JPH116916A

JPH116916A - 偏光板およびその製造方法

Info

Publication number: JPH116916A
Application number: JP9173249A
Authority: JP
Inventors: Tooru Kineri; 透木練; Eiki Komuro; 栄樹小室
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1997-06-13
Filing date: 1997-06-13
Publication date: 1999-01-12

Abstract

(57)【要約】【課題】性能および信頼性が極めて高く、しかも生産
性に優れ、かつ製品の大型化が容易に図れる偏光板およ
びその製造方法を提供する。【解決手段】光を制御し偏光を取り出すための偏光層
を透光性のある基板の上に備える偏光板であって、前記
偏光層は、ゾル状のガラスマトリックスを含む塗布組成
物を基板の上に塗布した後、塗膜をゲル化させるゾル−
ゲル法で形成されたガラスマトリックスと、該ガラスマ
トリックス中に分散されるとともに磁場配向により一定
方向に配列された棒状偏光粒子を有し、前記棒状偏光粒
子は、棒状の酸化物強磁性体粒子と、その表面に被覆さ
れた導電性膜を有してなるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信、光センサ
ー、液晶表示装置などに用いられる偏光板に関し、特
に、性能および信頼性に優れた偏光板、および大型でか
つ安価な偏光板が大量に生産可能な偏向板の製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、液晶表示装置などに用いられ
る直線偏光板として、樹脂フィルムをベースとし、ヨウ
素や染料を使用した直線偏光フィルムがよく知られてい
る。このものは、ベースフィルムを延伸することにより
ヨウ素や染料の二色性物質を配向させ、偏光特性を得て
いる。従って、ベースフィルムは延伸加工に適する素
材、すなわち、ポリビニルアルコール等に限定されてい
るのが現状である。

【０００３】また、このような延伸フィルムを用いる製
造方法では、延伸加工時の温度管理、基材の品質管理、
延伸力の調節管理等を極めて厳密に行う必要がある。

【０００４】このような問題を解決するために、特公平
８−２７４０９号公報には、偏光層中で、磁性微粒子を
磁場により一定方向に配列させるとともに、これらを連
結させて多数の棒状素子を形成させた偏光板が提案され
ている。この提案における偏光層においては、上記棒状
素子の長軸方向が光の吸収軸を形成し、長軸方向に直交
する方向が透過軸を形成するよう作用する。すなわち、
上記偏光層の透過光は、上記棒状素子の長軸方向に直交
する光として直線偏光を受けるように作用するとされて
いる。

【０００５】しかしながら、特公平８−２７４０９号公
報に開示されている棒状素子は、複数の略球状微粒子が
磁場配向により連結されて棒状に形成されたものであ
り、棒状を構成する磁性微粒子の数を制御することが極
めて困難であるといえる。そのため、棒状素子の形状が
均一にならず（長軸長と短軸長の比であるアスペクト比
がばらつく）、消光比が悪くなる。もちろん、用いる光
の波長に応じて棒状素子のアスペクト比を調製すること
も困難である。また、連結により形成された棒状素子
は、素子を構成する各磁性微粒子が連結部分で自由に方
向を変え得るため、全ての棒状素子を磁場配向方向にき
ちんと直線状に整列させることが困難であるといえる。
さらに、特公平８−２７４０９号公報記載の棒状素子に
よる偏光作用が、光の所定方向の振動を磁性微粒子の電
子の振動により吸収させるという原理により行われてい
ると仮定するならば、磁性微粒子の連結部分における粒
界で電子の振動が妨げられてしまい、長軸方向に振動す
る偏光が吸収されなくなり、結果として消光比が悪くな
るという問題が生じる。

【０００６】この一方で、特許第２５７８３７７号公報
には、ガラスマトリックスにＡｇ微粒子を分散・析出さ
せた偏光ガラスの製造方法が提案されている。これによ
れば、当該偏光ガラスの製造工程は、ガラス溶融、熱処
理、延伸、研削・研磨加工および還元焼成といったよう
に多くの工程を必要とする。しかも各工程の作業は極め
て複雑である。当該偏光ガラスの製造方法の要部を具体
的に述べると、まず、ハロゲン化銀微粒子を延伸工程で
楕円体形に延伸するとともに応力方向に整列させる。そ
して最後に、研磨工程を終了したハロゲン化銀微粒子含
有ガラスを水素雰囲気中で還元焼成することでガラス中
にＡｇ微粒子を析出させて偏光ガラスを製造している。

