JPH1172940A - 電子写真感光体およびこれを用いた電子写真画像形成装置 - Google Patents
電子写真感光体およびこれを用いた電子写真画像形成装置Info
- Publication number
- JPH1172940A JPH1172940A JP10041931A JP4193198A JPH1172940A JP H1172940 A JPH1172940 A JP H1172940A JP 10041931 A JP10041931 A JP 10041931A JP 4193198 A JP4193198 A JP 4193198A JP H1172940 A JPH1172940 A JP H1172940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sealing
- photoreceptor
- temperature
- low
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/104—Bases for charge-receiving or other layers comprising inorganic material other than metals, e.g. salts, oxides, carbon
Abstract
の画像ノイズを発生しない電子写真感光体を提供するこ
と。 【解決手段】 アルミニウムまたはアルミニウム合金支
持体の表面を陽極酸化した後、低温封孔処理および高温
封孔処理を施して得られる感光体基体に、少なくとも感
光層を設けてなることを特徴とする電子写真感光体。
Description
て用いられる電子写真感光体およびこれを用いた電子写
真画像形成装置に関する。
してきており、最近では従来の装置とは比較にならない
程の高画質、高速性、静粛性により急速に普及し、中で
もデジタル信号のデータ処理システムの目覚ましい進歩
に伴い、レーザービームプリンタ、デジタル複写機等が
特に注目されてきた。これらの装置に用いられる画像形
成方法としては、光を照射した部分以外にトナーを付着
させて画像を形成する、従来からの正規現像方式だけで
なく、光の有効利用あるいは解像力を上げる目的から、
レーザービーム等の光を照射した部分にトナーを付着さ
せて画像を形成する反転現像方式が採用されている。
は、一般にアルミニウムまたはアルミニウム合金等の導
電性の感光体基体上に感光層を形成してなり、層構成と
しては、導電性基体上に、電荷発生層、電荷輸送層を順
次積層した機能分離積層型構成が広く用いられている。
このような感光体においては、現像時に導電性基体から
電荷発生層への電荷の注入が起こってトナー像が形成さ
れるべきでない所に形成される、いわゆる黒ポチ、ある
いはトナー像が形成されるべき所に形成されない、いわ
ゆる白ポチと言われる画像ノイズが発生するのを防止す
るため、感光体基体表面を陽極酸化して陽極酸化層を設
けるのが一般的であるが、かかる陽極酸化層を有する基
体上に上記感光層を形成しても感光層から陽極酸化層へ
の電荷の移動がスムーズにいかず、得られる感光体の特
性に悪影響を及ぼしたり、陽極酸化処理による該基体表
面積の増加により、処理液あるいは洗浄液中の不純物が
付着し、再び黒ポチあるいは白ポチが発生するという問
題が生じていた。
では陽極酸化処理した感光体基体表面を50〜80℃の
酢酸ニッケル水溶液により封孔処理する技術が、特開昭
63−214759号公報では陽極酸化処理した感光体
基体表面を25〜40℃のフッ化ニッケル水溶液により
封孔処理する技術が、特開昭63−311260号公報
では陽極酸化処理した感光体基体表面を40℃以下の赤
血塩水溶液等により低温封孔処理する技術が開示されて
いる。しかしながら、いずれの技術においても1段階の
封孔処理が行われるのみであり、上記問題を完全に解決
するには至っていないの現状である。
境下においても黒ポチあるいは白ポチ等の画像ノイズを
発生しない電子写真感光体を提供することを目的とす
る。
またはアルミニウム合金支持体の表面を陽極酸化した
後、低温封孔処理および高温封孔処理を施して得られる
感光体基体に、少なくとも感光層を設けてなることを特
徴とする電子写真感光体に関する。本発明はまた、少な
くとも感光体の表面を帯電させる手段、像露光後トナー
にて現像させる手段、該トナーを転写材に転写させる手
段からなる電子写真画像形成装置において、前記感光体
はアルミニウムおよびアルミニウム合金からなる導電性
支持体表面を陽極酸化した後、低温封孔処理および高温
封孔処理を施して得られる感光体基体に、少なくとも感
光層が設けられており、前記感光体を帯電させる手段は
感光体表面に接触して、感光体を帯電させる接触帯電手
段であることを特徴とする電子写真画像形成装置に関す
る。
ムまたはアルミニウム合金支持体表面を陽極酸化処理し
た後、低温封孔処理および高温封孔処理の2段階の封孔
処理を行うことによって得られる感光体基体上に感光層
を形成してなる電子写真感光体を用いることにより、い
かなる環境下においても黒ポチ等のノイズが発生しない
優れた画像を提供することができる。
またはアルミニウム合金支持体の材質については特に限
定されるものではなく、従来から用いられているものが
使用可能である。しかし、アルミニウム合金中の混在異
