JPH11691A - オキシデーションディッチの運転制御方法 - Google Patents
オキシデーションディッチの運転制御方法Info
- Publication number
- JPH11691A JPH11691A JP17114797A JP17114797A JPH11691A JP H11691 A JPH11691 A JP H11691A JP 17114797 A JP17114797 A JP 17114797A JP 17114797 A JP17114797 A JP 17114797A JP H11691 A JPH11691 A JP H11691A
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- Japan
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- aeration
- oxidation
- ditch
- electric potential
- anaerobic
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- Pending
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- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 好気運転と嫌気運転を酸化還元電位の変位を
とらえて交互に繰り返して硝化と脱窒を促進させるオキ
シデーションディッチの運転制御方法を提供する。 【解決手段】 汚水を一定流量でディッチに流入させな
がら曝気攪拌と嫌気攪拌を交互に繰り返して、ディッチ
内に好気状態と嫌気状態を作り、硝化脱窒を促進させる
オキシデーションディッチの運転制御方法において、デ
ィッチ内の酸化還元電位を計測し、曝気開始後酸化還元
電位の変化に屈曲点が現れたときに嫌気攪拌に切り換
え、さらに嫌気攪拌開始後酸化還元電位の変化に屈曲点
が現れたときに曝気を再開し、これを交互に繰り返すこ
とを特徴とする。
とらえて交互に繰り返して硝化と脱窒を促進させるオキ
シデーションディッチの運転制御方法を提供する。 【解決手段】 汚水を一定流量でディッチに流入させな
がら曝気攪拌と嫌気攪拌を交互に繰り返して、ディッチ
内に好気状態と嫌気状態を作り、硝化脱窒を促進させる
オキシデーションディッチの運転制御方法において、デ
ィッチ内の酸化還元電位を計測し、曝気開始後酸化還元
電位の変化に屈曲点が現れたときに嫌気攪拌に切り換
え、さらに嫌気攪拌開始後酸化還元電位の変化に屈曲点
が現れたときに曝気を再開し、これを交互に繰り返すこ
とを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は下水等の有機性排水
を活性汚泥により処理するオキシデーションディッチの
運転制御方法に係り、特に完全混合型の小型のディッチ
において好気運転と嫌気運転を酸化還元電位の変位をと
らえて交互に繰り返して硝化と脱窒を促進することがで
きるオキシデーションディッチの運転制御方法に関する
ものである。
を活性汚泥により処理するオキシデーションディッチの
運転制御方法に係り、特に完全混合型の小型のディッチ
において好気運転と嫌気運転を酸化還元電位の変位をと
らえて交互に繰り返して硝化と脱窒を促進することがで
きるオキシデーションディッチの運転制御方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、オキシデーションディッチの運転
制御方法としては特開昭６３−２０１６９６号公報に開
示されたものがある。これは、ディッチ内のＯＲＰ（酸
化還元電位）を測定し、測定値が上限設定値に達したと
き曝気を停止し、測定値が下限値に達したときに曝気を
再開して好気と嫌気を繰り返す運転制御方法である。
制御方法としては特開昭６３−２０１６９６号公報に開
示されたものがある。これは、ディッチ内のＯＲＰ（酸
化還元電位）を測定し、測定値が上限設定値に達したと
き曝気を停止し、測定値が下限値に達したときに曝気を