【０００７】しかしながら、特許第２５７８３７７号公
報に開示されている偏光ガラスの製造方法では、析出さ
せるＡｇ微粒子のアスペクト比の調整を容易にすること
はできず、また、偏光板の性能および信頼性も十分とは
言えない。さらに、製造工程が多く生産性に乏しく、し
かも偏光ガラスの大型化も製法上、適していないため
に、安価に大量の大型の偏光板を供給することは困難で
ある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このような実状のもと
に、本発明は創案されたものであって、その目的は、性
能および信頼性が極めて高い偏光板を提供することにあ
る。また、生産性に優れ、かつ製品の大型化が容易に図
れる偏光板の製造方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、光を制御し偏光を取り出すための
偏光層を透光性のある基板の上に備える偏光板であっ
て、前記偏光層は、ゾル状のガラスマトリックスを含む
塗布組成物を基板の上に塗布した後、塗膜をゲル化させ
るゾル−ゲル法で形成されたガラスマトリックスと、該
ガラスマトリックス中に分散されるとともに磁場配向に
より一定方向に配列された棒状偏光粒子を有し、前記棒
状偏光粒子は、棒状の酸化物強磁性体粒子と、その表面
に被覆された導電性膜を有してなるように構成される。

【００１０】また、本発明の好適な態様として、前記酸
化物強磁性体粒子は、二酸化クロムとして構成される。

【００１１】また、本発明の好適な態様として、前記酸
化物強磁性体粒子は、酸化鉄として構成される。

【００１２】また、本発明の好適な態様として、前記棒
状の酸化物強磁性体粒子のアスペクト比は、１．５〜３
０であるよう構成される。

【００１３】また、本発明は、光を制御し偏光を取り出
すための偏光層を透光性のある基板の上に備える偏光板
の製造方法であって、該方法は、偏光層の母体をなすガ
ラスマトリックスに応じた組成のゾル溶液を準備する工
程と、該ゾル溶液に棒状偏光粒子を含有させて、塗布用
ゾル溶液を調製する塗布溶液調製工程と、前記塗布用ゾ
ル溶液を基板の上に塗布して偏光層塗膜を形成する塗布
工程と、該偏光層塗膜中の棒状偏光粒子を磁場中で配向
させる磁場配向処理工程と、前記偏光層塗膜のガラスマ
トリックスのゲル化を含む塗膜硬化処理工程と、を有す
るように構成される。

【００１４】また、本発明の好適な態様として、前記磁
場配向処理工程は、ガラスマトリックスがウエットゲル
の状態で行われる。

【００１５】また、本発明の好適な態様として、前記塗
膜硬化処理工程は、乾燥処理および焼成処理を含んで構
成される。

【００１６】また、本発明の好適な態様として、前記塗
膜硬化処理工程は、磁場配向処理を適用しながら行われ
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図面を参照しつつ説明する。図１には、本発明の偏光
板１の好適な実施の形態を示す断面図が示されている。

【００１８】図１に示されるように本発明の偏光板１
は、基板２の両面に、それぞれ偏光層１０，１０が形成
されている。

【００１９】偏光層１０は、偏光層の母体をなすガラス
マトリックス２０と、このガラスマトリックス２０中に
分散されるとともに磁場配向により一定方向に配列され
た複数の棒状偏光粒子３０を有している。

【００２０】棒状偏光粒子３０は、図２の粒子概念図に
示されるように棒状の酸化物強磁性体粒子３１と、その
表面に被覆された導電性膜３５を有して構成される。

【００２１】基板２は耐水性や耐熱性にすぐれ、透明な
ものであればよく、例えば、石英ガラス、パイレックス
ガラス等のガラス基板が好適に用いられる。また、その
形状は特に限定されるものではなく、目的、用途等に応
じて適宜形状を選定して使用すれば良い。