種金属の結晶粒径が大きいと酸化層の薄い部分ができて
抵抗値が低くなり、支持体から感光層側への電荷の注入
が生じやすくなる傾向があるため、混在異種金属の結晶
粒径が小さい材質のアルミニウム合金を用いることが好
ましい。
一般に、例えばクロム酸、硫酸、シュウ酸、ホウ酸、ス
ルファミン酸等の酸性浴中、公知の方法で行われるが、
本発明においては硫酸中での陽極酸化処理が最も良好で
ある。硫酸中での陽極酸化の場合、硫酸濃度は100〜
300g/l、好ましくは100〜200g/l、溶存
アルミニウム濃度は2〜15g/l、液温は15〜30
℃、好ましくは10〜30℃、電解電圧は5〜20V、
好ましくは10〜20Vの範囲に設定するのが望まし
い。さらに本発明においては、画像品質の観点から電流
密度0.3〜1.5A/dm2、好ましくは0.6〜
1.2A/dm2、より好ましくは0.7〜1.1A/
dm2程度の低電流密度にて、10分以上、好ましくは
15〜60分間程度の比較的長い時間にわたって陽極酸
化処理することが望ましい。
好ましくは2〜10μm、より好ましくは4〜8μmと
するのが望ましい。1μm未満であると、電荷注入防止
層としての陽極酸化層の機能が低下し、一方15μmを
越えるとコスト高となるだけでこれ以上の膜厚は必要な
い。
る。陽極酸化層における多孔質部分が不安定であるため
であり、一般に封孔処理することにより陽極酸化層の抵
抗値が増加し、陽極酸化層の電荷注入防止層としての機
能(ブロッキング性)がさらに向上する。
孔処理および高温封孔処理の2段階封孔処理が行われ
る。これら2種類の封孔処理の処理順序は、特に限定さ
れないが、低温封孔処理を行った後、高温封孔処理を行
うことが好ましい。この理由としては、低温封孔処理す
ることにより、陽極酸化処理層表面に形成された多孔質
部分の底部が充填され、高温封孔処理することにより多
孔質部分の入口付近が閉じて狭くなることから、先に孔
の底部が充填されてから、孔の入口が狭くなる順序の方
が封孔処理がスムーズにおこなわれるものと考えられ
る。
に陽極酸化層を浸漬させることにより行われる封孔処理
を意味し、その他の諸条件は公知の方法と同様である。
処理液中には所望により低温封孔剤として、例えば、フ
ッ化ニッケル、赤血塩等が含有されている。
ケルを用いる場合、フッ化ニッケルを濃度2〜7g/
l、好ましくは3〜6g/lで含む水溶液を、pH5.
0〜6.0、温度20〜40℃、好ましくは20〜35
℃に調整し、これに上記陽極酸化層を有する感光体基体
を1〜15分間、好ましくは2〜15分間浸漬すること
により行われる。温度が25℃以下では水溶液の拡散が
悪く、処理後の基体表面の封孔度が低下して、ブロッキ
ング性が低下し、耐刷時にカブリが生じるおそれがあ
る。一方、40℃を越えると得られる感光体基体と、そ
の上に形成される感光層との接着性が低下したり、封孔
度がかえって低下し、ブロッキング性が低下して耐刷時
にカブリを生じる。
血塩を濃度3〜20g/l、好ましくは10〜20g/
lで含む水溶液を、pH5.5〜6.0、温度25〜4
0℃、好ましくは25〜35℃に調整し、これに上記陽
極酸化層を有する感光体基体を1〜20分間、好ましく
は5〜15分間浸漬することにより行われる。温度が2
5℃以下では水溶液の拡散が悪く、処理後の基体表面の
封孔度が低下して、ブロッキング性が低下し、耐刷時に
カブリが生じるおそれがある。一方、40℃を越えると
得られる感光体基体と、その上に形成される感光層との
接着性が低下したり、封孔度がかえって低下し、ブロッ
キング性が低下して耐刷時にカブリを生じる。
低温封孔剤を用いる場合の他、例えば、純水による蒸気
封孔処理や加湿封孔処理を行ってもよい。蒸気封孔処理
を行う場合には、3.0〜6.0kg/cm2の水蒸気
圧下、30〜40℃で10〜30分間、好ましくは20
〜30分間放置することにより行われる。加湿封孔処理
を行う場合、相対湿度80%RH以上、温度30〜40
℃で1〜10日間放置することにより行われる。
は次いで高温封孔処理に供される。その際、低温封孔処
理後、純水により流水洗浄したものを高温封孔処理に供
することが好ましい。
で陽極酸化層を浸漬させることにより行われる封孔処理
を意味し、その他の諸条件は公知の方法と同様である。
処理液中には所望により高温封孔剤、例えば、酢酸ニッ
ケル、酢酸コバルト、酢酸鉛、酢酸ニッケル−コバル
ト、酢酸バリウム等の金属塩が含有されるが、特に酢酸
ニッケルを用いることが最も好ましい。
ルを用いる場合、酢酸ニッケルを濃度3〜20g/l、
好ましくは4〜12g/lで含む水溶液を、pH5.5
〜6.0、温度65〜100℃、好ましくは80〜98
℃に調整し、これに上記低温封孔処理済み陽極酸化層を
有する感光体基体を5〜40分間、好ましくは10〜3
0分間浸漬することにより行われる。温度が65℃以下
では処理後の基体表面の封孔度が低下して、ブロッキン
グ性が低下し、耐刷時にカブリが生じるおそれがある。
一方、100℃を越えると、実質的に処理器具等がコス
ト高となり現実的でなく、また、得られる感光体基体
と、その上に形成される感光層との接着性が低下した
り、封孔度がかえって低下し、ブロッキング性が低下し
て耐刷時にカブリを生じる。高温封孔剤として酢酸ニッ
ケル以外の酢酸コバルト、酢酸鉛、酢酸ニッケル−コバ
ルト、酢酸バリウム等の金属塩を用いる場合も、酢酸ニ
ッケルを用いる場合に準じて行われる。
