JPH04325423A - 偏光ガラスの製造方法 - Google Patents
偏光ガラスの製造方法Info
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- JPH04325423A JPH04325423A JP9560691A JP9560691A JPH04325423A JP H04325423 A JPH04325423 A JP H04325423A JP 9560691 A JP9560691 A JP 9560691A JP 9560691 A JP9560691 A JP 9560691A JP H04325423 A JPH04325423 A JP H04325423A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims abstract description 35
- -1 alkyl silicate Chemical compound 0.000 claims abstract description 30
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 abstract description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 5
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021554 Chromium(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021562 Chromium(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021564 Chromium(III) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021582 Cobalt(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910016697 EuO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017368 Fe3 O4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002618 GdFeO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021570 Manganese(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021571 Manganese(III) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021587 Nickel(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003368 SmFeO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- XBWRJSSJWDOUSJ-UHFFFAOYSA-L chromium(ii) chloride Chemical compound Cl[Cr]Cl XBWRJSSJWDOUSJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RNFYGEKNFJULJY-UHFFFAOYSA-L chromium(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Cr+2] RNFYGEKNFJULJY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTNMMTCXUUFYAP-UHFFFAOYSA-L difluoromanganese Chemical compound F[Mn]F CTNMMTCXUUFYAP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L iron(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Fe+2] FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- SRVINXWCFNHIQZ-UHFFFAOYSA-K manganese(iii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[Mn+3] SRVINXWCFNHIQZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) fluoride Chemical compound F[Ni]F DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K trifluorochromium Chemical compound F[Cr](F)F FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性粒子が分散された
偏光ガラスの製造方法に関する。
偏光ガラスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】偏光ガラスとしては、金属微粒子を含有