【００２２】棒状偏光粒子３０を分散させるガラスマト
リックス２０は、ＳｉＯ₂ を主成分として含み、さらに
通常、副成分としてＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、
ＧｅＯ₂ 、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ、Ｌｉ₂ Ｏ、ＭｇＯ、Ｚｎ
Ｏ、ＣａＯ、ＰｂＯ、Ｂ₂ Ｏ₃ 、Ｐ₂ Ｏ₅ 、ＳｒＯ、お
よびＬａ₂ Ｏ₃ から選定された少なくとも１種以上が含
有される。各成分の含有割合は、特に制限はないが、主
成分であるＳｉＯ₂ は８５〜１００モル％、特に９０〜
１００モル％の割合で含有させることが好ましい。

【００２３】本発明におけるガラスマトリックス２０に
よる偏光層１０の形成は、ゾル状の塗布組成物を基板の
上に塗布した後、塗膜をゲル化させ、しかる後、加熱し
て無機酸化物をある一定の形状または基板上の被膜とし
て調製する、いわゆるゾル−ゲル法で形成される。この
ゾル−ゲル法によれば、棒状偏光粒子を均一に分散で
き、かつ得られるガラス組成の自由度が高いというメリ
ットがある。さらには、後述するように棒状偏光粒子３
０に磁場配向が可能で配向特性にも優れるというメリッ
トがある。ゾル−ゲル法については、後の製造方法のと
ころで詳細に説明する。

【００２４】偏光層１０に含有される棒状の酸化物強磁
性体粒子３１としては、単一の一体的な形状であって、
かつ針状等の棒状形状が容易に得られる二酸化クロム
（ＣｒＯ₂ ）；γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ，Ｆｅ₃ Ｏ₄ などの酸化
鉄等が好適に用いられる。酸化鉄にあっては、Ｃｏ等の
遷移金属が含有されたものであってものよい。

【００２５】このような酸化物強磁性体粒子３１は、棒
状形状を安価かつ容易につくることができ、しかも、長
軸長と短軸長の比であるアスペクト比を種々かえたもの
が容易にできるという特徴を有している。これらの中で
も、特に、針状形態の均一性および表面性に優れ（例え
ば、表面凹凸が少なく針状先端での枝分かれがない）、
アスペクト比をかなりの範囲まで自由に変えて作ること
ができる二酸化クロム（ＣｒＯ₂ ）を用いるのがよい。

【００２６】本発明で用いられる棒状の酸化物強磁性体
粒子３１のアスペクト比は特に限定されるものではな
く、通常、アスペクト比１．５〜３０の範囲内で、用い
る光の波長に応じて、最適の偏光特性が得られるように
適宜設定される。これにより、種々の光の波長に対し
て、それぞれ高い消光比が得られることなる。なお、棒
状の酸化物強磁性体粒子３１の長軸長は、通常、０．０
１〜１μｍ程度のものが用いられる。

【００２７】このような酸化物強磁性体粒子３１の表面
には、上述したように導電性膜３５が被膜されて棒状偏
光粒子３０が形成される。導電性膜３５としては、導電
性の良い金、銀、銅、ニッケル、スズなどの金属材料が
用いられる。本発明ではこのような導電性膜３５を形成
させることによって、棒状偏光粒子３０表面に自由電子
を存在せしめ、この自由電子の振動により、所定方向の
光の振動を吸収させて偏光をとりだすように作用させて
いる。導電性膜３５の形成は、例えば、無電解メッキ法
や、真空蒸着法、真空スパッタ法等の手法を用いて行わ
れる。

【００２８】また、棒状偏光粒子３０を一定方向に配列
させる磁場配向処理は、例えば、ゾル状の塗布組成物を
基板の上に塗布した後、塗膜がウエットゲル状の間に永
久磁石、電磁石、ソレノイド等の磁界発生手段を用いて
行えばよい。配向方向は、通常、基板の搬送方向に沿っ
て行われるのが一般的であるが、特別な仕様もあり、特
に限定されない。