孔剤を用いる場合の他、例えば、純水による熱水封孔処
理または蒸気封孔処理等を行ってもよい。熱水封孔処理
を行う場合、温度65〜100℃、好ましくは90〜9
8℃の熱水に10〜60分間、好ましくは20〜40分
間浸漬することにより行われる。蒸気封孔処理を行う場
合には、3.0〜6.0kg/cm2の水蒸気圧下、9
5〜98℃で10〜30分間、好ましくは10〜20分
間放置することにより行われる。
封孔処理、高温封孔処理の順に行われることが好ましい
が、逆に処理することもできる。この場合において、そ
れぞれの処理における具体的な方法および処理条件は上
述の通りである。
は、公知の方法により感光層が形成される。感光層とし
ては電荷発生層および電荷輸送層を順次積層した形態、
電荷輸送層および電荷発生層を順次積層した形態、電荷
輸送材料と電荷発生材料とを含む単層型の形態のいずれ
であってもよい。
輸送層を順次積層した形態の感光体を製造する場合につ
いて説明する。
るか、あるいはアミン等の溶媒に溶解せしめて塗布する
か、顔料を適当な溶剤もしくは必要があれば結着樹脂を
溶解させた溶液中に分散させて作製した塗布液を塗布乾
燥して電荷発生層を形成する。この上に、更に電荷輸送
材料および結着樹脂を含む溶液を塗布乾燥して電荷輸送
層を形成する。
としては、例えばビスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料、
トリアリールメタン系染料、チアジン系染料、オキサジ
ン系染料、キサンテン系染料、シアニン系色素、スチリ
ル系色素、ピリリウム系染料、アゾ系染料、キナクリド
ン系染料、インジゴ系顔料、ペリレン系顔料、多環キノ
ン系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料、インダスロ
ン系顔料、スクアリリウム系顔料、フタロシアニン系顔
料等の有機物質が挙げられる。この他、光を吸収して極
めて高い効率で電荷担体を発生する材料であれば、いず
れの材料であっても使用することができる。
送材料としては、有機物質が好ましく、例えばヒドラゾ
ン化合物、ピラゾリン化合物、スチリル化合物、トリフ
ェニルメタン化合物、オキサジアゾール化合物、カルバ
ゾール化合物、スチルベン化合物、エナミン化合物、オ
キサゾール化合物、トリフェニルアミン化合物、テトラ
フェニルベンジジン化合物、アジン化合物等種々の材料
を使用することができる。
着樹脂は電気絶縁性であり、単独で測定して1×1012
Ω・cm以上の体積抵抗を有することが望ましい。例え
ば、それ自体公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬
化性樹脂、光導電性樹脂等の結着材を使用することがで
きる。具体的には、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、イオン
架橋オレフィン共重合体(アイオノマー)、スチレン−
ブタジエンブロック共重合体、ポリカーボネート、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロースエステル、ポ
リイミド、スチロール樹脂等の熱可塑性樹脂;エポキシ
樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹
脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、アルキッド樹脂、熱
硬化アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂;光硬化性樹脂;ポ
リビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニル
アントラセン、ポリビニルピロール等の光導電性樹脂等
が挙げられ、これらの結着樹脂は単独もしくは2種以上
組み合わせて使用される。なお、電荷輸送材料がそれ自
身バインダーとして使用できる高分子電荷輸送材料であ
る場合は、他の結着樹脂を使用しなくてもよい。
ン化パラフィン、ポリ塩化ビフェニル、ジメチルナフタ
レン、ジブチルフタレート、O−ターフェニルなどの可
塑剤やクロラニル、テトラシアノエチレン、2,4,7
−トリニトロフルオレノン、5,6−ジシアノベンゾキ
ノン、テトラシアノキノジメタン、テトラクロル無水フ
タル酸、3,5−ジニトロ安息香酸等の電子吸引性増感
剤、メチルバイオレット、ローダミンB、シアニン染
料、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の増感剤を使用
してもよい。
理および高温封孔処理を施した陽極酸化層上に中間層を
設けた構成であってもよい。中間層に用いられる材料と
してはナイロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹
脂、ニトロセルロースポリビニルブチラール樹脂、ポリ
ビニルアルコール樹脂等が適当である。膜厚は0.1〜
30μm、好ましくは1〜30μm、より好ましくは1
〜20μmとする。
膜厚0.1〜10μmの表面保護層を設けてもよい。表
面保護層に用いられる材料としては、アクリル樹脂、ポ
リアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ウレタン樹