するガラスを延伸させることにより、金属微粒子を所定
方向に配向させて得られた偏光ガラスがある。例えば、
特開平2−248341号公報には、ハロゲン化銀粒子
を含有するフォトクロミックガラスを延伸して、ハロゲ
ン化銀粒子に形状異方性を付加し、さらに得られたガラ
スを還元性雰囲気中で熱処理することにより、ガラス中
のハロゲン化銀粒子を金属銀に還元して、偏光性を示す
ガラスを作製する方法が開示されている。又、偏光ガラ
スは、金属とガラスを交互に積層することによっても製
造されている。例えば、APPLIED OPTIC
S Vol.25,No. 2(1986)311−
314では、真空蒸着やスパッタリングによって、アル
ミニウムとSiO2 の交互多層膜を作製することによ
り偏光ガラスを得ている。
するガラスを延伸させることにより、金属微粒子を所定
方向に配向させて得られた偏光ガラスがある。例えば、
特開平2−248341号公報には、ハロゲン化銀粒子
を含有するフォトクロミックガラスを延伸して、ハロゲ
ン化銀粒子に形状異方性を付加し、さらに得られたガラ
スを還元性雰囲気中で熱処理することにより、ガラス中
のハロゲン化銀粒子を金属銀に還元して、偏光性を示す
ガラスを作製する方法が開示されている。又、偏光ガラ
スは、金属とガラスを交互に積層することによっても製
造されている。例えば、APPLIED OPTIC
S Vol.25,No. 2(1986)311−
314では、真空蒸着やスパッタリングによって、アル
ミニウムとSiO2 の交互多層膜を作製することによ
り偏光ガラスを得ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
2−248341号公報に開示されている方法では、ハ
ロゲン化銀を析出させるために、熱処理を行うが、この
熱処理により析出するハロゲン化銀粒子の大きさをコン
トロールすることが難しく、析出粒子の大きさに分布が
生じてしまう。そして、このガラスを延伸しても同一の
アスペクト比を持つハロゲン化銀粒子を得ることができ
ず、同じ濃度の粒子を含有するガラスと比較した場合、
目的の波長において、粒子の濃度に対する吸光度が小さ
くなってしまうという欠点がある。また、前記APPL
IED OPTICSに開示されている方法では、金
属あるいはガラスを蒸着、スパッタリングにより積層す
るために大面積を有する偏光ガラスを得にくいという欠
点がある。さらに、偏光ガラスの作製において、金属の
一部が酸化され、金属中に酸化物が生成し易く、そのた
め目的の波長において、粒子の濃度に対する吸光度が小
さくなってしまうという欠点がある。したがって、本発
明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、目的の波長
において、粒子の濃度に対応する吸光度が得られる偏光
ガラスの製造方法を提供することにある。
2−248341号公報に開示されている方法では、ハ
ロゲン化銀を析出させるために、熱処理を行うが、この
熱処理により析出するハロゲン化銀粒子の大きさをコン
トロールすることが難しく、析出粒子の大きさに分布が
生じてしまう。そして、このガラスを延伸しても同一の
アスペクト比を持つハロゲン化銀粒子を得ることができ
ず、同じ濃度の粒子を含有するガラスと比較した場合、
目的の波長において、粒子の濃度に対する吸光度が小さ
くなってしまうという欠点がある。また、前記APPL
IED OPTICSに開示されている方法では、金
属あるいはガラスを蒸着、スパッタリングにより積層す
るために大面積を有する偏光ガラスを得にくいという欠
点がある。さらに、偏光ガラスの作製において、金属の
一部が酸化され、金属中に酸化物が生成し易く、そのた
め目的の波長において、粒子の濃度に対する吸光度が小
さくなってしまうという欠点がある。したがって、本発
明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、目的の波長
において、粒子の濃度に対応する吸光度が得られる偏光
ガラスの製造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の偏光ガラスの製造方法は、アルキルシリケートの加
水分解物およびアスペクト比が1より大きい磁性粒子と
を含むゾルを得る第1の工程、前記ゾルに磁場を加え、
前記磁性粒子を配向し、前記ゾルをゲル化してゲルを得
る第2の工程、および前記ゲルを乾燥し、乾燥ゲルを得
た後、この乾燥ゲルを焼結することにより、ガラスを得
る第3の工程を含むことを特徴とする。
明の偏光ガラスの製造方法は、アルキルシリケートの加
水分解物およびアスペクト比が1より大きい磁性粒子と
を含むゾルを得る第1の工程、前記ゾルに磁場を加え、
前記磁性粒子を配向し、前記ゾルをゲル化してゲルを得
る第2の工程、および前記ゲルを乾燥し、乾燥ゲルを得
た後、この乾燥ゲルを焼結することにより、ガラスを得
る第3の工程を含むことを特徴とする。
【0005】また、前記磁性粒子が金、銀、銅およびア
ルミニウムから選ばれる少なくとも一種で被覆されてい
ることも特徴としている。さらに、第4の工程において
乾燥ゲルを還元性雰囲気中で焼結することも特徴として
いる。
ルミニウムから選ばれる少なくとも一種で被覆されてい
ることも特徴としている。さらに、第4の工程において
乾燥ゲルを還元性雰囲気中で焼結することも特徴として
いる。
【0006】以下、本発明の偏光ガラスの製造方法を工
程順に説明する。第1の工程は、アルキルシリケートの