【００２９】次いで、本発明の偏光板の製造方法につい
て詳細に説明する。

【００３０】本発明の偏光板の製造方法の要部は、いわ
ゆるゾル−ゲル法を用いて、棒状偏光粒子３０を含有す
るガラスマトリックス２０を主成分とする偏光層１０を
形成することにある。すなわち、ガラスマトリックス２
０に応じた組成のゾル溶液に、前記棒状偏光粒子３０を
含有させ、これを透光性のある基板の上に成膜し、ウエ
ットゲルとし、磁場中で棒状偏光粒子３０を磁場配向さ
せ、さらにドライゲルとし、最終的にガラス化させるこ
とにある。製造方法を各プロセスごとに詳細に説明す
る。

【００３１】（１）まず、最初に、偏光層１０の母体を
なすガラスマトリックス２０に応じた組成のゾル溶液を
準備する。ガラスマトリックス２０のゾル溶液組成は、
この偏光板の用途や要求される特性等に応じて最適の組
成を選定すればよい。すなわち、前述したＳｉＯ₂ 、Ｚ
ｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＧｅＯ₂ 、Ｎａ₂ Ｏ、
Ｋ₂ Ｏ、Ｌｉ₂ Ｏ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＰｂＯ、
Ｂ₂ Ｏ₃ 、Ｐ₂ Ｏ₅ 、ＳｒＯ、およびＬａ₂ Ｏ₃ に対応
するアルコキシドおよび／またはその誘導体、例えば、
テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、３
−アミノプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプ
ロピルトリメトキシシラン等を原料とし、これらのもの
を、目的とするガラスマトリックス組成の応じて適宜配
合することによりゾル溶液を調製することができる。さ
らに、このようなゾル溶液を経時的にウエットゲル化お
よびウエットゲルのドライゲル化をさせるために、通常
のゾル−ゲル法における処理が行われる。すなわち、ゾ
ル溶液を加水分解させてウエットゲル化をすすめるため
に前記アルコキシドやその誘導体等に水が混合される。
また、Ｓｉアルコキシドや、その誘導体と、他の金属ア
ルコシキドやその誘導体とを併用する場合には、加水分
解速度の遅いＳｉアルコキシドやその誘導体を先に加水
分解した後、他の金属アルコキシドおよび／またはその
誘導体を加えて混合し、さらに加水分解することもでき
る。

【００３２】加水分解に使用される水の量は、主原料と
するアルコキシドやその誘導体の種類にもよるが、一般
には、アルコキシドやその誘導体のモル量の２倍以上が
好適に用いられる。さらに、多量の水を使用することに
よって、加水分解の時間を調整することができる。

【００３３】さらに加水分解時に触媒として、塩酸、硝
酸、酢酸等の酸や、ＮＨ₄ ＯＨ、ピリジン、ピペラジン
等の塩基を添加して使用してもよい。これにより反応時
間を短縮させることができる。触媒の量は、用いるアル
コキシドやその誘導体のモル量の１×１０^-3〜１倍程度
とすればよい。

【００３４】また、金属アルコキシド等の濃度調整のた
めに、アルコキシドに対応するアルコールを添加しても
よい。また、ジメチルホルムアルデヒド等の安定剤を添
加してもよい。

【００３５】（２）次いで、上記のゾル溶液に棒状偏光
粒子を含有させて、塗布用ゾル溶液が調製される。用い
る棒状偏光粒子は上述したとおりであり、この棒状偏光
粒子の含有量は偏光特性が損なわれない範囲で適宜選定
すればよい。通常は、体積比率で１％以下程度含有する
ように添加され、攪拌してゾル溶液中に分散される。こ
の時の操作温度は、通常、２０〜８０℃に設定される。
また、棒状偏光粒子を添加する際に分散剤を添加するよ
うにしてもよい。なお、上記のゾル溶液に棒状偏光粒子
３０を添加した後に、上記の水や触媒を加える手順とす
ることもできる。

【００３６】（３）このような塗布用ゾル溶液は基板の
上に塗布されて偏光層塗膜が形成される。塗布方法とし
ては、ディッピング法、スピンコーティング法等の公知
の種々の方法が用いられる。塗膜の形成は、図１の例で
は基板２の両面にそれぞれ形成している（図１）が、用
途に応じて基板２の片面だけに形成してもよい。