脂などが使用できる。また、表面保護層には、表面の硬
度や粗さを調整するために、無機フィラーおよび有機微
粒子等を添加してもよい。無機フィラーとしては、シリ
カ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化アル
ミニウム、酸化ジルコニウム等の金属酸化物、硫酸バリ
ウム、硫酸カルシウム等の金属硫化物、窒素ケイ素、窒
素アルミニウムおよびそれらの混合物等の金属窒素化物
が挙げられる。これらの中で好ましいものは、シリカ、
酸化チタン、酸化アルミニウムである。
ーン樹脂、アクリル樹脂、オレフィン樹脂等の各種微粒
子およびそれらの混合物が挙げられ、具体的にはポリテ
トラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン等のフッ
素樹脂ならびにポリエチレン、ポリプロピレン等のオレ
フィン樹脂からなる樹脂微粒子が好ましく挙げられる。
径あるいは長径が0.05〜2.0μm、望ましくは
0.05〜1.0μmのものを使用する。粒径が0.0
5μmを下回ると 、感光層表面に必要な機械的強度が
得られず、繰り返し像形成の過程で表面層が磨耗、損傷
し易くなり、かつ電子写真性能が劣化する。又、2μm
を上回ると感光層表面の表面粗さが大きくなり、クリー
ニング不良が起こる。上記微粒子は表面層総重量に対し
て、50重量%まで、好ましくは5〜35重量%であ
る。その含有量が50重量%より多くなると、感光体の
感度が低下し、耐刷時に残留電位が上昇しカブリが発生
する問題が生じる。
用することもできる。有機プラズマ重合膜は必要に応じ
て適宜酸素、窒素、ハロゲン、周期律表の第3族、第5
族原子を含んでいてもよい。
よって、反転現像方式、正規現像方式いずれの方式で
も、本発明の効果を得つつ、有効に使用することができ
るが、反転現像方式で用いることが特に好ましい。
まれる装置としては特に規定されず、フルカラー、カラ
ー、単色の複写機、プリンタ、リーダプリンタ等いずれ
であってもよい。また感光体の形状も特に限定されず、
ドラム状、ベルト状、板状等が例示される。
は、感光層表面の帯電を表面と接触しながら行う帯電部
材で構成されている複写システム、すなわち少なくとも
感光体の表面を帯電させる手段、像露光後トナーにて現
像させる手段、転写材に転写する手段および転写後クリ
ーニングする手段からなる電子写真画像形成装置におい
て、該帯電する手段が感光体表面に接触させて帯電させ
る接触帯電手段であることを特徴としている電子写真画
像形成装置に適している。かかる装置に使用される帯電
部材はブラシ状、ブレード状、フィルム状、およびロー
ラー状等で、レーヨン、ナイロン、ビニロン、ポリウレ
タン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリ塩化ビニル、フッ化エチレン等の樹脂中にカーボン
ブラック、炭素繊維、金属粉、金属ウイスカー、金属酸
化物等の抵抗調整剤を分散させた各種形態のものが知ら
れている。
説明する。
m、長さ350mm、厚さ1mm)の表面を、切り刃に
天然ダイヤモンドを用いたバイトで切削加工した。これ
を脱脂剤(界面活性剤)を用いて60±5℃で5分間脱
脂処理を行い、流水で洗浄した。次いで濃度10g/l
の硝酸により2分間エッチング処理した後、純水で流水
洗浄した。次に、電解液として150g/lの硫酸を用
いて、電解電圧18V、電流密度0.8A/dm2、液
温20℃で25分間陽極酸化処理を行い、厚さ7μmの
陽極酸化層を形成した。
成分とする低温封孔剤(CS−1;クラリアント社製)
水溶液(濃度15g/l、pH5.8)を用いて、30
℃で10分間低温封孔処理を行った。次に、これを純水
で流水洗浄した後、酢酸ニッケルを主成分とする高温封
孔剤(DX−500;奥野製薬工業社製)水溶液(濃度
7g/l、pH5.8)を用いて、85℃で20分間高
温封孔処理を行い、純水洗浄後、乾燥させ、感光体基体
を得た。
hoton:東洋インキ製造社製)1重量部とポリビニ
ルブチラール樹脂(エスレックBX−1、積水化学社
製)0.5重量部とをテトラヒドロフラン(THF)5
0重量部と共にサンドミルにより分散させた。得られた
フタロシアニン系の分散液を上記感光体基体に、乾燥後
の膜厚が0.3μmとなるように塗布し電荷発生層を形
成した。
重量部とポリカーボネート樹脂(パンライトK−130
0、帝人化成社製)10重量部とをジクロルメタン18
0重量部に分散させてなる塗布液を上記電荷発生層上に
塗布乾燥させて、膜厚24μmの電荷輸送層を形成し、
電子写真感光体を作製した。
00mm、長さ350mm、厚さ1mm)を用いたこ
と、および低温封孔処理工程において低温封孔剤として
フッ化ニッケルを主成分とする封孔剤(L−100;奥
野製薬工業社製)を用い、これの水溶液(濃度5g/
l、pH5.5)を用いて25℃で5分間低温封孔処理
を行ったこと以外、実施例1と同様にして、電子写真感
光体を作製した。
00mm、長さ350mm、厚さ1mm)を用いたこと
以外、実施例2と同様にして、電子写真感光体を作製し
た。
高温封孔処理工程において純水(熱水)を用いて95℃
で30分間高温封孔処理を行ったこと、および低温封孔
処理工程において低温封孔剤としてフッ化ニッケルを主
成分とする封孔剤(CS−N;クラリアントジャパン社
製)を用い、これの水溶液(濃度4g/l、pH5.
