JPH1178003A - 液体噴射記録ヘッド及びその製造方法、及び液体噴射記録ヘッドの駆動回路及び駆動方法 - Google Patents
液体噴射記録ヘッド及びその製造方法、及び液体噴射記録ヘッドの駆動回路及び駆動方法Info
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Abstract
クトな構造で実現すること、及び圧電素子の駆動電圧を
上げ、駆動電圧波形の立ち上がり時間を短縮すること。 【解決手段】 ヘッド基板上の上電極と薄膜トランジス
タを用いた駆動回路の出力端子を向かい合わせに接続す
る構成にした。また、前記駆動回路のアナログスイッチ
をPチャネル型薄膜トランジスタとし、圧電素子駆動開
始のタイミングを前記アナログスイッチの導通開始のタ
イミングより遅らせる。
Description
に用いられる液体噴射記録ヘッド及びその製造方法、及
び液体噴射記録ヘッドの駆動回路及び駆動方法に関す
る。
接した液室を有する液体噴射記録ヘッド、並びに液体供
給系を具備し、液室内に充満している液体にエネルギー
を与えることにより、該液体がノズルから噴射され、こ
れにより文字や画像情報の記録が行われるものである。
液体にエネルギーを与える手段としては、圧電素子を用
いて液室内液体を加圧する手段、またはヒータを用いて
液室内液体を加熱する手段が一般的である。本発明は、
この内、圧電素子を用いて液室内液体を加圧する手段を
持つ、液体噴射記録ヘッド及びその製造方法に関する。
いた液体噴射記録装置においては、前記圧電素子を駆動
するための電圧パルス波形を発生させる駆動回路が具備
される。本発明は、この駆動回路に薄膜トランジスタ
(以下、TFTと示す)、特に多結晶珪素をチャネル部
に用いた薄膜トランジスタ(以下、poly−Si T
FTと示す)を用いた場合の、液体噴射記録ヘッドの駆
動回路及び駆動方法に関する。
ては、特開平5−822140がある。同従来例記載の
特許においては、単結晶珪素基板に液室、液体流路、液
体貯蔵室が形成され、液室上に振動板及び圧電膜を用い
た圧電素子が形成された液体噴射記録ヘッド及びその製
造方法が開示されている。
来例における液体噴射記録ヘッドにおいては、以下に述
べるような課題がある。同従来例においては、平面的に
配置された液室と液体貯蔵室が液体流路を介して接続さ
れている構成になっている。従って、同従来例における
液体噴射記録ヘッドは平面的に大きなものとなってい
る。また、同従来例においては、圧電素子へ駆動信号を
入力する部分の構成が明示されていないが、通常は液体
噴射記録ヘッド端部に設けられた電極取り出し用の接続
端子に配線パターンがついた実装テープが接続され、前
記実装テープにMOSトランジスタによる駆動回路が形
成された半導体集積回路が接続される構成となってい
る。従って、従来の液体噴射記録ヘッドは、平面的のみ
ならず、立体的にも大きなスペースを要するものであっ
た。また、半導体集積回路による駆動回路を用いている
ため、ノズル数が増加した場合、特に百ノズル以上のラ
イン液体噴射記録ヘッドを形成した場合、極端に大きな
スペースを要するとともに、駆動回路が非常に高価なも
のとなっていた。前記駆動回路を低価格化するため、T
FT、特にpoly−Si TFTにより駆動回路を構
成することが考えられたが、TFT信頼性の面からあま
り駆動電圧を上げることが出来ず、また、TFTはMO
Sトランジスタに比べON抵抗が大きいため、圧電素子
を駆動するための電圧波形の立ち上がり時間が長くかか
り、液体噴射記録ヘッドにおける液体噴射特性の劣化を
招いていた。
されたものであり、以下の点を目的とするものである。
ヘッドを平面的、立体的にコンパクトな構造で実現する
こと。
録ヘッドを、効率的な方法で製造すること。
出来、また、駆動電圧波形の立ち上がり時間を短縮する
ことの出来る、TFTを用いた液体噴射ヘッドの駆動回
路、駆動方法を提供すること。
め、本発明の液体噴射記録ヘッドは、 (1)ノズル、噴射すべき液体を保持するための液室、
前記液室上に形成された振動板、前記振動板を貫通する
液体供給孔、前記振動板上に形成された下電極、圧電
膜、上電極より成る圧電素子を具備し、各々が複数個配
列されて成り、前記圧電素子を絶縁基板上に設けた薄膜
トランジスタを用いた駆動回路で駆動し、前記振動板を
たわませ前記液室の体積を変化させることにより、該液
室内に供給された液体を前記ノズルより外部に噴射させ
る液体噴射記録ヘッドにおいて、前記ノズル、液室、振
動板、液体供給孔及び圧電素子が形成されて成るヘッド
基板上の前記上電極と前記絶縁基板上の薄膜トランジス