加水分解物およびアスペクト比が1より大きい磁性粒子
を含むゾルを得る工程である。本工程において、アルキ
ルシリケートの加水分解物は、例えば一般式Si(OR
)4 (式中、Rはアルキル基、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基などの低級アルキル基である)で示されるテ
トラアルコキシシラン及び/又はその部分加水分解物(
4個のOR基のうち1〜3個が加水分解されてOH基と
なっているもの)を酸性触媒(例えば塩酸、硝酸)また
は塩基性触媒(例えばアンモニア、ジエタノールアミン
水溶液)の存在下、水、アルコールまたはこれらの混合
液を用いて加水分解することにより得られる。アルコー
ルとしては、例えばメタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等を用いることができる。
程順に説明する。第1の工程は、アルキルシリケートの
加水分解物およびアスペクト比が1より大きい磁性粒子
を含むゾルを得る工程である。本工程において、アルキ
ルシリケートの加水分解物は、例えば一般式Si(OR
)4 (式中、Rはアルキル基、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基などの低級アルキル基である)で示されるテ
トラアルコキシシラン及び/又はその部分加水分解物(
4個のOR基のうち1〜3個が加水分解されてOH基と
なっているもの)を酸性触媒(例えば塩酸、硝酸)また
は塩基性触媒(例えばアンモニア、ジエタノールアミン
水溶液)の存在下、水、アルコールまたはこれらの混合
液を用いて加水分解することにより得られる。アルコー
ルとしては、例えばメタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等を用いることができる。
【0007】なお、加水分解に際して、テトラアルコキ
シシラン及び/又はその部分加水分解物とともに、その
他の金属アルコキシド(例えばナトリウムメトキシド、
アルミニウムプロポキシドなど)及び/又はその部分加
水分解物を使用することもでき、これらの使用により、
後記の第3の工程におけるゲルの焼結温度を低下させる
ことができる。
シシラン及び/又はその部分加水分解物とともに、その
他の金属アルコキシド(例えばナトリウムメトキシド、
アルミニウムプロポキシドなど)及び/又はその部分加
水分解物を使用することもでき、これらの使用により、
後記の第3の工程におけるゲルの焼結温度を低下させる
ことができる。
【0008】第1の工程において、磁性粒子は、アルキ
ルシリケートの加水分解物を含むゾルに添加しても良く
、またアルキルシリケートの加水分解物の前駆体である
アルキルシリケート及び/又はその部分加水分解物に添
加しても良い。そして後者の場合、その後に加水分解が
行なわれ、アルキルシリケートの加水分解物と磁性粒子
とを含むゾルが得られる。
ルシリケートの加水分解物を含むゾルに添加しても良く
、またアルキルシリケートの加水分解物の前駆体である
アルキルシリケート及び/又はその部分加水分解物に添
加しても良い。そして後者の場合、その後に加水分解が
行なわれ、アルキルシリケートの加水分解物と磁性粒子
とを含むゾルが得られる。
【0009】第1の工程で用いられる磁性粒子としては
、磁性を有するものであれば、特にその種類は限定され
ない。これらの磁性粒子としては、例えば、鉄(Fe)
、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)等の金属、鉄−
コバルト、鉄−ニッケル、ニッケル−コバルト、コバル
ト−鉄−パナジウム等の合金、Fe2O3 、Fe3
O4 、NiO、EuO、BaFe12O5 、BaF
e12O19、BaFe18O29、BaZnFe17
O17、NdFeO3 、SmFeO3 、EuFeO
3 、GdFeO3 、Sm0.6 Er0.4 O3
、Sm0.55Tb0.45O3 、(11NiO−
22ZnO−Fe2 O3 )、(18MnO−14Z
nO−68Fe2 O3 )、(13.9NiO−13
.6ZnO−67.5Fe2 O3 )等の金属酸化物
、CrF2 、CrF3 、MnF2 、MnF3 、
FeF2 、CoF2 、NiF2 、CrCl2等の
金属ハロゲン化物、CdCr2 S4 、CdSr2
Se4 、FeCr2 S4 、HgCr2 Se4
等の金属カルコゲナイドがあげられる。
、磁性を有するものであれば、特にその種類は限定され
ない。これらの磁性粒子としては、例えば、鉄(Fe)
、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)等の金属、鉄−
コバルト、鉄−ニッケル、ニッケル−コバルト、コバル
ト−鉄−パナジウム等の合金、Fe2O3 、Fe3
O4 、NiO、EuO、BaFe12O5 、BaF
e12O19、BaFe18O29、BaZnFe17
O17、NdFeO3 、SmFeO3 、EuFeO
3 、GdFeO3 、Sm0.6 Er0.4 O3
、Sm0.55Tb0.45O3 、(11NiO−
22ZnO−Fe2 O3 )、(18MnO−14Z
nO−68Fe2 O3 )、(13.9NiO−13
.6ZnO−67.5Fe2 O3 )等の金属酸化物
、CrF2 、CrF3 、MnF2 、MnF3 、
FeF2 、CoF2 、NiF2 、CrCl2等の
金属ハロゲン化物、CdCr2 S4 、CdSr2
Se4 、FeCr2 S4 、HgCr2 Se4