5)を用いて30℃で10分間低温封孔処理を行ったこ
と以外、実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製
した。
体上に、以下に従って感光層を形成し、電子写真感光体
を得た。
部、ブチラール樹脂(エスレックBX−1、積水化学社
製)0.25重量部およびフェノキシ樹脂(PKHH;
ユニオンカーバイド社製)0.25重量部をシクロヘキ
サノン50重量部と共にサンドミルにより48時間分散
させた。
記感光体基体に、乾燥後の厚さが0.4g/m2となる
ように塗布し電荷発生層を形成した。
ポリカーボネート樹脂(TS−2050、帝人化成社
製)60重量部、およびジブチルヒドロキシトルエン6
重量部をジクロルメタン400重量部に溶解した溶液を
上記電荷発生層上に塗布、乾燥させて、膜厚28μmの
電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
00mm、長さ350mm、厚さ1mm)を用いたこと
以外、実施例5と同様にして、電子写真感光体を作製し
た。
にして、電子写真感光体を作成した。
にして、電子写真感光体を作成した。
にして、電子写真感光体を作成した。
にして、電子写真感光体を作成した。
にして、電子写真感光体を作成した。
1〜4で得られた電子写真感光体をそれぞれフルカラー
複写機(CF80;ミノルタ社製、光源波長:0.78
μm、最大光量12.5erg/cm2)に搭載し、シ
ステムスピードが109mm/秒になるように改造し
た。この複写機の4つの現像器全てに純製黒色トナーを
補給し、黒色トナーによる4回重ねにより白ベタ画像を
複写し、初期および1000枚複写後における画像25
mm2中の黒ポチ(黒斑点)の個数を目視によりカウン
トし、以下に従って評価した。なお、上記複写は低温低
湿(10℃、15%RH)、中温中湿(23℃、45%
RH)および高温高湿(30℃、85%RH)それぞれ
の環境下において行い、全ての場合について評価した。 ○:14個以下; △:15〜29個; ×:30個以上。
5で得られた電子写真感光体をそれぞれ複写機(EP9
765;ミノルタ社製)に搭載し、黒色トナーを用いて
黒ベタ画像を複写し、初期および20万枚複写後におけ
る画像25mm2中の白ポチ(白斑点)の個数を目視に
よりカウントし、以下に従って評価した。なお、上記複
写は低温低湿(10℃、15%RH)、中温中湿(23
℃、45%RH)および高温高湿(30℃、85%R
H)それぞれの環境下において行い、全ての場合につい
て評価した。 ◎:0個 ○:1〜14個; △:15〜29個; ×:30個以上。
封孔処理および高温封孔処理を行うことによって得られ
た感光体基体に感光層を形成した感光体を用いると黒ポ
チあるいは白ポチ等の画像ノイズのない優れた画像を提
供でき、さらには低温封孔処理および高温封孔処理はい
ずれの処理を先に行っても良好な結果が得られることが
明らかになった。また、このようにして得られた感光体
基体は、該基体上に積層される感光層を選択することに
よって、反転現像方式および正規現像方式のいずれの方
式によっても有効に用いられ、いかなる環境下でも本発
明の感光体は黒ポチあるいは白ポチ等のない優れた画像
を提供できることが明らかになった。
mm、長さ254mm、厚さlmm)の表面を切り刃に
天然ダイヤモンドを用いたバイトで切削加エした。切
削加工したアルミニウム合金を脱脂剤としての界面活性
剤トップアルクリーン161(奥野製薬工業社製))3
0g/lを用いて60土5℃で5分間脱脂処理を行い、
流水で洗浄した。洗浄したアルミニウム基板を100g
/lの硝酸溶液に5分間浸漬し、エッチング処理を行
い、流水洗浄した。
いて、電流密度1A/dm2、液温20℃の条件で25
分間陽極酸化を行い、7μmの陽極酸化層を形成した。
酸化層を形成したアルミニウム基板を純水にて流水洗浄
した後、低温封孔剤としてフッ化ニッケルを主成分とす
る封孔剤(クラリアントジャパン社製:CS−N)6g
/1の水溶液(pH5.7)を用いて、30℃、5分間
封孔処理を行なった。次に純粋にて流水洗浄した後、高
温封孔として純水により95℃、30分間封孔処理を行
い、処理基板を純水にて洗浄し乾燥させた。
ン化合物;
0;帝人化成社製)50重量部および下記構造;
量部をジクロロメタン400重量部に溶解した液を乾燥
膜厚が18μmとなるように塗布し、感光層を形成し
た。
プリンター(RP603Z;ミノルタ社製)に搭載し、
黒色トナーを用いて黒ベタ画像を複写し、初期および1
000枚複写後における画像25mm2中の白ポチ(白
斑点)の個数を目視によりカウントし、以下に従って評
価した。なお、上記複写は低温低湿(10℃、15%R
H)、中温中湿(23℃、45%RH)および高温高湿
(30℃、85%RH)それぞれの環境下において行
い、全ての場合について評価した。 ◎:0個 ○:1〜15個; △:15〜29個; ×:30個以上。
含有の高温封孔剤(クラリアントジャパン社袋;シーリ
ングソルトAS)5g/l(pH5.6)とした水溶液
を用いて、95℃、20分間処理を行う以外は実施例7
と同様にして行い、本発明の電子写真感光体を作製し
た。得られた感光体を実施例7と同様に評価した。
mm、長さ250mm、厚さlmm)の表面を切り刃に
天然ダイヤモンドを用いたバイトで切削加工した。切削
加工したアルミニウム合金を脱脂剤としての界面活性剤
トップアルクリーン161(奥野製薬工業社製))30
g/lを用いて60土5℃で5分間脱脂処理を行い、流
水で洗浄した。
の硝酸溶液に5分間浸漬し、エッチング処理を行い、流
水洗浄した。
いて、電流密度1A/dm2、液温20℃の条件で15
分間陽極酸化を行い、8μmの陽極酸化層を形成した。
酸化層を形成したアルミニウム基板を純水にて流水洗浄
した後、低温封孔剤としてフッ化ニッケルを主成分とす
る封孔剤(CS−N;クラリアントジャパン社製)6g
/l(pH5.7)の水溶液を用いて、30℃、5分間
封孔処理を行なった。次に純粋にて流水洗浄した後、酢
酸ニッケル含有の封孔剤(シーリングソルトAS;クラ
リアントジャパン社製)を10g/l(pH5.8)と
した水溶液を用いて80℃、15分間封孔処理を行っ
た。
感光体基体上に、以下のようにして感光層を形成した。
X型フタロシアニン(8120B;大日本インキ工業社
製)4.5重量部とブチラール樹脂(エスレックBH−
3;積水化学社製)2.5重量部およびフェノキシ樹脂
(PKHH;ユニオンカーバイド社製)2.5重量部を
ジクロロエタン500重量部とともにサンドミルにより
分散した。得られた分散液を上記感光体基体上に、乾燥
後の膜厚が0.3μmとなるように塗布し電荷発生層を
形成した。
ト樹脂(TS−2050;帝人化成社製)60重量部、
下記構造;
東京化成社製)2重量部をテトラヒドロフラン400重
量部に溶解させてなる塗布液を上記電荷発生層上に塗布
乾燥させて、20μmの電荷輸送層を形成した。
1.5重量部、ポリカーボネート樹脂(ユーロピアンZ
800;三菱瓦斯化学社製)2重量部、フェノール化合
物ブチルヒドロキシトルエン(特級;東京化成社製)
0.3重量部およびシリカ微粒子(アエロジルR97
2;日本アエロジル社製)0.7重量部をジクロロメタ
ン100重量部に溶解、分散させてなる塗布液を上記電
荷輸送層上に塗布乾燥させて、2μmの表面層を形成し
て、本発明の電子写真感光体を作成した。
なわないこと以外は実施例8と同様にして電子写真感光
体を得た。
8と同様にして電子写真感光体を得た。
(CR90;石原産業社製)に代える以外は実施例8と