タを用いた駆動回路の出力端子を向かい合わせに接続
し、前記絶縁基板における薄膜トランジスタのない面に
実装基板を設け、前記ヘッド基板及び前記絶縁基板端面
及び前記実装基板により囲まれた空間を封止し、前記液
室に供給する液体を貯蔵する液体貯蔵室を形成したこ
と。
駆動回路の出力端子の配列ピッチを同一としたこと。
子の接続部に、保護層を設けたこと。
ける接続端子を前記ヘッド基板の両側端に配置し、隣接
した前記上電極の接続端子はそれぞれ前記ヘッド基板の
別側端に配置され、前記絶縁基板上の薄膜トランジスタ
を用いた回路を2個設け、前記ヘッド基板両側端の接続
端子と前記2個の絶縁基板上の薄膜トランジスタを用い
た回路の出力端子をそれぞれ向かい合わせに接続し、前
記2個の絶縁基板における薄膜トランジスタのない面に
実装基板を設け、前記ヘッド基板及び前記2個の絶縁基
板端面及び前記実装基板により囲まれた空間に前記液室
に供給する液体を貯蔵する液体貯蔵室を形成したこと。
ターンを千鳥状に配列し、該上電極パターンにおける前
記接続端子を隣接した上電極パターン端の外側に配置
し、前記振動板を貫通する液体供給孔を上電極パターン
端の外側かつ隣接した上電極の接続端子より内側に配置
したこと。
子を2列配列し、前記圧電素子の上電極における接続端
子を前記ヘッド基板の両側端に配置し、前記絶縁基板上
の薄膜トランジスタを用いた回路を2個設け、前記ヘッ
ド基板両側端の接続端子と前記2個の絶縁基板上の薄膜
トランジスタを用いた回路の出力端子をそれぞれ向かい
合わせに接続し、前記2個の絶縁基板における薄膜トラ
ンジスタのない面に実装基板を設け、前記ヘッド基板及
び前記2個の絶縁基板端面及び前記実装基板により囲ま
れた空間に前記液室に供給する液体を貯蔵する液体貯蔵
室を形成したこと。を特徴とする。また、本発明の液体
噴射記録ヘッドの製造方法は、 (7)ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び下電極、
圧電膜、上電極より成る圧電素子が形成されて成るヘッ
ド基板における前記上電極と、絶縁基板上に設けた薄膜
トランジスタを用いた駆動回路の出力端子を向かい合わ
せに接続する工程、前記上電極と前記駆動回路の出力端
子の接続部に保護層を形成する工程、及び前記絶縁基板
の薄膜トランジスタのない面に実装基板を設ける工程を
有すること。
ない面に実装基板を設ける工程の後に、前記ヘッド基板
及び前記絶縁基板端面及び前記実装基板により囲まれた
空間を封止する工程を有すること。
録ヘッドの駆動回路は(9)ノズル、噴射すべき液体を
保持するための液室、前記液室上に形成された振動板及
び圧電素子を具備し、各々が複数個配列されて成り、前
記圧電素子を駆動し、前記振動板をたわませ、前記液室
の体積を変化させることにより、該液室内に供給された
液体を前記ノズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘ
ッドにおける前記圧電素子を駆動するための駆動回路に
おいて、該駆動回路を薄膜トランジスタによる走査回路
とアナログスイッチにより構成し、前記アナログスイッ
チをPチャネル型薄膜トランジスタにより構成し、前記
アナログスイッチの出力端子を前記圧電素子の片側の電
極に接続し、前記圧電素子のもう一方の電極から圧電素
子駆動信号を入力するようにしたこと。
ル型薄膜トランジスタのチャネル長をL、チャネル幅を
W、前記圧電素子の容量をCとしたとき、 C/(L・W)≧3.3×10−2 (F/m2) の関係を満たすこと。
録ヘッドの駆動方法は、 (11)前記圧電素子駆動信号における圧電素子の駆動
を開始するタイミングを、前記アナログスイッチが導通
を開始するタイミングより遅らせたこと。
面を参照しながら説明する。
る液体噴射記録ヘッドの斜視図、図2はその断面図、図
3は本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドにおけ
る、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が
形成されて成るヘッド基板の斜視図、図4は本発明の実
施例における液体噴射記録記録ヘッドにおける、駆動回
路を構成する絶縁基板上のTFTの断面図を示す。
ドの構成を説明する。101はノズル、102はノズル
プレート、103は液室、104は液室下に張られた振
動板、105は振動板を貫通する液体供給孔、106は
液室の隔壁であり、前記101乃至106の構成要素に
よりヘッド基板が構成されている。圧電素子は図示され
ていないが、振動板104のさらに下側に配置されてい
る。107はTFTを用いた駆動回路が形成された絶縁
基板であり、TFTは図示されていないが、絶縁基板1
07の上側に配置されている。108は実装基板であ
り、絶縁基板107のTFTのない面に設けられてい
る。109は前記ヘッド基板及び絶縁基板107の端面
及び実装基板108により囲まれた空間を封止するため
の封止用構造体であり、これらによって封止された空間
が液体貯蔵室110となっている。
ドの詳細な構成、製造方法、及び液体噴射の動作を説明
する。ヘッド基板は、ノズル101、ノズルプレート1
02、液室103、振動板104、液体供給孔105、
液室の隔壁106、及び下電極111、圧電膜112、
上電極113、保護膜114により構成される。下電極
111、圧電膜112、及び上電極113により圧電素
子が構成され、該圧電素子の上下電極間に電圧が印加さ
れると、圧電膜112が変形し、この結果圧電素子は振
動板104や保護膜114ごと変形する。保護膜114
には開口部が形成され、この開口部に形成された接続電
極115を介してヘッド基板の上電極113とTFTを
用いた駆動回路が形成された絶縁基板107上の駆動回
路の出力端子(図示せず)が向かい合わせに接続されて
いる。この電極接続部には保護層116が形成されてい
る。絶縁基板107のTFTのない面には実装基板10
8が設けられ、これらにより囲まれた空間を封止用構造
体109により封止し、液体貯蔵室110が形成され
る。この、液体噴射記録ヘッドの製造方法は、ノズル1
01、ノズルプレート102、液室103、振動板10
4、液体供給孔105、液室の隔壁106、下電極11
1、圧電膜112、上電極113、保護膜114より成
るヘッド基板の保護膜114の開口部に、例えば金によ
り接続電極115としてバンプを形成し、図示されてい
ない、TFTを用いた駆動回路が形成された絶縁基板1
07上の駆動回路の出力端子上に、例えばハンダをのせ
ておき、これらを向かい合わせにして位置を合わせ、熱
をかけて接合、接続する。この接続工程後、接続部に保
護層116を、例えば絶縁性のエポキシ材で形成し、接
続部を電気的、機械的に保護する。そして絶縁基板10
7におけるTFTのない面に、例えばガラスで形成した
実装基板108を接着して設け、さらに封止用構造体1
09を、例えば水和ガラスを乾燥させることにより設け
て、本実施例の液体噴射記録ヘッドが完成する。バンプ
形成は、絶縁基板107上の駆動回路の出力端子上に行
っても良く、また、これとヘッド基板電極との接続は異
方性導電膜などの材料を用いて接続して良い。さらにこ
の接続部の保護層106に、水和ガラス等の材料を用い
て良い。この液体噴射記録ヘッドの動作は、以下の通り
となる。まず、液室103及び液体貯蔵室110に液体
を満たしておく。絶縁基板107上のTFTによる駆動
回路からの正電源信号が圧電素子の上電極113に印加
される。この時、圧電素子の下電極111には、圧電素
子駆動用信号が入力され、圧電素子の上下電極間に電圧
が印加される。この時圧電膜112が変形し、この結果
圧電素子は振動板104や保護膜114ごと、図中上側
に変形する。従って、液室103に満たされている液体
は、ノズル101を通って外部に噴射される。その後圧
電素子の上下電極間に印加されている電圧を元の状態に
戻すと、圧電素子、振動板104、保護膜114は元の
状態に戻り、液体貯蔵室110に満たされている液体は
毛細管現象により液体供給孔105を介して液室103
に供給され、液室103中を満たす。この時、同時に外
部から液体貯蔵室110内を満たすように液体が供給さ
れる。以上の動作を繰り返すことにより、液体噴射記録
ヘッドより液体が断続的に噴射される。
記録ヘッドにおけるヘッド基板の構成をさらに説明す
る。同図において、図1及び図2と同一の記号はそれぞ
れ同一のものを表わす。117は保護膜114の開口部
であり、圧電素子の上電極113から、従ってこのヘッ
ド基板からの接続端子となる。図示していないが、実際
には保護膜114の開口部は圧電素子の下電極111上
にも形成され、下電極111には圧電素子駆動用信号が
供給される。
記録ヘッドにおけるTFTを用いた駆動回路の断面構成
を説明する。絶縁基板107上にTFTのソース・ドレ
イン部118及びチャネル部119が、例えばpoly
−Si薄膜により形成される。ソース・ドレイン部には
リンまたはホウ素等の不純物が拡散されている。チャネ
ル部119上にゲート絶縁膜120が例えば2酸化珪素
膜により形成され、さらにゲート電極121が例えばタ
ンタルにより形成される。その上に層間絶縁膜122が