等の金属カルコゲナイドがあげられる。
【0010】本発明において、磁性粒子のアスペクト比
が1より大きいことが必要である。ここに磁性粒子のア
スペクト比とは、下記のように定義される。 ■磁性粒子が直方体またはその類似形状の場合、縦の長
さL1 と横および高さのうちの長い方の長さL2 と
の比(L1 /L2 ) ■磁性粒子が円柱またはその類似形状の場合、高さL1
と直径L2 との比(L1 /L2 )■磁性粒子が
その他の形状の場合、粒子の最大長L1 と、前記粒子
の最大長L1 と垂直を成す面で切断したときのその面
の最大長L2との比(L1 /L2 )アスペクト比が
1より大きいことを要件とした理由は、アスペクト比が
1であると偏光特性が生じないからである。好ましくは
2〜50が良い。その理由は2未満では偏光特性が小さ
く、50を越えるとこのような粉末が得にくいからであ
る。特に好ましくは8〜20である。磁性粒子のアスペ
クト比を種々変えることにより目的とする波長で偏光と
なる偏光ガラスが得られる。また、磁性粒子のL1 は
目的とする波長以下が好ましい。その理由は、L1 が
目的波長より長いと偏光特性が生じにくいからである。
が1より大きいことが必要である。ここに磁性粒子のア
スペクト比とは、下記のように定義される。 ■磁性粒子が直方体またはその類似形状の場合、縦の長
さL1 と横および高さのうちの長い方の長さL2 と
の比(L1 /L2 ) ■磁性粒子が円柱またはその類似形状の場合、高さL1
と直径L2 との比(L1 /L2 )■磁性粒子が
その他の形状の場合、粒子の最大長L1 と、前記粒子
の最大長L1 と垂直を成す面で切断したときのその面
の最大長L2との比(L1 /L2 )アスペクト比が
1より大きいことを要件とした理由は、アスペクト比が
1であると偏光特性が生じないからである。好ましくは
2〜50が良い。その理由は2未満では偏光特性が小さ
く、50を越えるとこのような粉末が得にくいからであ
る。特に好ましくは8〜20である。磁性粒子のアスペ
クト比を種々変えることにより目的とする波長で偏光と
なる偏光ガラスが得られる。また、磁性粒子のL1 は
目的とする波長以下が好ましい。その理由は、L1 が
目的波長より長いと偏光特性が生じにくいからである。
【0011】また、磁性粒子が偏光特性を示すためには
、少なくとも磁性粒子の表面が金属になっていることが
必要である。最終的に得られる分散された磁性粒子の少
なくとも表面が金属でない場合は、磁性粒子の少なくと
も表面を金属まで還元する必要がある。還元する方法と
しては、後記の第3の工程において乾燥ゲルを焼結する
際に、水素を含有する窒素ガス等の還元性ガスを用いて
還元するのが良い。その理由は、ゾルあるいはゲルの段
階では溶媒が存在するために、還元が効率よく行われな
いからである。
、少なくとも磁性粒子の表面が金属になっていることが
必要である。最終的に得られる分散された磁性粒子の少
なくとも表面が金属でない場合は、磁性粒子の少なくと
も表面を金属まで還元する必要がある。還元する方法と
しては、後記の第3の工程において乾燥ゲルを焼結する
際に、水素を含有する窒素ガス等の還元性ガスを用いて
還元するのが良い。その理由は、ゾルあるいはゲルの段
階では溶媒が存在するために、還元が効率よく行われな
いからである。
【0012】したがって、磁性粒子として、酸化物、ハ
ロゲン化物、カルコゲナイド等の非金属を用いた場合は
、少なくとも表面を金属に還元するか、あるいは、金属
で被覆する必要がある。また、上記した金属性磁性粒子
および非金属性磁性粒子を問わず、金、銀、銅およびア
ルミニウムから選ばれる少なくとも一種で被覆すれば、
偏光特性がさらに向上する。この被覆はスパッタ法、蒸
着法などの任意の方法で行なわれる。また銀イオンを含
む溶液に鉄粉を投入して表面に銀を析出させる方法でも
良い。
ロゲン化物、カルコゲナイド等の非金属を用いた場合は
、少なくとも表面を金属に還元するか、あるいは、金属
で被覆する必要がある。また、上記した金属性磁性粒子
および非金属性磁性粒子を問わず、金、銀、銅およびア
ルミニウムから選ばれる少なくとも一種で被覆すれば、
偏光特性がさらに向上する。この被覆はスパッタ法、蒸
着法などの任意の方法で行なわれる。また銀イオンを含
む溶液に鉄粉を投入して表面に銀を析出させる方法でも
良い。
【0013】アルキルシリケートの加水分解物に対する
磁性粉末の添加量は任意に決めることができ、得られた
ガラスの厚みを調整することにより、適当な消光比を持
つ偏光ガラスを作製できる。例えば、磁性粉末として磁
性金属であるFe(0.5x0.05x0.05μm、
アスペクト比10)を用いる場合には、これをアルキル
シリケートの加水分解物0.3モルに対して0.000
4〜0.00004モルの範囲で添加することが、粉末
の分布の均一性および安定したゲルを得るという観点か
ら適当である。他の磁性粒子を用いる場合でも、ほぼ同
様である。
磁性粉末の添加量は任意に決めることができ、得られた
ガラスの厚みを調整することにより、適当な消光比を持
つ偏光ガラスを作製できる。例えば、磁性粉末として磁
性金属であるFe(0.5x0.05x0.05μm、
アスペクト比10)を用いる場合には、これをアルキル
シリケートの加水分解物0.3モルに対して0.000
4〜0.00004モルの範囲で添加することが、粉末
の分布の均一性および安定したゲルを得るという観点か
ら適当である。他の磁性粒子を用いる場合でも、ほぼ同
様である。
【0014】本発明は、偏光ガラスの製造方法に関する