同様にして電子写真感光体を得た。
粒子(バイカロックスCP2320;バイコウスキージ
ャパン社製)に代える以外は実施例8と同様にして電子
写真感光体を得た。
エチレン微粒子の分散液(KD−200AS;喜多村社
製)1.75重量部に代える以外は実施例8と同様にし
て電子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体をそれぞれプリンター(SP1
01;ミノルタ社製)に搭載し、白ベタ画像を複写し、
初期および5000枚複写後における画像25mm2中
の黒ポチ(黒斑点)の個数を目視によりカウントし、以
下に従って評価した。なお、上記複写は低温低湿(10
℃、15%RH)、中温中湿(23℃、45%RH)お
よび高温高湿(30℃、85%RH)それぞれの環境下
において行い、全ての場合について評価した。 ○:14個以下; △:15〜29個; ×:30個以上。 また、連続コピー5000枚後(高温高湿)の感光体の
摩耗量も測定した。上記結果を下記表4に示す。
mm、長さ250mm、厚さlmm)の表面を切り刃に
天然ダイヤモンドを用いたバイトで切削加工した。切削
加工したアルミニウム合金を脱脂剤としての界面活性剤
トップアルクリーン161(奥野製薬工業社製))30
g/lを用いて60土5℃で5分間脱脂処理を行い、流
水で洗浄した。洗浄したアルミニウム基板を100g/
lの硝酸溶液に5分間浸漬し、エッチング処理を行い、
流水洗浄した。
いて、電流密度1A/dm2、液温20℃の条件で15
分間陽極酸化を行い、8μmの陽極酸化層を形成した。
酸化層を形成したアルミニウム基板を純水にて流水洗浄
した後、低温封孔剤としてフッ化ニッケルを主成分とす
る封孔剤(CS−N;クラリアントジャパン社製)6g
/l(pH5.7)の水溶液を用いて、30℃、5分間
封孔処理を行なった。次に純粋にて流水洗浄した後、酢
酸ニッケル含有の封孔剤(DX−500;奥野製薬工業
社製)を10g/l(pH5.6)とした水溶液を用い
て80℃、15分間封孔処理を行った。
感光体基体上に、以下のようにして感光層を形成した。
X型フタロシアニン(8120B;大日本インキ工業社
製)4.5重量部とブチラール樹脂(エスレックBH−
3;積水化学社製)2.5重量部およびフェノキシ樹脂
(PKHH;ユニオンカーバイド社製)2.5重量部を
ジクロロエタン500重量部とともにサンドミルにより
分散した。得られた分散液を上記感光体基体上に、乾燥
後の膜厚が0.3μmとなるように塗布し電荷発生層を
形成した。
重量部、ポリカーボネート樹脂(ユーロピンZ800;
三菱瓦斯化学社製)60重量部、化7のフェノール化合
物ブチルヒドロキシトルエン(特級;東京化成社製)2
重量部、シリカ微粒子(アエロジル200CF;日本ア
エロジル社製)15重量部をジクロロメタン400重量
部に溶解、分散させてなる塗布液を上記電荷発生層上に
塗布乾燥させて、20μmの電荷輸送層を形成して、本
発明の電子写真感光体を作製した。
を行なわないこと、酢酸ニッケルによる高温封孔を90
℃、20分間行い、純水にて流水洗浄後、純水の沸騰水
95℃、10分間浸漬処理を行った以外、実施例13と
同様にして電子写真感光体を得た。
を行なわないこと、酢酸ニッケルによる高温封孔を90
℃、20分間行い、純水にて流水洗浄後、純水の沸騰水
95℃、10分間浸漬処理を行い、電荷発生層の形成時
に無機微粒子を用いない以外は実施例1と同様にして電
子写真感光体を得た。
9で得られたそれぞれの電子写真感光体を感光体帯電方
式が接触帯電であるプリンター(SP1000;ミノル
タ社製)に搭載し、白ベタ画像を複写し、初期および5
000枚複写後における画像25mm2中の黒ポチ(黒
斑点)の個数を目視によりカウントし、以下に従って評
価した。なお、上記複写は低温低湿(10℃、15%R
H)、中温中湿(23℃、45%RH)および高温高湿
(30℃、85%RH)それぞれの環境下において行
い、全ての場合について評価した。 ○:14個以下; △:15〜29個; ×:30個以上。 また、連続コピー5000枚後(低温低湿)の感光体の
摩耗量も測定した。上記結果を下記表5に示す。
も黒ポチあるいは白ポチ等の画像ノイズを発生しない電
子写真感光体を提供することが可能となった。また、本
発明の感光体は形成される感光層を選択することによっ
て反転現像方式および正規現像方式のいずれの方式によ
っても有効に用いることができ、さらには耐久性にも優
れている。
Claims (2)
- 【請求項1】 アルミニウムまたはアルミニウム合金支
持体の表面を陽極酸化した後、低温封孔処理および高温
封孔処理を施して得られる感光体基体に、少なくとも感
光層を設けてなることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項2】 少なくとも感光体の表面を帯電させる手
段、像露光後トナーにて現像させる手段、該トナーを転
写材に転写させる手段からなる電子写真画像形成装置に
おいて、前記感光体はアルミニウムおよびアルミニウム
合金からなる導電性支持体表面を陽極酸化した後、低温
封孔処理および高温封孔処理を施して得られる感光体基
体に、少なくとも感光層が設けられており、前記感光体
を帯電させる手段は感光体表面に接触して、感光体を帯
電させる接触帯電手段であることを特徴とする電子写真
画像形成装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04193198A JP3707229B2 (ja) | 1997-06-27 | 1998-02-24 | 電子写真感光体およびこれを用いた電子写真画像形成装置 |
US09/105,214 US6120955A (en) | 1997-06-27 | 1998-06-26 | Substrate for photosensitive member, photosensitive member, production method thereof and image forming apparatus using the photosensitive member |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17159097 | 1997-06-27 | ||
JP9-171590 | 1997-06-27 | ||
JP04193198A JP3707229B2 (ja) | 1997-06-27 | 1998-02-24 | 電子写真感光体およびこれを用いた電子写真画像形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1172940A true JPH1172940A (ja) | 1999-03-16 |
JP3707229B2 JP3707229B2 (ja) | 2005-10-19 |
Family
ID=26381581
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04193198A Expired - Fee Related JP3707229B2 (ja) | 1997-06-27 | 1998-02-24 | 電子写真感光体およびこれを用いた電子写真画像形成装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6120955A (ja) |