【００３７】（４）次いで、偏光層塗膜中の棒状偏光粒
子が磁場中で磁場配向される（磁場配向処理工程）。磁
界の発生手段および配向方法は前述したとおりであり、
磁場配向処理は、塗膜がウエットゲルの状態にある時に
行うことが好適である。配向された棒状偏光粒子が配向
された状態を維持できるからである。ウエットゲルの厳
密な定義はないが、本発明では、磁場により棒状偏光粒
子が動いて配向され、かつ磁場をとり除いた後でも棒状
偏光粒子が配向された状態をある程度維持できる粘度を
備えた状態のものをいう。

【００３８】（５）次いで、偏光層塗膜のガラスマトリ
ックスの塗膜硬化処理が行われる。この塗膜硬化処理工
程は、通常、乾燥処理および焼成処理を含んで構成され
る。すなわち、磁場配向された後の塗膜は、例えば８０
〜１２０℃程度の温度で乾燥処理されてドライゲル化さ
れる。しかる後、さらに、例えば、２５０〜３５０℃程
度の温度で焼成処理されて、塗膜のガラス化が図られ
る。上記乾燥処理および焼成処理の処理温度は、ガラス
マトリックスの組成の応じて適宜選定すればよい。ま
た、上記の焼成処理のみを行い、乾燥処理を省略するこ
ともできる。

【００３９】上記の塗膜硬化処理は磁場配向を終えた後
に、磁場配向処理が適用されていない場合を一例として
挙げたが、これに限定されることなく、磁場配向処理が
適用されたままの状態、例えば、前工程からの磁場配向
処理が継続されたまま塗膜硬化処理を行ってもよい。こ
れにより、棒状偏光粒子が配向された状態を確実に維持
することができる。

【００４０】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００４１】（実施例１）棒状偏光粒子３０の作製棒状の酸化物強磁性体粒子３１として、針状の二酸化ク
ロム（ＣｒＯ₂ ）を用意した。二酸化クロムの長軸の長
さは、０．２〜０．３μｍ、アスペクト比（長軸長／短
軸長）は、平均約１０程度であり、極めて形状の均一性
に優れていた。この針状の二酸化クロムの表面に、銀か
らなる導電性膜３５を無電解メッキにより被膜形成し、
棒状偏光粒子３０を作製した。銀被膜がされた後の棒状
偏光粒子３０は、被膜前の状態と比べて大きさが若干大
きくなったが、長軸と短軸の比に大きな変化は見られな
かった。

【００４２】偏光板サンプルの作製まず、棒状偏光粒子３０を分散させるガラスマトリック
ス２０の溶液を調製した。すなわち、室温で、テトラエ
トキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ ）３２．２ｇに触
媒としての塩酸（ＨＣｌ）０．３３ｇ、水（Ｈ₂ Ｏ）
３．３ｇ、およびエタノール（Ｃ₂ Ｈ₅ ＯＨ）８．３４
ｇを攪拌しながら添加した。

【００４３】次に、この溶液に棒状偏光粒子３０を０．
０１ｇ添加し、８０℃で攪拌することで加水分解と重合
反応を進めた。

【００４４】さらに、この溶液の粘度が約１０ポイズ程
度になったところで、図３に示されるように、このもの
を石英ガラス基板２の上に塗布した後、この溶液がゲル
化する前に基板２を挟むように配置された一対の配向磁
石５０，５０により磁場を一定方向に印加し、棒状偏光
粒子３０を磁場の印加方向に整列させた。その後、１０
０℃で塗膜の乾燥処理を行い、しかる後、この基板２を
電気炉で３００℃に加熱し、焼成処理を行い本発明の偏
光板サンプルを作製した。

【００４５】偏光板サンプルの評価このようにして作製した偏光板サンプルについて、波長
８００ｎｍの光源を用いて消光比の測定を行ったとこ
ろ、消光比３０ｄＢという値が得られた。

【００４６】さらに、偏光板サンプルの高温高湿での耐
久性試験を行った。すなわち、８５℃−８５％ＲＨの環
境下に１０００時間放置した後、再度、消光比の測定を
行ったところ、消光比の値の変化はほとんど確認されな
かった。