再開して好気と嫌気を繰り返す運転制御方法である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のオキシデー
ションディッチの運転制御方法は、ディッチ内に酸化性
物質や還元性物質が徐々に蓄積したり、ＯＲＰセンサー
の汚水等によりＯＲＰ値が徐々にシフトしていくという
現象が発生しやすく、安定した制御が行えないという問
題点があった。また流入汚水の濃度変動によってもＯＲ
Ｐ値が変化するため、硝化脱窒性能の安定性も不十分で
あるという問題点があった。本発明は、上記従来のオキ
シデーションディッチの運転制御方法の有する問題点を
解決し、好気運転と嫌気運転を酸化還元電位の変位をと
らえて交互に繰り返して硝化と脱窒を促進させるオキシ
デーションディッチの運転制御方法を提供することを目
的とする。
ションディッチの運転制御方法は、ディッチ内に酸化性
物質や還元性物質が徐々に蓄積したり、ＯＲＰセンサー
の汚水等によりＯＲＰ値が徐々にシフトしていくという
現象が発生しやすく、安定した制御が行えないという問
題点があった。また流入汚水の濃度変動によってもＯＲ
Ｐ値が変化するため、硝化脱窒性能の安定性も不十分で
あるという問題点があった。本発明は、上記従来のオキ
シデーションディッチの運転制御方法の有する問題点を
解決し、好気運転と嫌気運転を酸化還元電位の変位をと
らえて交互に繰り返して硝化と脱窒を促進させるオキシ
デーションディッチの運転制御方法を提供することを目
的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のオキシデーションディッチの運転制御方法
は、汚水を一定流量でディッチに流入させながら曝気攪
拌と嫌気攪拌を交互に繰り返して、ディッチ内に好気状
態と嫌気状態を作り、硝化脱窒を促進させるオキシデー
ションディッチの運転制御方法において、ディッチ内の
酸化還元電位を計測し、曝気開始後酸化還元電位の変化
に屈曲点が現れたときに嫌気攪拌に切り換え、さらに嫌
気攪拌開始後酸化還元電位の変化に屈曲点が現れたとき
に曝気を再開し、これを交互に繰り返すことを特徴とす
る。
に、本発明のオキシデーションディッチの運転制御方法
は、汚水を一定流量でディッチに流入させながら曝気攪
拌と嫌気攪拌を交互に繰り返して、ディッチ内に好気状
態と嫌気状態を作り、硝化脱窒を促進させるオキシデー
ションディッチの運転制御方法において、ディッチ内の
酸化還元電位を計測し、曝気開始後酸化還元電位の変化
に屈曲点が現れたときに嫌気攪拌に切り換え、さらに嫌
気攪拌開始後酸化還元電位の変化に屈曲点が現れたとき
に曝気を再開し、これを交互に繰り返すことを特徴とす
る。
【０００５】上記の構成からなる本発明のオキシデーシ
ョンディッチの運転制御方法においては、曝気開始後酸
化還元電位の屈曲点が表れたときに直ちに嫌気攪拌に切
り換えるため、完全硝化を達成することができ、また嫌
気攪拌開始後酸化還元電位（ＯＲＰ）の屈曲点が表れた
ときに曝気を再開することから、脱窒反応を十分に発揮
させることができ、硝化と脱窒をスムーズにバランスよ
く行うことができる。
ョンディッチの運転制御方法においては、曝気開始後酸
化還元電位の屈曲点が表れたときに直ちに嫌気攪拌に切
り換えるため、完全硝化を達成することができ、また嫌
気攪拌開始後酸化還元電位（ＯＲＰ）の屈曲点が表れた
ときに曝気を再開することから、脱窒反応を十分に発揮
させることができ、硝化と脱窒をスムーズにバランスよ
く行うことができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下本発明のオキシデーションデ
ィッチの運転制御方法の実施の形態を面図にもとづいて
説明する。汚水流入量一定、曝気量一定の条件で曝気攪
拌を行い、酸化還元電位（ＯＲＰ）の経時変化とアンモ
ニア性窒素及び硝酸性窒素の濃度変化を測定し、比較評
価を行ったところ、曝気開始後酸化還元電位（ＯＲＰ）
は上昇し、やがて酸化還元電位（ＯＲＰ）の上昇勾配が
徐々に小さくなり小康状態となるが、アンモニア性窒素
が１ｍｇ／リットル以下となり完全硝化が達成されると
急激に酸化還元電位（ＯＲＰ）が上昇し始めた。また曝
気停止後は酸化還元電位（ＯＲＰ）が低下し徐々に下降
勾配が小さくなって一旦小康状態となるが、硝酸性窒素