JP (1) | JP3707229B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG90181A1 (en) * | 1999-10-21 | 2002-07-23 | Naito Mfg Co Ltd | Process for producing substrate for photosensitive drum and substrate for photosensitive drum |
KR20010062209A (ko) | 1999-12-10 | 2001-07-07 | 히가시 데쓰로 | 고내식성 막이 내부에 형성된 챔버를 구비하는 처리 장치 |
US6322942B1 (en) * | 2000-04-27 | 2001-11-27 | National Science Council Of Republic Of China | Xerographic photoreceptor primarily formed by the hydrogenated amorphous silicon material and the method for manufacturing the same |
JP2002131961A (ja) * | 2000-10-26 | 2002-05-09 | Kyocera Mita Corp | 電子写真感光体およびその製造方法 |
JP3891485B2 (ja) * | 2002-09-10 | 2007-03-14 | 株式会社リコー | 電子写真装置 |
US7204912B2 (en) | 2002-09-30 | 2007-04-17 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved bellows shield in a plasma processing system |
US7147749B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-12-12 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved upper electrode plate with deposition shield in a plasma processing system |
US7137353B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-11-21 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved deposition shield in a plasma processing system |
US6837966B2 (en) | 2002-09-30 | 2005-01-04 | Tokyo Electron Limeted | Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system |
US7166166B2 (en) * | 2002-09-30 | 2007-01-23 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system |
US7166200B2 (en) | 2002-09-30 | 2007-01-23 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved upper electrode plate in a plasma processing system |
US6798519B2 (en) | 2002-09-30 | 2004-09-28 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved optical window deposition shield in a plasma processing system |
US7780786B2 (en) * | 2002-11-28 | 2010-08-24 | Tokyo Electron Limited | Internal member of a plasma processing vessel |
WO2004095530A2 (en) * | 2003-03-31 | 2004-11-04 | Tokyo Electron Limited | Adjoining adjacent coatings on an element |
WO2004095532A2 (en) | 2003-03-31 | 2004-11-04 | Tokyo Electron Limited | A barrier layer for a processing element and a method of forming the same |
US7552521B2 (en) | 2004-12-08 | 2009-06-30 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for improved baffle plate |
US7601242B2 (en) | 2005-01-11 | 2009-10-13 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing system and baffle assembly for use in plasma processing system |
JP2007291346A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Toyoda Gosei Co Ltd | 低電気伝導性高放熱性高分子材料及び成形体 |
CN110109328A (zh) * | 2019-06-04 | 2019-08-09 | 深圳市科洛德打印耗材有限公司 | 一种长寿命高分辨率宽幅径打印机硒鼓的制造工艺 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4800144A (en) * | 1986-11-04 | 1989-01-24 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Laminated type photosensitive member for electrophotography comprising a substrate of aluminate |
JPH0675208B2 (ja) * | 1987-03-04 | 1994-09-21 | 三菱化成株式会社 | 電子写真感光体 |
JP2509225B2 (ja) * | 1987-06-12 | 1996-06-19 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電子写真用感光体の製造方法 |
JPH0675209B2 (ja) * | 1988-06-13 | 1994-09-21 | 三菱化成株式会社 | 電子写真感光体 |
US5225068A (en) * | 1989-05-26 | 1993-07-06 | Gebr. Happich Gmbh | Method of compacting an anodically produced layer of oxide on parts of aluminum or aluminum alloy |