ものであるので、ここで偏光について説明すると、偏光
とは、光の振動ベクトルが一様でないものをいう。図5
に示すように、一般に光は、光の進行方向3に対して横
の成分1aと縦の成分2aの2つの成分で表すことがで
きる。ここに、異方性形状を有する金属粒子4が存在す
ると、光は金属粒子の短軸に平行な成分(横の光1b)
と長軸に平行な成分(縦の光2b)とで吸収の差を生じ
る。そして、この長軸に平行な成分と短軸に平行な成分
の吸収をそれぞれ吸光度として分光光度計で測定するこ
とができる。この短軸に平行な成分(横の光)と長軸に
平行な成分(縦の光)の吸光度に差が生じる現象を偏光
という。
ものであるので、ここで偏光について説明すると、偏光
とは、光の振動ベクトルが一様でないものをいう。図5
に示すように、一般に光は、光の進行方向3に対して横
の成分1aと縦の成分2aの2つの成分で表すことがで
きる。ここに、異方性形状を有する金属粒子4が存在す
ると、光は金属粒子の短軸に平行な成分(横の光1b)
と長軸に平行な成分(縦の光2b)とで吸収の差を生じ
る。そして、この長軸に平行な成分と短軸に平行な成分
の吸収をそれぞれ吸光度として分光光度計で測定するこ
とができる。この短軸に平行な成分(横の光)と長軸に
平行な成分(縦の光)の吸光度に差が生じる現象を偏光
という。
【0015】第1の工程で得られるゾルに、非晶質シリ
カパウダー、界面活性剤、高分子材料、有機金属錯体な
どを含有させることにより、磁性粒子を均一に分散させ
ることができる。界面活性剤の例としては、ノニルフェ
ノール系、アルキルアミン系、ポリカルボン酸系、アミ
ド系、アンモニウム塩系等のカチオンまたはアニオンま
たはノニオン性界面活性剤を挙げることができる。高分
子材料の例としては、ポリアクリル酸ソーダおよびその
誘導体、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、セル
ロースおよびその誘導体、ポリウレタンおよびその誘導
体、ポリエステルおよびその誘導体等を挙げることがで
きる。有機金属錯体の例としては、イソプロピル(N−
アミノエチルアミノエチル)チタネート等を挙げること
ができる。なお磁性材料としてキュリー温度まで昇温し
、熱処理したものを用いると、熱処理前のものに比べて
飽和磁化の値が小さくなるため、容易に磁性材料をゾル
中に分散できる。
カパウダー、界面活性剤、高分子材料、有機金属錯体な
どを含有させることにより、磁性粒子を均一に分散させ
ることができる。界面活性剤の例としては、ノニルフェ
ノール系、アルキルアミン系、ポリカルボン酸系、アミ
ド系、アンモニウム塩系等のカチオンまたはアニオンま
たはノニオン性界面活性剤を挙げることができる。高分
子材料の例としては、ポリアクリル酸ソーダおよびその
誘導体、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、セル
ロースおよびその誘導体、ポリウレタンおよびその誘導
体、ポリエステルおよびその誘導体等を挙げることがで
きる。有機金属錯体の例としては、イソプロピル(N−
アミノエチルアミノエチル)チタネート等を挙げること
ができる。なお磁性材料としてキュリー温度まで昇温し
、熱処理したものを用いると、熱処理前のものに比べて
飽和磁化の値が小さくなるため、容易に磁性材料をゾル
中に分散できる。
【0016】第1の工程で得られたゾルは第2の工程に
送られる。この第2の工程は、前記ゾルに磁場を加え、
磁性粒子を配向し、ゾルをゲル化してゲルを得る工程で
ある。本工程においてゾルに磁場を加える条件としては
、ゾルの粘性などによっても異なるが、100〜100
,000ガウスの磁場を10秒〜1時間加えるのが好ま
しく、これにより磁性粒子が配向される。その後、ゾル
を例えば20〜70℃で1分〜3日間加熱してゲル化し
てゲルを得る。
送られる。この第2の工程は、前記ゾルに磁場を加え、
磁性粒子を配向し、ゾルをゲル化してゲルを得る工程で
ある。本工程においてゾルに磁場を加える条件としては
、ゾルの粘性などによっても異なるが、100〜100
,000ガウスの磁場を10秒〜1時間加えるのが好ま
しく、これにより磁性粒子が配向される。その後、ゾル
を例えば20〜70℃で1分〜3日間加熱してゲル化し
てゲルを得る。
【0017】第2の工程で得られたゲルは第3の工程に
送られる。この第3の工程は、前記ゲルを乾燥し、乾燥
ゲルを得た後、この乾燥ゲルを焼結することによりガラ
スを得る工程である。本工程において、ゲルを例えば5
0〜120℃で1〜3週間乾燥することにより、水、ア
ルコールなどを蒸発させて乾燥ゲルを得、得られた乾燥
ゲルを例えば600〜1300℃で2〜20時間焼結す
ることにより、磁性粒子を含むガラスからなる偏光ガラ
スが得られる。
送られる。この第3の工程は、前記ゲルを乾燥し、乾燥
ゲルを得た後、この乾燥ゲルを焼結することによりガラ
スを得る工程である。本工程において、ゲルを例えば5
0〜120℃で1〜3週間乾燥することにより、水、ア
ルコールなどを蒸発させて乾燥ゲルを得、得られた乾燥
ゲルを例えば600〜1300℃で2〜20時間焼結す
ることにより、磁性粒子を含むガラスからなる偏光ガラ
スが得られる。
【0018】
【実施例】以下実施例により本発明を更に説明する。
実施例1
(第1の工程)41g(0.3モル)のテトラメトキシ
シランと10gのエタノールと10gの0.01Nアン
モニア水溶液とを10分間充分に混合して、テトラメト
キシシランを加水分解しゾルを得た。0.02g(0.
0004モル)の純鉄粉(0.5x0.05x0.05
μm、アスペクト比10)を分散剤であるイソプロピル
(N−アミノエチルアミノエチル)チタネート1gと充
分混合した後、上記ゾルに非晶質シリカパウダー4gと
共に添加し、出力1200ワットの超音波洗浄器を使っ
て、充分均一になるまで混合する。尚、分散剤をゾル中
に添加しても同様の分散効果が得られる。また、分散剤
を用いなくとも、超音波洗浄器を使い時間をかけて混合
すれば、充分均一な分散状態となる。
シランと10gのエタノールと10gの0.01Nアン
モニア水溶液とを10分間充分に混合して、テトラメト
キシシランを加水分解しゾルを得た。0.02g(0.
0004モル)の純鉄粉(0.5x0.05x0.05
μm、アスペクト比10)を分散剤であるイソプロピル
(N−アミノエチルアミノエチル)チタネート1gと充
分混合した後、上記ゾルに非晶質シリカパウダー4gと
共に添加し、出力1200ワットの超音波洗浄器を使っ
て、充分均一になるまで混合する。尚、分散剤をゾル中
に添加しても同様の分散効果が得られる。また、分散剤
を用いなくとも、超音波洗浄器を使い時間をかけて混合
すれば、充分均一な分散状態となる。
【0019】(第2の工程)得られたゾルを、直径15
mmのポリ(トリメチルペンテン)製試験管に均等に入
れ、シリコーンゴム栓で密封した後、5000ガウスの
磁場を加え、鉄粉を一方向に配向させる。磁場を加えた
まま30分間保持した後、50〜60℃の恒温槽中で3
時間加熱してゲル化し、ゲルを得た。
mmのポリ(トリメチルペンテン)製試験管に均等に入
れ、シリコーンゴム栓で密封した後、5000ガウスの
磁場を加え、鉄粉を一方向に配向させる。磁場を加えた
まま30分間保持した後、50〜60℃の恒温槽中で3
時間加熱してゲル化し、ゲルを得た。
【0020】(第3の工程)次いで、シリコーンゴム栓
を除き、ゲルを70〜80℃の恒温槽中で1週間加温、
乾燥して乾燥ゲルを得た。この乾燥ゲルを空気中、12
00℃で5時間加熱焼結してクラックや割れのない、鉄
粉を含むシリカガラスを得た。
を除き、ゲルを70〜80℃の恒温槽中で1週間加温、
乾燥して乾燥ゲルを得た。この乾燥ゲルを空気中、12
00℃で5時間加熱焼結してクラックや割れのない、鉄
粉を含むシリカガラスを得た。
【0021】得られた鉄粉含有シリカガラスを磁場の着
磁方向と平行な方向に切り出し、切り出した部分の両端
面を平行研磨し、偏光に対し鉄粉が平行に配向している
場合と鉄粉が垂直に配向している場合の吸光度を測定し
た。結果を図1に示す。図1から、得られた鉄粉含有シ
リカガラスは、波長500〜2000nmにおいて、横
の成分1bと縦の成分2bとで吸光度に差を生じ、偏光
ガラスとしての特性を有することを確認した。
磁方向と平行な方向に切り出し、切り出した部分の両端
面を平行研磨し、偏光に対し鉄粉が平行に配向している
場合と鉄粉が垂直に配向している場合の吸光度を測定し
た。結果を図1に示す。図1から、得られた鉄粉含有シ
リカガラスは、波長500〜2000nmにおいて、横
の成分1bと縦の成分2bとで吸光度に差を生じ、偏光
ガラスとしての特性を有することを確認した。
【0022】実施例2
0.02g(0.0004モル)の純鉄粉の代わりに、
0.02gの1wt%銀めっき鉄粉(0.5x0.05
x0.05μm、アスペクト比10、銀の厚さ約500
オングストローム)を用い、分散剤としてイソプロピル
(N−アミノエチルアミノエチル)チタネートの代わり
にポリビニルアルコールを用いた以外は、実施例1と同
様にして乾燥ゲルを調製した。この乾燥ゲルを酸素中で
600℃まで加熱して、1時間保持した後、加熱炉内を
ヘリウム雰囲気に変え、900℃でさらに10時間加熱
焼結して、クラックや割れのない、銀めっき鉄粉を含む
シリカガラスを得た。得られた銀めっき鉄粉含有シリカ
ガラスを磁場の着磁方向と平行な方向に切り出し、切り
出した部分の両端面を平行研磨し、偏光に対し銀めっき
鉄粉が平行に配向している場合と銀めっき鉄粉が垂直に
配向している場合の吸光度を測定した。結果を図2に示
す。図2から、得られた銀めっき鉄粉含有シリカガラス
は、実施例1で得られた偏光ガラスと同様に偏光ガラス
としての特性を有することを確認した。
0.02gの1wt%銀めっき鉄粉(0.5x0.05
x0.05μm、アスペクト比10、銀の厚さ約500
オングストローム)を用い、分散剤としてイソプロピル
(N−アミノエチルアミノエチル)チタネートの代わり
にポリビニルアルコールを用いた以外は、実施例1と同
様にして乾燥ゲルを調製した。この乾燥ゲルを酸素中で
600℃まで加熱して、1時間保持した後、加熱炉内を
ヘリウム雰囲気に変え、900℃でさらに10時間加熱
焼結して、クラックや割れのない、銀めっき鉄粉を含む
シリカガラスを得た。得られた銀めっき鉄粉含有シリカ
ガラスを磁場の着磁方向と平行な方向に切り出し、切り
出した部分の両端面を平行研磨し、偏光に対し銀めっき
鉄粉が平行に配向している場合と銀めっき鉄粉が垂直に
配向している場合の吸光度を測定した。結果を図2に示
す。図2から、得られた銀めっき鉄粉含有シリカガラス
は、実施例1で得られた偏光ガラスと同様に偏光ガラス
としての特性を有することを確認した。
【0023】実施例3
0.02g(0.0004モル)の純鉄粉の代わりに、
0.02gのNi粉(0.5x0.05x0.05μm
、アスペクト比10)を用い、分散剤としてイソプロピ
ル(N−アミノエチルアミノエチル)チタネートの代わ
りにジルコニウムテトラプロポキシドを用いた以外は、
実施例1と同様にして乾燥ゲルを調製した。この乾燥ゲ
ルを酸素中で600℃まで加熱して、1時間保持した後
、加熱炉内を水素雰囲気に変え、900℃でさらに10
時間加熱焼結して、クラックや割れのない、Ni粉を含
むシリカガラスを得た。得られたNi粉含有シリカガラ
スを磁場の着磁方向と平行な方向に切り出し、切り出し
た部分の両端面を平行研磨し、偏光に対しNi粉が平行
に配向している場合とNiが垂直に配向している場合の
吸光度を測定した。結果を図3に示す。図3から、得ら
れたNi粉含有シリカガラスは、実施例1で得られた偏
光ガラスと同様に偏光ガラスとしての特性を有すること
を確認した。
0.02gのNi粉(0.5x0.05x0.05μm
、アスペクト比10)を用い、分散剤としてイソプロピ
ル(N−アミノエチルアミノエチル)チタネートの代わ
りにジルコニウムテトラプロポキシドを用いた以外は、
実施例1と同様にして乾燥ゲルを調製した。この乾燥ゲ
ルを酸素中で600℃まで加熱して、1時間保持した後
、加熱炉内を水素雰囲気に変え、900℃でさらに10
時間加熱焼結して、クラックや割れのない、Ni粉を含
むシリカガラスを得た。得られたNi粉含有シリカガラ
スを磁場の着磁方向と平行な方向に切り出し、切り出し
た部分の両端面を平行研磨し、偏光に対しNi粉が平行
に配向している場合とNiが垂直に配向している場合の
吸光度を測定した。結果を図3に示す。図3から、得ら
れたNi粉含有シリカガラスは、実施例1で得られた偏
光ガラスと同様に偏光ガラスとしての特性を有すること
を確認した。
【0024】実施例4
アスペクト比が1.26、1.66、2.5、5、10
、20および30である7種のFe粉をそれぞれ用いた
以外は、実施例1と同様にして乾燥ゲルを調製した。 この乾燥ゲルを酸素中で600℃まで加熱して、1時間
保持した後、加熱炉内を水素雰囲気に変え、1000℃
でさらに10時間加熱焼結して、クラックや割れのない
、Fe粉を含むシリカガラスを得た。得られたFe粉含
有シリカガラスを磁場の着磁方向と平行な方向に切り出
し、切り出した部分の両端面を平行研磨し、偏光に対し
Fe粉が平行に配向している場合とFeが垂直に配向し
ている場合の吸光度(波長1500nm)を測定した。 結果を図4に示す。図4から、得られたFe粉含有シリ
カガラスは、実施例1で得られた偏光ガラスと同様に偏
光ガラスとしての特性を有することを確認した。特にア
スペクト比が増加するにつれて横の成分1bと縦の成分
2bとの吸光度の差が増大し、アスペクト比が8程度か
ら20程度までが最適範囲であることが明らかとなった
。
、20および30である7種のFe粉をそれぞれ用いた
以外は、実施例1と同様にして乾燥ゲルを調製した。 この乾燥ゲルを酸素中で600℃まで加熱して、1時間
保持した後、加熱炉内を水素雰囲気に変え、1000℃
でさらに10時間加熱焼結して、クラックや割れのない
、Fe粉を含むシリカガラスを得た。得られたFe粉含
有シリカガラスを磁場の着磁方向と平行な方向に切り出
し、切り出した部分の両端面を平行研磨し、偏光に対し
Fe粉が平行に配向している場合とFeが垂直に配向し
ている場合の吸光度(波長1500nm)を測定した。 結果を図4に示す。図4から、得られたFe粉含有シリ
カガラスは、実施例1で得られた偏光ガラスと同様に偏
光ガラスとしての特性を有することを確認した。特にア
スペクト比が増加するにつれて横の成分1bと縦の成分
2bとの吸光度の差が増大し、アスペクト比が8程度か
ら20程度までが最適範囲であることが明らかとなった
。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、目
的の波長において、粒子の濃度に対応する吸光度が得ら
れる偏光ガラスが提供される。さらに、本発明により得
られた偏光ガラスは、ガラス中に磁性粒子が分散されて
いるので、ファラデー回転ガラス、電磁波吸収ガラスと
しても用いることができる。
的の波長において、粒子の濃度に対応する吸光度が得ら