例えば2酸化珪素により形成され、金属配線層123が
例えばアルミニウムにより形成される。最後に保護層1
24を例えば2酸化珪素により形成し、保護層124に
開口部を形成することにより、駆動回路の出力端子12
5を形成し、TFTによる駆動回路が完成する。この駆
動回路の出力端子125の配列ピッチを、前記圧電素子
の配列ピッチと同一のものとすることにより、本実施例
の液体噴射記録ヘッドを構成することが可能となる。
電極113と絶縁基板107上のTFTを用いた駆動回
路の出力端子125を向かい合わせに接続し、絶縁基板
107におけるTFTのない面に実装基板108を設
け、前記ヘッド基板及び絶縁基板107の端面及び実装
基板108により囲まれた空間を封止し、液体貯蔵室1
10を形成すること、また、前記ヘッド基板上の圧電素
子の配列ピッチと駆動回路の出力端子125の配列ピッ
チを同一とすることにより、百ノズル以上のライン液体
噴射記録ヘッドにおいても、平面的、立体的にコンパク
トな構造で実現することが可能となった。また、上電極
113と駆動回路の出力端子125の接続部に保護層1
16を設けることにより、接続部の機械的な保護、電気
的な絶縁を行うことが可能となり、導電性の液体も噴射
させることが可能となった。また、ヘッド基板上の上電
極113と絶縁基板107上のTFTを用いた駆動回路
の出力端子125を向かい合わせに接続した後、この接
続部に保護層116を形成し、その後絶縁基板107の
TFTのない面に実装基板を設けることにより、保護層
116の形成が容易となり、また、同保護層の塗布むら
等の検査及び修復が容易となり、液体噴射記録ヘッドの
製造方法が効率的となった。
ける液体噴射記録ヘッドにおけるヘッド基板において、
上電極の接続端子をその配列ピッチが圧電素子の配列ピ
ッチと同一で、かつ前記接続端子のピッチ方向の長さを
液室上の上電極のピッチ方向長さより長くしたヘッド基
板の斜視図である。同図において図3と同一の記号は図
3と同一のものを表わす。
113、接続端子117の配列ピッチ方向の長さが、液
室103上の上電極113のそれよりも長くなってい
る。このような構成とすることにより、接続端子117
の面積を大きくとることができるようになり、実施例1
中で示したようなTFTと用いた駆動回路の出力端子1
25を向かい合わせに接続した場合の接続端子部におい
て、さらに機械的な強度の増大、電気的抵抗の低減、製
造上不良の低減を図ることが出来た。
ドのノズルを高密度化したときに有効である。例えばノ
ズル密度360dpi(約70.5μmピッチ)の場合
は液室103上の上電極113の配列ピッチ方向長さが
30μm程度となり、この電極幅ではTFTによる駆動
回路の出力端子と向かい合わせに接続することが困難で
あるが、本実施例の構成をとることにより、ヘッド基板
の接続端子117の配列ピッチ方向長さを50μm程度
とすることが可能となり、TFTによる駆動回路の出力
端子と向かい合わせに接続することが可能となる。
る、ヘッド基板の両側端にTFTを用いた駆動回路を設
けた液体噴射記録ヘッドの斜視図、図7は該液体噴射記
録ヘッドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔
及び圧電素子が形成されて成るヘッド基板の平面図であ
る。図6及び図7において図1及び図3と同一の記号は
それぞれ図1及び図3と同一のものを表わす。
ドの構成を説明する。ノズル101、ノズルプレート1
02、液室103、振動板104、液体供給孔105、
液室の隔壁106、さらに同図中振動板104下に形成
された圧電素子(図示せず)により構成されるヘッド基
板における、圧電素子の上電極における接続端子(図示
せず)がヘッド基板の両側端に配置され(詳細は後
述)、TFTによる駆動回路が設けられた絶縁基板10
7がヘッド基板の両側に配置され、ヘッド基板の両側端
に設けられた圧電素子の上電極における接続端子と絶縁
基板107上のTFTによる駆動回路の出力端子(図示
せず)が向かい合わせに接続される。2個の絶縁基板1
07のTFTがない面には1個の実装基板108が設け
られ、ヘッド基板、2個の絶縁基板107の端面、実装
基板108で囲まれた空間が液体貯蔵室110となって
いる。
ドにおける、ヘッド基板の平面構成を説明する。液室1
03は一列に配列され、圧電素子の上電極113は液室
103と隔壁106をまたぐように千鳥状に配列されて
いる。上電極113の接続端子117は、隣接した上電
極のパターン端及び液室のパターン端の外側に配置さ
れ、また、振動板(図示せず)を貫通する液体供給孔1