US5132196A (en) * | 1989-08-29 | 1992-07-21 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having a colored aluminum oxide layer |
JP3049866B2 (ja) * | 1991-09-25 | 2000-06-05 | ミノルタ株式会社 | 接触帯電用感光体及び画像形成装置 |
US5504558A (en) * | 1992-06-29 | 1996-04-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, and electrophotographic apparatus and device unit employing the same |
DE69525996T2 (de) * | 1994-06-22 | 2002-09-19 | Canon Kk | Elektrophotographisches Gerät |
DE19524828A1 (de) * | 1995-07-07 | 1997-01-09 | Henkel Kgaa | Verfahren zum schwermetallfreien Verdichten anodisierter Metalle mit Lithium- und Fluorid-haltigen Lösungen |
JP3240951B2 (ja) * | 1997-03-26 | 2001-12-25 | 三菱電機株式会社 | 電子写真用感光体 |
JP3408405B2 (ja) * | 1997-07-16 | 2003-05-19 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体基板および電子写真用感光体 |
-
1998
- 1998-02-24 JP JP04193198A patent/JP3707229B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-26 US US09/105,214 patent/US6120955A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6120955A (en) | 2000-09-19 |
JP3707229B2 (ja) | 2005-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3707229B2 (ja) | 電子写真感光体およびこれを用いた電子写真画像形成装置 | |
US20080096123A1 (en) | Process for producing electrophotographic photosensitive member | |
JP3384231B2 (ja) | 電子写真感光体及びそれを用いる画像形成装置 | |
JPH09258466A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP3409540B2 (ja) | 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成装置 | |
JP3158815B2 (ja) | 分散型有機系感光体 | |
JP3360559B2 (ja) | 反転現像用電子写真感光体 | |
JP3279167B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
EP2703891A1 (en) | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus | |
JPH06236061A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP3367318B2 (ja) | 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成装置 | |
JPH09179323A (ja) | 電子写真感光体および画像形成方法 | |
JP2687532B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP3684857B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成方法及び画像形成装置 | |
JP3375161B2 (ja) | 積層型有機感光体 | |
JPH0915887A (ja) | 電子写真用有機感光体 | |
JPH1184705A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH11102081A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2644273B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH1115181A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS63303361A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3103992B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2832063B2 (ja) | 像保持部材 | |
JPH1195470A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2020038244A (ja) | 電子写真用感光体およびそれを用いたプロセスカートリッジ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20040426 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040702 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040712 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040712 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040914 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050201 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050301 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050427 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050615 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050712 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090812 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100812 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |