き換えを実現できる。
【0031】次に、本発明の第3の形態例について説明
する。この実施の形態における画像描画装置では、Zバ
ッファ230をフレームバッファ220と同じ大きさ
で、1ピクセルあたりのビット数を共通とすることによ
り、フレームバッファを2枚もったダブルバッファシス
テムを構築する。このダブルバッファシステムは、アニ
メーションで使用される表示システムであり、一方のフ
レームバッファに格納したアニメーションの1つの画面
(コマ)の表示中に、次に表示される画面(コマ)を他
方のフレームバッファに描画し、各フレームバッファを
ハードウェアで切り換えることにより、アニメーション
を高速化し、描画作業時の画面の乱れを防ぐようにした
システムである。上述した画像描画装置では、描画用先
頭アドレス設定レジスタ304の機能によって、バッフ
ァメモリ240上に2枚のフレームバッファを構成する
とともに、メモリ制御回路250によって、各フレーム
バッファを交互に選択してアニメーション描画を行い、
これと同期して、CRT210の画面に表示する各フレ
ームバッファを交互に切り換えることにより、ダブルバ
ッファシステムとして機能できる。
【0032】このようなダブルバッファシステムの機能
を、上述した三次元画像の描画機能やウインドウ表示シ
ステムと組み合わせることにより、バッファメモリ24
0を各種の用途に幅広く応用することができ、特にマル
チメディア対応型の有益な装置を提供できる。また、以
上の各例では、二次元矩形を描画したり転送する二次元
描画回路を設けた場合について説明したが、本発明は、
二次元直線を描画する二次元描画回路を設けた場合にも
同様に適用し得るものである。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明の画像描画装
置では、フレームバッファおよびZバッファの各領域を
同一物理メモリ上に設定するとともに、二次元描画回路
の座標演算における1画素あたりのビット数を変更する
ことにより、フレームバッファへの描画とZバッファへ
の奥行きデータの設定とを二次元描画回路の座標演算に
よって選択的に行えるようにした。これにより、フレー
ムバッファ用の二次元描画回路をZバッファ用の設定回
路に流用でき、Zバッファの専用の設定回路を設けるこ
となく、Zバッファへの奥行きデータの設定を高速化す
ることができるので、Zバッファの高速設定処理とコス
ト低減とを両立することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の形態例による画像描画装置の構
成を示すブロック図である。
【図2】図1に示す画像描画装置に設けられる二次元描
画回路の構成を示すブロック図である。
【図3】図2に示す二次元描画回路に設けられるレジス
タ部の具体例を示す説明図である。
【図4】図1に示す画像描画装置においてZバッファの
矩形領域をクリアする様子を示す説明図である。
【図5】図1に示す画像描画装置においてフレームバッ
ファとZバッファの同じ矩形に対する色設定レジスタの
設定例を示す説明図である。
【図6】図5に示すレジスタの設定によってフレームバ
ッファに矩形領域を塗りつぶした様子と、Zバッファの
矩領域にZ値を設定した様子を示す説明図である。
【図7】図1に示す画像描画装置においてZバッファを
クリアする場合の動作を示すフローチャートである。
【図8】ウインドウ表示システムにおいて、ウインドウ
のCRT画面上での移動に伴って、フレームバッファの
描画データとZバッファのZ値データとが移動する状態
を示す説明図である。
【図9】本発明の第2の形態例による画像描画装置の二
次元描画回路の構成を示すブロック図である。
【図10】図9に示す二次元描画回路に設けられるレジ
スタ部の具体例を示す説明図である。
【図11】図1に示す画像描画装置においてZバッファ
の矩形領域の転送動作を示すフローチャートである。
【図12】従来の画像描画装置の構成例を示すブロック
図である。
【図13】図12に示す画像描画装置における三次元直
線描画回路の構成を示すブロック図である。
【図14】図13に示す三次元直線描画回路を用いて任
意のベクトル(直線)を描画する場合のZ値の演算処理
を説明する説明図である。
【符号の説明】
200……二次元描画回路、210……CRT、220
……フレームバッファ、230……Zバッファ、240
……バッファメモリ、250……メモリ制御回路、26
0……三次元直線描画回路、270……プロセッサ、2
80……メインメモリ、300……レジスタ部、302
……描画用ピクセルバイト数設定レジスタ、304……