05は、上電極パターン端の外側で液室パターン端の内
側、かつ隣接した上電極の接続端子の内側に配置されて
いる。
ドは、ヘッド基板における接続端子117の配列ピッチ
を液室103の配列ピッチの倍にすることが出来るた
め、より高密度にノズル形成する液体噴射記録ヘッドに
おいても、ヘッド基板とTFTによる駆動回路との接続
を可能にする。
る、ノズル、液室、振動板、圧電素子を2列配列した液
体噴射記録ヘッドの斜視図、図9は該液体噴射記録ヘッ
ドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧
電素子が形成されて成るヘッド基板の平面図である。図
8及び図9において図1及び図3と同一の記号はそれぞ
れ図1及び図3と同一のものを表わす。
ドの構成を説明する。ノズル101、ノズルプレート1
02、液室103、振動板104、液体供給孔105、
液室の隔壁106、さらに同図中振動板104下に形成
された圧電素子(図示せず)により構成されるヘッド基
板において、ノズル101、液室103、振動板10
4、液体供給孔105、圧電素子(図示せず)が2列配
列されている。圧電素子の上電極における接続端子(図
示せず)がヘッド基板の両側端に配置され(詳細は後
述)、TFTによる駆動回路が設けられた絶縁基板10
7がヘッド基板の両側に配置され、ヘッド基板の両側端
に設けられた圧電素子の上電極における接続端子と絶縁
基板107上のTFTによる駆動回路の出力端子(図示
せず)が向かい合わせに接続される。2個の絶縁基板1
07のTFTがない面には1個の実装基板108が設け
られ、ヘッド基板、2個の絶縁基板107の端面、実装
基板108で囲まれた空間が封止用構造体109で各列
毎にしきられ、液体貯蔵室110となっている。
ドにおける、ヘッド基板の平面構成を説明する。液室1
03は2列に配列され、圧電素子の上電極113は液室
103と隔壁106をまたぐように2列に配列されてい
る。上電極113の接続端子117は、ヘッド基板(隔
壁106の外形に同じ)の両側端に配置され、また、振
動板(図示せず)を貫通する液体供給孔105は、上電
極パターン端の外側で液室パターン端の内側に配置され
ている。
ドは、2列同時の液体噴射記録を可能にするため、液体
噴射記録の高速化、カラー化を容易にし、またさらに2
列のノズル等を千鳥状に配列することにより、液体噴射
記録の高密度化も可能にする。
ける、液体噴射記録ヘッドの駆動回路図である。501
は走査回路であり、TFTにより構成される。この走査
回路はシフトレジスタで構成すればよいが、その出力段
にバッファーインバーター等が設けられていても良い。
502及び503は、走査回路501の出力信号線であ
り、それぞれPチャネル型TFTによるアナログスイッ
チ504及び505のゲートに接続される。506及び
507はそれぞれアナログスイッチ504及び505の
出力端子であり、前記実施例における絶縁基板上に形成
したTFTによる駆動回路の出力端子に相当する。アナ
ログスイッチの出力端子506及び507はそれぞれ圧
電素子510及び511の上電極の接続端子508及び
509に接続される。圧電素子510及び511のもう
一方の電極(下電極)は、圧電素子駆動信号入力端子5
12に接続される。また、アナログスイッチ504及び
505のもう一つの端子は、正電源入力端子513に接
続される。
射記録ヘッドの駆動信号のタイミング図である。601
及び602はそれぞれ走査回路501の出力信号線50
2及び503に印加される電圧波形である。603は、
圧電素子駆動信号入力端子512に印加される圧電素子
駆動信号の電圧波形の一例であり、604は、圧電素子
駆動信号入力端子512に印加される圧電素子駆動信号
の別の電圧波形の例である。同図を基に、本実施例の液
体噴射記録ヘッドの駆動回路の動作を説明する。
02の電圧波形601が“ハイ”の状態から立ち下がり
始め、時刻t2に“ロー”の状態となる。この時Pチャ
ネル型TFTによるアナログスイッチは完全に導通の状
態となり、圧電素子510の上電極には正電位(前記
“ハイ”の電位と同電位)が印加される。その後、時刻
t3には圧電素子駆動信号603の電位が負電位とな
り、圧電素子510の下電極に負電位が印加され、圧電
素子510の上下電極間に電圧が印加され、圧電素子5
10は駆動される。この時、圧電素子511において
は、下電極は負電位となるものの、アナログスイッチ5
05のゲート電位は“ハイ”であるため、該アナログス
イッチは非導通の状態であるため、圧電素子511の上
電極の電位も負電位となり、駆動されない。時刻t4に
は圧電素子510の下電極の電位が正電位に戻り、該圧
電素子の駆動が終了する。その後時刻t5にはアナログ
スイッチ504のゲート電位が立ち上がり始め、同時に
アナログスイッチ505のゲート電位が立ち下がり始め
る。時刻t6にはアナログスイッチ504のゲート電位
は“ハイ”の状態となり、該アナログスイッチは非導通
の状態となる。同時にアナログスイッチ505のゲート
電位が“ロー”の状態となり、該アナログスイッチは導
通の状態となる。そして同様の動作により、圧電素子5
11が駆動される。
圧電素子の駆動を開始するタイミングを、アナログスイ
ッチが導通を開始するタイミングより遅らせ、アナログ
スイッチが完全に導通した後としている。このような駆
動方法をとることにより、アナログスイッチが導通を開
始するタイミングで圧電素子の駆動を開始する場合に比
べ、圧電素子の上下電極間に印加される実質的な電圧波
形の立ち上がり時間を短縮することが出来、これによ
り、前記振動板の変形速度、加速度を増加させ、液体噴
射特性を向上させることができる。従って、オン抵抗の
大きなTFTを駆動回路に用いても、液体噴射特性の良
い液体噴射記録ヘッドを実現することが可能となった。
圧電素子を駆動しても良い。この場合は、圧電素子51
1のみを駆動する場合であるが、アナログスイッチ50
5が導通を開始する前の時刻t7に圧電素子の下電極に
小さな負電圧を印加しておく。時刻t6にアナログスイ
ッチ505は完全に導通し、圧電素子511の上電極は
正電位となり、上下電極間には小さな電圧が印加され
る。その後時刻t8には圧電素子511の下電極は正電
位となり、上下電極間は電位差なしの状態となる。その
後時刻t9に圧電素子511の下電極は負電位となり、
上下電極間には大きな電圧が印加され、該圧電素子は駆
動される。このような駆動方法をとることにより、圧電
素子は駆動される前に印加される小さな電圧により、分
極処理をされることになる。駆動される前に常に一定の
電圧で分極処理されるため、圧電素子はその圧電歪み定
数等の特性の劣化を低減されることになり、信頼性の良
い液体噴射記録ヘッドが実現されるようになった。
チャネル型TFTを用いているが、これは、本発明者が
鋭意研究の結果、大きな付加容量を駆動する場合は、N
チャネル型TFTよりPチャネル型TFTの方が、信頼
性がすぐれていることを見出したためである。具体的に
は後述する。また、さらに本発明者は、Pチャネル型p
oly−Si TFTによるアナログスイッチと圧電素
子を接続し、実際に603に示す圧電素子駆動信号波形
を用いて駆動実験を行い、駆動信号電圧振幅が20Vの
時、TFTのチャネル長をL、チャネル幅をW、圧電素
子の容量をCとしたとき、C/(L・W)≧3.3×1
0−2 (F/m2)の関係を満たしたときに、1ノズ
ルにつき室温で10億回液体噴射を繰り返しても、液体
噴射速度の低下分は初期状態の速度に対して1割以下と
なることを見出した。この、液体噴射速度の低下は圧電
素子の特性の低下と、TFTのオン抵抗の増大に起因す
るものであるが、この内のTFTのオン抵抗の増大は、
圧電素子の容量Cが大きくなるほど大きくなり、TFT
のチャネル長Lやチャネル幅Wが大きくなるほど小さく
なる。これは、TFTのチャネル部を流れる電流密度が
大きいほど、また容量の充電にかかる時間が長いほどT
FTのオン抵抗が増大することを示している。また、図
11に示す液体噴射記録ヘッドの駆動信号の位相を反転
させてNチャネル型poly−Si TFTによるアナ
ログスイッチを用いて同様の駆動実験を行ったところ、
駆動信号の電圧振幅は同様に20Vとし、C、L、Wを
Pチャネル型TFTと同一にしたとき、液体噴射速度の
低下分は初期状態の速度に対して3割程度となり、この
主原因はNチャネル型TFTのON抵抗の増大に起因す
ることがわかった。従って、本実施例におけるアナログ
スイッチに用いる場合には、明らかにPチャネル型TF
Tの方がNチャネル型TFTより高信頼性であり、圧電
素子駆動信号の電圧振幅、すなわち駆動電圧を大きくす
ることが可能である。
ける、複数の圧電素子を同時に駆動する液体噴射記録ヘ
ッドの駆動回路図であり、例えばカラー対応液体噴射記
録ヘッドの駆動回路にも適用可能なものである。同図に
おいて、501は走査回路であり、TFTにより構成さ
れる。この走査回路はシフトレジスタで構成すればよい
が、その出力段にバッファーインバーター等が設けられ
ていても良い。701及び702は、TFT走査回路5
01の出力信号線であり、それぞれPチャネル型TFT
によるアナログスイッチ703乃至706及び707乃