れる偏光ガラスが提供される。さらに、本発明により得
られた偏光ガラスは、ガラス中に磁性粒子が分散されて
いるので、ファラデー回転ガラス、電磁波吸収ガラスと
しても用いることができる。
【図1】実施例1により得られた偏光ガラスの波長に対
する吸光度を示す図。
する吸光度を示す図。
【図2】実施例2により得られた偏光ガラスの波長に対
する吸光度を示す図。
する吸光度を示す図。
【図3】実施例3により得られた偏光ガラスの波長に対
する吸光度を示す図。
する吸光度を示す図。
【図4】実施例4により得られた偏光ガラスのアスペク
ト比に対する吸光度を示す図。
ト比に対する吸光度を示す図。
【図5】偏光現象を説明するための図。
1a,1b 磁性粒子の短軸に平行な光成分の吸
収2a,2b 磁性粒子の長軸に平行な光成分の
吸収3 光の方向
収2a,2b 磁性粒子の長軸に平行な光成分の
吸収3 光の方向
Claims (3)
- 【請求項1】 アルキルシリケートの加水分解物およ
びアスペクト比が1より大きい磁性粒子を含むゾルを得
る第1の工程、前記ゾルに磁場を加え、前記磁性粒子を
配向し、前記ゾルをゲル化してゲルを得る第2の工程、
および前記ゲルを乾燥し、乾燥ゲルを得た後、この乾燥
ゲルを焼結することにより、ガラスを得る第3の工程を
含むことを特徴とする偏光ガラスの製造方法。 - 【請求項2】 磁性粒子が金、銀、銅およびアルミニ
ウムから選ばれる少なくとも一種で被覆されていること
を特徴とする請求項1記載の偏光ガラスの製造方法。 - 【請求項3】 第3の工程において、乾燥ゲルを還元
性雰囲気中で焼結することを特徴とする請求項1又は2
記載の偏光ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9560691A JPH04325423A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 偏光ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9560691A JPH04325423A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 偏光ガラスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04325423A true JPH04325423A (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=14142216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9560691A Withdrawn JPH04325423A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 偏光ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04325423A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0967141A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-11 | Agency Of Ind Science & Technol | 保磁力を有するガラス材料 |
US6563639B1 (en) * | 2002-01-24 | 2003-05-13 | Corning Incorporated | Polarizing glasses |
JP2004354927A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Kansai Tlo Kk | ナノサイズのEuO結晶又はEuS結晶を含有する光磁気応答性プラスチック |
JP2008176065A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk | 光学異方性を有する複合材料及び電子装置の製造方法 |
JP4772054B2 (ja) * | 2004-10-04 | 2011-09-14 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 光−偏光性の固形の塗膜組成物、同上物から構成される光学レンズ、および同上物の製作方法 |
-
1991
- 1991-04-25 JP JP9560691A patent/JPH04325423A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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