【００４７】これにより、酸化物強磁性体粒子の表面に
導電性膜を被膜した棒状偏光粒子３０をガラスマトリッ
クス中に配向させた本発明のサンプルは、消光比に優
れ、極めて偏光特性の良い偏光板であることが確認でき
た。さらに、高温高湿環境下での耐久性にも極めて優れ
ることが確認できた。

【００４８】

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明は、光を制御し偏光を取り出す
ための偏光層を透光性のある基板の上に備える偏光板で
あって、前記偏光層は、ゾル状のガラスマトリックスを
含む塗布組成物を基板の上に塗布した後、塗膜をゲル化
させるゾル−ゲル法で形成されたガラスマトリックス
と、該ガラスマトリックス中に分散されるとともに磁場
配向により一定方向に配列された棒状偏光粒子を有し、
前記棒状偏光粒子は、棒状の酸化物強磁性体粒子と、そ
の表面に被覆された導電性膜を有してなるように構成さ
れているので、偏光性能および信頼性が極めて高い。ま
た、生産性に優れ、安価、かつ大量生産が可能である。
製品の大型化も容易に図れる。

【００４９】また、本発明の構成では棒状偏光粒子のア
スペクト比の調整が容易であるから、用いる光の波長に
応じて、偏光特性の最適化が容易に図られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の偏光板の好適な実施の形態を示す断面
図である。

【図２】棒状偏光粒子の構造を分かりやすく説明するた
めの断面図である。

【図３】磁場配向の状態の一例を示す概略斜視図であ
る。

【符号の説明】

１…偏光板２…基板１０…偏光層２０…ガラスマトリックス３０…棒状偏光粒子３１…棒状の酸化物強磁性体粒子３５…導電性膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光を制御し偏光を取り出すための偏光層
を透光性のある基板の上に備える偏光板であって、前記偏光層は、ゾル状のガラスマトリックスを含む塗布
組成物を基板の上に塗布した後、塗膜をゲル化させるゾ
ル−ゲル法で形成されたガラスマトリックスと、該ガラ
スマトリックス中に分散されるとともに磁場配向により
一定方向に配列された棒状偏光粒子を有し、前記棒状偏光粒子は、棒状の酸化物強磁性体粒子と、そ
の表面に被覆された導電性膜を有してなることを特徴と
する偏光板。
【請求項２】前記酸化物強磁性体粒子は、二酸化クロ
ムである請求項１記載の偏光板。
【請求項３】前記酸化物強磁性体粒子は、酸化鉄であ
る請求項１記載の偏光板。
【請求項４】前記棒状の酸化物強磁性体粒子のアスペ
クト比は、１．５〜３０である請求項１ないし請求項３
のいずれかに記載の偏光板。
【請求項５】光を制御し偏光を取り出すための偏光層
を透光性のある基板の上に備える偏光板の製造方法であ
って、該方法は、偏光層の母体をなすガラスマトリックスに応
じた組成のゾル溶液を準備する工程と、該ゾル溶液に棒状偏光粒子を含有させて、塗布用ゾル溶
液を調製する塗布溶液調製工程と、前記塗布用ゾル溶液を基板の上に塗布して偏光層塗膜を
形成する塗布工程と、該偏光層塗膜中の棒状偏光粒子を磁場中で配向させる磁
場配向処理工程と、前記偏光層塗膜のガラスマトリックスの塗膜硬化処理工
程と、を有することを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項６】前記磁場配向処理工程は、ガラスマトリ
ックスがウエットゲルの状態で行われる請求項５記載の
偏光板の製造方法。
【請求項７】前記塗膜硬化処理工程は、乾燥処理およ
び焼成処理を含んで構成される請求項５または請求項６
記載の偏光板の製造方法。
【請求項８】前記塗膜硬化処理工程は、磁場配向処理
を適用しながら行われる請求項５ないし請求項７のいず
れかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項９】前記棒状偏光粒子は、棒状の酸化物強磁
性体粒子と、その表面に被覆された導電性膜を有してな
る請求項５ないし請求項８のいずれかに記載の偏光板の
製造方法。