至710のゲートに接続される。アナログスイッチ70
3乃至706及び707乃至710の出力端子はそれぞ
れ圧電素子711乃至714及び715乃至718の上
電極に接続される。圧電素子711及び715のもう一
方の電極(下電極)は、圧電素子駆動信号入力端子71
9に接続される。同様に圧電素子712及び716、7
13及び717、714及び718の下電極は、それぞ
れ圧電素子駆動信号入力端子720、721、722に
接続される。また、アナログスイッチ703乃至710
のもう一つの端子は、正電源入力端子723に接続され
る。圧電素子駆動信号入力端子719、720、72
1、722にそれぞれ黒信号、シアン信号、黄信号、マ
ゼンタ信号を入力すれば、カラー対応液体噴射記録ヘッ
ドの駆動回路となる。
記録ヘッド及びその製造方法、及び液体噴射記録ヘッド
の駆動回路及び駆動方法を用いることにより、以下のよ
うな効果がある。
のTFTを用いた駆動回路の出力端子を向かい合わせに
接続し、前記絶縁基板におけるTFTのない面に実装基
板を設け、前記ヘッド基板、及び絶縁基板の端面及び実
装基板により囲まれた空間を封止し、液体貯蔵室を形成
すること、また、前記ヘッド基板上の圧電素子の配列ピ
ッチと駆動回路の出力端子の配列ピッチを同一とするこ
とにより、百ノズル以上のライン液体噴射記録ヘッドに
おいても、平面的、立体的にコンパクトな構造で実現す
ることが可能となった。
のTFTを用いた駆動回路の出力端子を向かい合わせに
接続した後、この接続部に保護層を形成し、その後絶縁
基板のTFTのない面に実装基板を設けることにより、
前記保護層の形成が容易となり、また、同保護層の塗布
むら等の検査及び修復が容易となり、液体噴射記録ヘッ
ドの製造方法が効率的となった。
の駆動回路において、アナログスイッチにPチャネル型
TFTを用い、TFTのチャネル長をL、チャネル幅を
W、圧電素子の容量をCとしたとき、C/(L・W)≧
3.3×10−2 (F/m2)の関係を満たすように
することにより、圧電素子の駆動電圧を上げることが出
来た。また、TFTを用いた液体噴射記録ヘッドの駆動
方法において、圧電素子駆動信号における圧電素子の駆
動を開始するタイミングを、アナログスイッチが導通を
開始するタイミングより遅らせることにより、実質的に
圧電素子の上下電極間に印加される駆動電圧波形の立ち
上がり時間を短縮することが出来た。
斜視図。
断面図。
おける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素
子が形成されて成るヘッド基板の斜視図。
ドにおける、駆動回路を構成する絶縁基板上のTFTの
断面図。
おけるヘッド基板において、上電極の接続端子をその配
列ピッチが圧電素子の配列ピッチと同一で、かつ前記接
続端子のピッチ方向の長さを液室上の上電極のピッチ方
向長さより長くしたヘッド基板の斜視図。
TFTを用いた駆動回路を設けた液体噴射記録ヘッドの
斜視図。
TFTを用いた駆動回路を設けた液体噴射記録ヘッドに
おける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素
子が形成されて成るヘッド基板の平面図。
板、圧電素子を2列配列した液体噴射記録ヘッドの液体
噴射記録ヘッドの斜視図。
おける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素
子が形成されて成るヘッド基板の平面図。
ドの駆動回路図。
ドの駆動信号のタイミング図。
同時に駆動する液体噴射記録ヘッドの駆動回路図。
Claims (11)
- 【請求項1】 ノズル、噴射すべき液体を保持するため
の液室、前記液室上に形成された振動板、前記振動板を
貫通する液体供給孔、前記振動板上に形成された下電
極、圧電膜、上電極より成る圧電素子を具備し、各々が
複数個配列されて成り、前記圧電素子を絶縁基板上に設
けた薄膜トランジスタを用いた駆動回路で駆動し、前記
振動板をたわませ前記液室の体積を変化させることによ
り、該液室内に供給された液体を前記ノズルより外部に
噴射させる液体噴射記録ヘッドにおいて、 前記ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が
形成されて成るヘッド基板上の前記上電極と前記絶縁基
板上の薄膜トランジスタを用いた駆動回路の出力端子を
向かい合わせに接続し、前記絶縁基板における薄膜トラ
ンジスタのない面に実装基板を設け、前記ヘッド基板及
び前記絶縁基板端面及び前記実装基板により囲まれた空
間を封止し、前記液室に供給する液体を貯蔵する液体貯
蔵室を形成したことを特徴とする、液体噴射記録ヘッ
ド。 - 【請求項2】 前記圧電素子の配列ピッチと、前記駆動
回路の出力端子の配列ピッチを同一としたことを特徴と
する、請求項1記載の液体噴射記録ヘッド。 - 【請求項3】 前記上電極と前記駆動回路の出力端子の
接続部に、保護層を設けたことを特徴とする、請求項1
記載の液体噴射記録ヘッド。 - 【請求項4】 前記ヘッド基板上の前記上電極における
接続端子を前記ヘッド基板の両側端に配置し、隣接した
前記上電極の接続端子はそれぞれ前記ヘッド基板の別側
端に配置され、前記絶縁基板上の薄膜トランジスタを用
いた回路を2個設け、前記ヘッド基板両側端の接続端子
と前記2個の絶縁基板上の薄膜トランジスタを用いた回
路の出力端子をそれぞれ向かい合わせに接続し、前記2
個の絶縁基板における薄膜トランジスタのない面に実装
基板を設け、前記ヘッド基板及び前記2個の絶縁基板端
面及び前記実装基板により囲まれた空間に前記液室に供
給する液体を貯蔵する液体貯蔵室を形成したことを特徴
とする、請求項1記載の液体噴射記録ヘッド。 - 【請求項5】 前記ヘッド基板上の前記上電極のパター
ンを千鳥状に配列し、該上電極パターンにおける前記接
続端子を隣接した上電極パターン端の外側に配置し、前
記振動板を貫通する液体供給孔を上電極パターン端の外
側かつ隣接した上電極の接続端子より内側に配置したこ
とを特徴とする、請求項4記載の液体噴射記録ヘッド。 - 【請求項6】 前記ノズル、液室、振動板、圧電素子を
2列配列し、前記圧電素子の上電極における接続端子を
前記ヘッド基板の両側端に配置し、前記絶縁基板上の薄
膜トランジスタを用いた回路を2個設け、前記ヘッド基
板両側端の接続端子と前記2個の絶縁基板上の薄膜トラ
ンジスタを用いた回路の出力端子をそれぞれ向かい合わ
せに接続し、前記2個の絶縁基板における薄膜トランジ
スタのない面に実装基板を設け、前記ヘッド基板及び前
記2個の絶縁基板端面及び前記実装基板により囲まれた
空間に前記液室に供給する液体を貯蔵する液体貯蔵室を
形成したことを特徴とする、請求項1記載の液体噴射記
録ヘッド。 - 【請求項7】 ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び
下電極、圧電膜、上電極より成る圧電素子が形成されて
成るヘッド基板における前記上電極と、絶縁基板上に設
けた薄膜トランジスタを用いた駆動回路の出力端子を向
かい合わせに接続する工程、前記上電極と前記駆動回路
の出力端子の接続部に保護層を形成する工程、及び前記
絶縁基板の薄膜トランジスタのない面に実装基板を設け
る工程を有することを特徴とする、液体噴射記録ヘッド
の製造方法。 - 【請求項8】 前記絶縁基板の薄膜トランジスタのない
面に実装基板を設ける工程の後に、前記ヘッド基板及び
前記絶縁基板端面及び前記実装基板により囲まれた空間
を封止する工程を有することを特徴とする、請求項7記
載の液体噴射記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項9】 ノズル、噴射すべき液体を保持するため
の液室、前記液室上に形成された振動板及び圧電素子を
具備し、各々が複数個配列されて成り、前記圧電素子を
駆動し、前記振動板をたわませ、前記液室の体積を変化
させることにより、該液室内に供給された液体を前記ノ
ズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘッドにおける
前記圧電素子を駆動するための駆動回路において、 該駆動回路を薄膜トランジスタによる走査回路とアナロ
グスイッチにより構成し、前記アナログスイッチをPチ
ャネル型薄膜トランジスタにより構成し、前記アナログ
スイッチの出力端子を前記圧電素子の片側の電極に接続
し、前記圧電素子のもう一方の電極から圧電素子駆動信
号を入力するようにしたことを特徴とする、液体噴射記
録ヘッドの駆動回路。 - 【請求項10】 前記アナログスイッチのPチャネル型
薄膜トランジスタのチャネル長をL、チャネル幅をW、
前記圧電素子の容量をCとしたとき、 C/(L・W)≧3.3×10−2 (F/m2) の関係を満たすことを特徴とする、請求項9記載の液体
噴射記録ヘッドの駆動回路。 - 【請求項11】 前記圧電素子駆動信号における圧電素
子の駆動を開始するタイミングを、前記アナログスイッ
チが導通を開始するタイミングより遅らせたことを特徴
とする、液体噴射記録ヘッドの駆動方法。
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