描画用先頭アドレス設定レジスタ、306……始点設定
レジスタ、308……幅・高さレジスタ、310……描
画モード設定レジスタ、312……開始設定レジスタ、
314……色設定レジスタ、320……転送元矩形始点
位置設定レジスタ、322……転送先矩形始点位置設定
レジスタ、330……メモリアドレス演算部。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表示装置の表示画面に対応する表示用
    データを格納するフレームバッファと、 前記フレームバッファに特定の二次元画像を描画するた
    めの座標演算を行う二次元描画回路と、 前記フレームバッファに対して三次元描画を行うための
    奥行きデータを格納するZバッファと、 前記Zバッファに格納された奥行きデータに基づいて前
    記フレームバッファに三次元描画を行う三次元直線描画
    回路とを有する画像描画装置において、 前記フレームバッファおよびZバッファの各領域を同一
    物理メモリ上に設定するとともに、各バッファへのアク
    セスを制御するメモリ制御回路と、 前記二次元描画回路の座標演算における1画素あたりの
    ビット数を前記フレームバッファの描画データに対応す
    るビット数または前記Zバッファの奥行きデータに対応
    するビット数に変更するビット数変更手段とを設け、 前記二次元描画回路の座標演算における1画素あたりの
    ビット数を前記ビット数変更手段で変更することによ
    り、前記フレームバッファへの描画と前記Zバッファへ
    の奥行きデータの設定とを前記二次元描画回路の座標演
    算によって選択的に行うようにした、 ことを特徴とする画像描画装置。
  2. 【請求項2】 前記ビット数変更手段は、1画素あた
    りのビット数をバイト単位で変更するものである請求項
    1記載の画像描画装置。
  3. 【請求項3】 前記ビット数変更手段は、前記二次元
    描画回路内に設けた1画素あたりのビット数を設定する
    ビット数設定部に前記フレームバッファまたは前記Zバ
    ッファに対応するビット数を設定するように構成される
    請求項1記載の画像描画装置。
  4. 【請求項4】 前記二次元描画回路は、特定図形の描
    画領域を設定する領域設定部を有し、 前記領域設定部に設定する描画領域のアドレスに基づい
    て、前記フレームバッファまたは前記Zバッファに選択
    的にアクセスするようにした請求項1記載の画像描画装
    置。
  5. 【請求項5】 前記二次元描画回路は、1画素あたり
    のビット数を設定するビット数設定部、前記特定図形内
    に書き込むデータを設定するデータ設定部とを有し、 前記フレームバッファへの描画時には、前記ビット数設
    定部に前記フレームバッファに対応するビット数を格納
    するとともに、前記データ設定部に色データを格納し、 前記Zバッファへの設定時には、前記ビット数設定部に
    前記Zバッファに対応するビット数を格納するととも
    に、前記データ設定部に奥行きデータを格納するように
    した請求項1記載の画像描画装置。
  6. 【請求項6】 前記二次元描画回路は、二次元直線を
    描画する回路である請求項1記載の画像描画装置。
  7. 【請求項7】 前記二次元描画回路は、二次元矩形領
    域を塗りつぶす回路である請求項1記載の画像描画装
    置。
  8. 【請求項8】 前記二次元描画回路は、二次元矩形画
    像を他の位置を転送する回路である請求項1記載の画像
    描画装置。
  9. 【請求項9】 前記三次元直線描画回路は、入力され
    た三次元直線上の各点における奥行きデータと、前記Z
    バッファに予め格納されている奥行きデータとを比較
    し、奥行きの小さい方のデータを選択して前記フレーム
    バッファ上のデータを書き換える処理を行う請求項1記
    載の画像描画装置。
  10. 【請求項10】 前記物理メモリ上に、1画素あたり
    のビット数と大きさの等しい2つのフレームバッファを
    設定し、前記ビット数変更手段によるビット数の変更を
    行うことなく前記各フレームバッファへの描画を交互に
    行うことにより、前記各フレームバッファをアニメーシ
    ョン用のダブルバッファとして用いるようにした請求項
    1記載の画像描画装置。
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