が１ｍｇ／リットル以下となり脱窒が完了すると急激に
酸化還元電位（ＯＲＰ）が低下し始めることを把握し
た。本発明はこの点に着眼してなしたものである。
ィッチの運転制御方法の実施の形態を面図にもとづいて
説明する。汚水流入量一定、曝気量一定の条件で曝気攪
拌を行い、酸化還元電位（ＯＲＰ）の経時変化とアンモ
ニア性窒素及び硝酸性窒素の濃度変化を測定し、比較評
価を行ったところ、曝気開始後酸化還元電位（ＯＲＰ）
は上昇し、やがて酸化還元電位（ＯＲＰ）の上昇勾配が
徐々に小さくなり小康状態となるが、アンモニア性窒素
が１ｍｇ／リットル以下となり完全硝化が達成されると
急激に酸化還元電位（ＯＲＰ）が上昇し始めた。また曝
気停止後は酸化還元電位（ＯＲＰ）が低下し徐々に下降
勾配が小さくなって一旦小康状態となるが、硝酸性窒素
が１ｍｇ／リットル以下となり脱窒が完了すると急激に
酸化還元電位（ＯＲＰ）が低下し始めることを把握し
た。本発明はこの点に着眼してなしたものである。
【０００７】図において１は流量調整槽、２は所要の容
量を有するディッチ（曝気槽）で、図示のものは長手中
央部に仕切板を設けて内部に循環水路を形成した長円形
を有し、このディッチ内の循環水路には曝気装置５ａ、
５ｂが通常２台以上設置され、槽内に循環水流を与えな
がら必要な酸素を混入溶解するようになっている。本曝
気装置は、好気条件とするための曝気攪拌と嫌気条件と
するための嫌気攪拌を１台で行える機能を有するものが
好ましいが、嫌気攪拌を別に設けた攪拌装置を用いて行
うことも可能である。
量を有するディッチ（曝気槽）で、図示のものは長手中
央部に仕切板を設けて内部に循環水路を形成した長円形
を有し、このディッチ内の循環水路には曝気装置５ａ、
５ｂが通常２台以上設置され、槽内に循環水流を与えな
がら必要な酸素を混入溶解するようになっている。本曝
気装置は、好気条件とするための曝気攪拌と嫌気条件と
するための嫌気攪拌を１台で行える機能を有するものが
好ましいが、嫌気攪拌を別に設けた攪拌装置を用いて行
うことも可能である。
【０００８】なおディッチ２の形状も本図に示すように
長円形に限定されないが、規模は水路全長５０ｍ程度以
下とし、槽内が均一な完全混合槽となるように曝気装置
を配置、図示の実施例では長円形の循環水路内の直線路
部に夫々曝気装置を配置している。従ってＯＲＰセンサ
ー６の位置は特に限定されず、またセンサーの種類も種
々のものを用いることができる。
長円形に限定されないが、規模は水路全長５０ｍ程度以
下とし、槽内が均一な完全混合槽となるように曝気装置
を配置、図示の実施例では長円形の循環水路内の直線路
部に夫々曝気装置を配置している。従ってＯＲＰセンサ
ー６の位置は特に限定されず、またセンサーの種類も種
々のものを用いることができる。
【０００９】ＯＲＰセンサー６により計測された値は順
次制御盤７に伝送され、盤内の演算装置によって酸化還
元電位（ＯＲＰ）の変化率が計算される。さらに複数台
の曝気装置５ａ，５ｂは制御盤７を介して、同時に同じ
動作をするよう各曝気装置は制御盤７に接続されてい
る。ディッチ２へは調整ポンプ４により汚水を一定流量
で流入させ、ディッチ２の下流には通常円形の沈澱槽３
が設けられ、沈澱した汚泥は返送汚泥１３としてデッィ
チ２の上流側に戻され、汚水１１と共にディッチ２の端
部に流入させる。また沈澱槽３の上澄水は堰より越流
し、処理水１２として殺菌を行った後放流する。
次制御盤７に伝送され、盤内の演算装置によって酸化還
元電位（ＯＲＰ）の変化率が計算される。さらに複数台
の曝気装置５ａ，５ｂは制御盤７を介して、同時に同じ
動作をするよう各曝気装置は制御盤７に接続されてい
る。ディッチ２へは調整ポンプ４により汚水を一定流量
で流入させ、ディッチ２の下流には通常円形の沈澱槽３
が設けられ、沈澱した汚泥は返送汚泥１３としてデッィ
チ２の上流側に戻され、汚水１１と共にディッチ２の端
部に流入させる。また沈澱槽３の上澄水は堰より越流
し、処理水１２として殺菌を行った後放流する。
【００１０】次に本発明の制御方法を図１の概念図を用
いて説明すると、曝気を開始した直後は急激に酸化還元
電位（ＯＲＰ）が上昇するが、その後は上昇勾配が徐々
に小さくなり、やがて小康状態に達する。この時のＯＲ
Ｐ値は＋５０ｍＶ〜＋２００ｍＶ程度の範囲にあるが、
アンモニア性窒素の酸化に伴って生成した硝酸性窒素の
外に硫酸イオンや溶存酸素などの酸化性物質や、還元性
物質の残存量によって種々の値を示すため、酸化還元電
位（ＯＲＰ）の絶対値は完全硝化の指標とはならない。
いて説明すると、曝気を開始した直後は急激に酸化還元
電位（ＯＲＰ）が上昇するが、その後は上昇勾配が徐々
に小さくなり、やがて小康状態に達する。この時のＯＲ
Ｐ値は＋５０ｍＶ〜＋２００ｍＶ程度の範囲にあるが、
アンモニア性窒素の酸化に伴って生成した硝酸性窒素の
外に硫酸イオンや溶存酸素などの酸化性物質や、還元性
物質の残存量によって種々の値を示すため、酸化還元電
位（ＯＲＰ）の絶対値は完全硝化の指標とはならない。
【００１１】しかしアンモニア性窒素が完全に硝化され
ると、供給した酸素量から消費された酸素量を引いた残
りが溶存酸素として蓄積し始め、急激に酸化還元電位
（ＯＲＰ）が上昇するため、図１に示すように屈曲点と
して現れる。これを制御装置内の演算装置で酸化還元電
位（ＯＲＰ）変化率の急激な増加として検知することに
より、硝化が終了したと判断し、曝気装置５ａ，５ｂを
嫌気攪拌に切り換える。
ると、供給した酸素量から消費された酸素量を引いた残
りが溶存酸素として蓄積し始め、急激に酸化還元電位
（ＯＲＰ）が上昇するため、図１に示すように屈曲点と
して現れる。これを制御装置内の演算装置で酸化還元電
位（ＯＲＰ）変化率の急激な増加として検知することに
より、硝化が終了したと判断し、曝気装置５ａ，５ｂを
嫌気攪拌に切り換える。
【００１２】嫌気攪拌を開始すると、ディッチ２内の溶
存酸素が消費されるため、酸化還元電位（ＯＲＰ）が急
激に低下した後、この下降勾配は徐々に小さくなり再び
小康状態となる。この時曝気時間帯で生成された硝酸性
窒素は、ディッチ内の脱窒菌と接触し、流入水に含まれ
る有機物をエネルギー源として脱窒菌が硝酸性窒素を窒
素ガスに還元して大気に放出する脱窒反応が促進され
る。脱窒がほぼ終了すると、流入水に含まれる還元性物
質の蓄積が始まるため、再び酸化還元電位（ＯＲＰ）が
低下し始め、酸化還元電位（ＯＲＰ）の屈曲点として現
れることから、前記同様にこれを演算装置により検出し
て曝気を再開する。
存酸素が消費されるため、酸化還元電位（ＯＲＰ）が急
激に低下した後、この下降勾配は徐々に小さくなり再び
小康状態となる。この時曝気時間帯で生成された硝酸性
窒素は、ディッチ内の脱窒菌と接触し、流入水に含まれ
る有機物をエネルギー源として脱窒菌が硝酸性窒素を窒
素ガスに還元して大気に放出する脱窒反応が促進され
る。脱窒がほぼ終了すると、流入水に含まれる還元性物
質の蓄積が始まるため、再び酸化還元電位（ＯＲＰ）が
低下し始め、酸化還元電位（ＯＲＰ）の屈曲点として現
れることから、前記同様にこれを演算装置により検出し
て曝気を再開する。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、ディッチ内の酸化還元
電位（ＯＲＰ）を計測し、酸化還元電位（ＯＲＰ）の屈
曲点として硝化の終了と脱膣の終了とを検知しながら曝
気攪拌と嫌気攪拌の切り換え運転を行うため、確実で安
定した硝化脱窒性能が得られる。また負荷変動等により
ＯＲＰ値の絶対値がシフトしても自動で確実な運転制御
ができるという効果を有する。
電位（ＯＲＰ）を計測し、酸化還元電位（ＯＲＰ）の屈
曲点として硝化の終了と脱膣の終了とを検知しながら曝
気攪拌と嫌気攪拌の切り換え運転を行うため、確実で安
定した硝化脱窒性能が得られる。また負荷変動等により
ＯＲＰ値の絶対値がシフトしても自動で確実な運転制御
ができるという効果を有する。
【図１】本発明の運転制御方法を示す概念図である。
【図２】本発明の１実施例を示すフロー図である。
１ 流量調整槽 ２ ディッチ ３ 沈澱槽 ４ 調整ポンプ ５ａ，５ｂ 曝気装置 ６ ＯＲＰセンサー ７ 制御盤 １１ 流入汚水 １２ 処理水 １３ 返送汚泥
Claims (1)
- 【請求項１】 汚水を一定流量でディッチに流入させな
がら曝気攪拌と嫌気攪拌を交互に繰り返して、ディッチ
内に好気状態と嫌気状態を作り、硝化脱窒を促進させる
オキシデーションディッチの運転制御方法において、デ
ィッチ内の酸化還元電位を計測し、曝気開始後酸化還元
電位の変化に屈曲点が現れたときに嫌気攪拌に切り換
え、さらに嫌気攪拌開始後酸化還元電位の変化に屈曲点
が現れたときに曝気を再開し、これを交互に繰り返すこ
とを特徴とするオキシデーションディッチの運転制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17114797A JPH11691A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | オキシデーションディッチの運転制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17114797A JPH11691A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | オキシデーションディッチの運転制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11691A true JPH11691A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15917868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17114797A Pending JPH11691A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | オキシデーションディッチの運転制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11691A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1077123C (zh) * | 1994-05-06 | 2002-01-02 | 埃尔夫阿托化学有限公司 | 含有与热塑性弹性体结合的硫化弹性体的材料 |
| WO2019013299A1 (ja) | 2017-07-14 | 2019-01-17 | 富士フイルム株式会社 | 熱伝導材料、熱伝導層付きデバイス、熱伝導材料形成用組成物、液晶性円盤状化合物 |
-
1997
- 1997-06-11 JP JP17114797A patent/JPH11691A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1077123C (zh) * | 1994-05-06 | 2002-01-02 | 埃尔夫阿托化学有限公司 | 含有与热塑性弹性体结合的硫化弹性体的材料 |
| WO2019013299A1 (ja) | 2017-07-14 | 2019-01-17 | 富士フイルム株式会社 | 熱伝導材料、熱伝導層付きデバイス、熱伝導材料形成用組成物、液晶性円盤状化合物 |
| EP3816147A1 (en) | 2017-07-14 | 2021-05-05 | FUJIFILM Corporation | Thermally conductive material, device with thermally conductive layer, composition for forming thermally conductive material, and disk-like liquid crystal compound |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20041129 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20060512 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060620 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060817 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061219 |