JPH1167424A - ヒータ支持装置 - Google Patents
ヒータ支持装置Info
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- JPH1167424A JPH1167424A JP9238849A JP23884997A JPH1167424A JP H1167424 A JPH1167424 A JP H1167424A JP 9238849 A JP9238849 A JP 9238849A JP 23884997 A JP23884997 A JP 23884997A JP H1167424 A JPH1167424 A JP H1167424A
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- heater
- piece holder
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Abstract
耐久性、安全性及び経済性の向上が図れるヒータ支持装
置を提供する。 【解決手段】被加熱体の周りにコイル状に成形された発
熱線31が配設され、鉛直方向に多数連設された保持用
ピース32間に径方向に長い長円の空洞部41が形成さ
れ、前記発熱線が前記空洞部を挿通し、前記保持用ピー
スを介して支持され、前記発熱線は発熱による温度変化
により膨脹、収縮し、前記空洞部内を前記被加熱体の径
方向に移動する。又、前記保持用ピースはピースホルダ
に水平方向の動きを規制され、該ピースホルダは前記断
熱材により径方向の動きを規制される。
Description
に縦型炉に使用される半導体製造装置用ヒータに関する
ものである。
成長工程があり、斯かる工程を行う装置として縦型炉が
ある。
給してウェーハ等被処理基板表面に各種薄膜を生成する
ものであり、加熱装置としてヒータを具備している。
置用ヒータを具備する縦型炉の概略を説明する。
内部に均熱管3、該均熱管3内部に反応管4が同心多重
に設けられており、該反応管4にはボート5が装入され
る。該ボート5はボートキャップ6を介してエレベータ
キャップ7に載置され、該エレベータキャップ7は図示
しないボートエレベータに設けられ昇降可能である。
通され、前記反応管4の下端には排気口9が設けられて
いる。前記ガス導入管8の下端はガス供給管10と接続
され、前記排気口9は排気管11と接続されている。
状態で、所要枚数のウェーハ12を前記ボート5に装填
し、前記ボートエレベータ(図示せず)により前記ボー
ト5を上昇させ前記反応管4内に装入する。前記ヒータ
2で前記反応管4内を所定の温度に加熱し、前記ガス供
給管10、ガス導入管8より反応ガスを前記反応管4内
に導入し、前記ウェーハ12表面に薄膜を生成し、反応
後のガスは前記排気口9、排気管11を経て排気され
る。
2について説明する。
発熱線13が設けられ、該発熱線13は断面が円形で、
保持用ピース14により円周を所要等分した位置で支持
されている。
ミナ94.2%含有)製で、鉛直方向に多数個連結され
ている。
個の外側斜め上方に延出する突起部16,17が形成さ
れ、該突起部16の肉厚は前記突起部17の肉厚より厚
く、前記突起部16の外側側面が前記上面15と成す内
角と前記突起部17の外側側面が前記上面15と成す内
角とは等しくなっている。前記2個の突起部16,17
の間には半円柱形状の上向凹曲面18が形成され、該上
向凹曲面18の直径は前記発熱線13の直径より若干大
きくしてある。又、前記保持用ピース14の下面には凹
部19が設けられ、該凹部19は逆台形状の嵌合部20
と、該嵌合部20に連続して形成された下向き半円形の
下向凹曲面21とで形成され、前記嵌合部20は前記突
起部16,17と嵌合可能となっている。前記突起部1
6,17と前記嵌合部20が嵌合することにより、前記
各保持用ピース14間の鉛直方向及び前記縦型炉1の径
方向の相対変位は規制されると共に前記上向凹曲面18
と前記下向凹曲面21とで円形断面の空洞部22を形成
する様になっている。
方向に連結されることで、鉛直方向に等間隔で多数の前
記空洞部22が形成され、該空洞部22内に前記発熱線
13が挿通され支持される。
3,24が巻設され、内側の断熱材23は前記保持用ピ
ース14の一端部を円周方向から挾持している。更に、
前記断熱材24の外面は図示しないヒータケースにより
覆われている。
処理中、前記発熱線13が発熱し膨脹することにより、
前記発熱線13のコイル直径が拡大し、前記保持用ピー
ス14には前記縦型炉1の反中心方向に力が作用し、該
保持用ピース14は前記発熱線13と共に前記縦型炉1
の反中心方向に移動する。又、前記断熱材23も前記発
熱線13の発熱の影響で高温となり膨脹する。
停止すると、該発熱線13の温度が降下し、コイルの直
径が収縮することにより前記保持用ピース14には前記
縦型炉1の中心方向の力が作用し、該保持用ピース14
は前記発熱線13と共に前記縦型炉1の中心方向に移動
する。又、前記断熱材23も前記発熱線13の温度降下
の影響で温度が降下し収縮する。
処理が施される度に、前記縦型炉1内は昇温、降温を繰
返し、前記発熱線13、断熱材23は前述した様に膨
脹、収縮を繰返す。
では各保持用ピース間の円周方向の相対変位は保持用ピ
ースの構造上規制されていないので、炉内の昇温、降温
が繰返されることにより、発熱線、断熱材が膨脹、収縮
を繰返し、保持用ピースが前記断熱材より抜脱し、更に
前記保持用ピース間で円周方向の相対変位が生じて、各
保持用ピース間の連結が外れ、発熱線同士が接触し短絡
事故が発生する虞れがある。
持用ピースと共に縦型炉の径方向に移動し、発熱線が導
電性のある均熱管と接触し、漏電事故が発生する虞れが
ある。
と、連結された保持用ピースの縦型炉の中心方向及び反
中心方向の動きが規制されていない為、連結された状態
で保持用ピースが縦型炉の中心方向に移動すると、断熱
材による保持用ピースの支持が外れる。更に、各保持用
ピース間の円周方向の相対変位が構造上規制されていな
い為、各保持用ピース間の連結が円周方向にずれたり外
れることがあった。更に又、各保持用ピース間の連結が
外れた衝撃等により保持用ピース等が破損することもあ
り、部品の取替えや再組立てが必要となり不経済であっ
た。
のずれ、外れ、破損等を防止し、耐久性、安全性及び経
済性の向上が図れる半導体製造装置用ヒータを提供しよ
うとするものである。
りにコイル状に成形された発熱線が配設され、鉛直方向
に多数連設された保持用ピース間に径方向に長い長円の
空洞部が形成され、前記発熱線が前記空洞部を挿通し、
前記保持用ピースを介して支持されたヒータ支持装置に
係り、又、前記保持用ピースの上面と下面の少なくとも
どちらか一方に凹部を設けると共に他方に該凹部に嵌合
可能な突起部を設け、前記凹部、突起部をそれぞれ左右
非対称としたヒータ支持装置に係り、又、前記保持用ピ
ースが鉛直方向に連設されたピースホルダに水平方向の
動きが規制される様支持され、該ピースホルダが前記発
熱線の周りに設けられた周囲断熱材に支持されたヒータ
支持装置に係り、又、前記保持用ピースと前記ピースホ
ルダの少なくともどちらか一方に凹部を設けると共に該
凹部側面に係止溝を形成し、他方に該係止溝に係合可能
な係止凸部を形成し、前記保持用ピースが前記ピースホ
ルダに前記係止溝を介して嵌脱可能としたヒータ支持装
置に係り、又、前記ピースホルダの上端面と下端面の少
なくともどちらか一方に凹部を設け、他方に該凹部に嵌
合可能な凸部を設けたヒータ支持装置に係り、更に又、
前記周囲断熱材、ヒータがヒータコイル受けに立設さ
れ、前記周囲断熱材の上端に設けられた天井断熱材の下
面に下方に突出する段差部を設け、前記ヒータコイル受
け上面に隆起部を設け、前記最上位のピースホルダが前
記最上位の保持用ピースより突出し、前記最下位のピー
スホルダが前記最下位の保持用ピースより突出し、前記
最上位のピースホルダ突出部が前記段差部に係合可能と
し、前記最下位のピースホルダ突出部が前記隆起部に係
合可能としたヒータ支持装置に係り、前記発熱線の発熱
により前記被加熱体を加熱すると共に前記発熱線が温度
変化により膨脹、収縮し、前記空洞部内を前記被加熱体
の径方向に移動する。又、前記保持用ピースは前記ピー
スホルダに水平方向の動きを規制され、該ピースホルダ
は前記段差部及び前記隆起部により中心方向の動きを規
制されると共に前記周囲断熱材により反中心方向及び円
周方向の動きを規制される。
明の実施の形態を説明する。
コイル状の発熱線31が設けられ、該発熱線31は断面
が円形で、連結された保持用ピース32により円周を所
要等分した位置で支持されている。
ミナ96%含有)製で、鉛直方向に多数個連結されてい
る。
方が左右離反方向に延出する2個の突起部34,35が
形成され、前記突起部34の外側側面が前記上面33と
成す内角aは前記突起部35の外側側面が前記上面33
と成す内角bより小さくなっている。前記2個の突起部
34,35の間には断面が半長円形の上向凹曲面36が
形成されている。又、前記保持用ピース32の下面には
凹部37が設けられ、該凹部37は逆台形状で前記突起
部34,35と嵌合可能な嵌合部38と、該嵌合部38
に連続して設けられた半長円形の下向凹曲面39とで形
成されている。又、保持用ピース32の反中心側の一側
面には鉛直方向に延びる略半円柱形状の係止凸部40が
形成されている。
嵌合することにより、前記各保持用ピース32間の鉛直
方向及び縦型炉(図示せず)の径方向の相対変位は規制
され、又、前記上向凹曲面36と前記下向凹曲面39と
で縦型炉の径方向に長い長円形状の空洞部41を形成す
る様になっている。前記保持用ピース32が鉛直方向に
多数連結されることで、鉛直方向に等間隔で多数の前記
空洞部41が形成される。
置には前記上向凹曲面36と後述する段差部54で挾持
された最上位の空洞部41aが形成され、最下位置には
前記保持用ピース32の前記嵌合部38に前記突起部3
4,35と前記上向凹曲面36を有する最下位用保持用
ピース42が嵌合することにより最下位の空洞部41b
が形成されている。前記発熱線31は非発熱時の最も収
縮した状態で前記空洞部41の中心側に位置し、前記空
洞部41の前記縦型炉の反中心側に空隙を保つ様、前記
空洞部41に挿通され支持される。
心側はピースホルダ43に嵌合されている。該ピースホ
ルダ43は縦長の直方体に鉛直方向に貫通する凹部44
を刻設し形成され、水平断面が略コの字状を成し、該凹
部44の一内側面には半円柱状の係止溝45が刻設され
ている。
記凹部44の縁に沿って凸部47が形成され、該凸部4
7の外周縁部はテーパ面となっている。又、前記ピース
ホルダ43の下端面48には前記凹部44の縁に沿って
凹部49が形成され、前記凸部47は前記凹部49と契
合可能となっている。而して、前記凸部47と前記凹部
49との契合により、前記各ピースホルダ43間の水平
方向の相対変位が規制される様になっている。
ピース32の継目と一致しない様、鉛直方向に連結さ
れ、前記保持用ピース32の前記縦型炉の反中心側は前
記凹部44に嵌合可能であり、前記係止溝45に前記係
止凸部40が嵌合することにより、前記保持用ピース3
2の前記ピースホルダ43に対する前記縦型炉の径方向
及び円周方向の相対変位が規制される様になっている。
31と同心に円筒形状の周囲断熱材50,51が2重に
設けられている。該周囲断熱材50には円周を所要等分
した各位置に該周囲断熱材50の上端から下端に亘り鉛
直方向にそれぞれ溝52が刻設され、該溝52に前記ピ
ースホルダ43が反中心方向側及び円周方向側の3側面
を当接させ支持されている。連結された前記ピースホル
ダ43の最上位置には最上位用ピースホルダ43aが連
結され、最下位置には最下位用ピースホルダ43bが連
結され、連結された前記ピースホルダ43の高さは前記
周囲断熱材50の高さと同一となっている。更に、前記
周囲断熱材51の外面は図示しないヒータケースにより
覆われている。
周囲断熱材50,51の上端には円盤形状の天井断熱材
53が水平姿勢で設けられている。該天井断熱材53の
下面には該天井断熱材53より一回り小さい円盤形状の
段差部54が下方に突出し、該段差部54の外周縁に前
記最上位用ピースホルダ43aの中心側側面の上部が当
接する様になっている。該段差部54は最上位の前記発
熱線31の上端が略当接する厚さになっている。
50,51は断熱シート55を介して円環状のヒータコ
イル受け56に立設され、該ヒータコイル受け56上面
には内周縁に沿って、前記最下位用ピースホルダ43b
の中心側側面の下部が当接する隆起部57が形成されて
いる。該隆起部57の外周縁は前記段差部54の外周縁
と同心且同径の円形を成し、前記隆起部57の上に前記
断熱シート55を介して前記最下位用保持用ピース42
が支持されている。又、前記ヒータコイル受け56の外
周面及び下面にはそれぞれ前記断熱シート55が貼設さ
れている。
の中心側側面の上部が前記段差部54の外周縁に当接
し、更に、前記最下位用保持用ピース42が前記隆起部
57上に支持される分、前記ピースホルダ43が下方に
突出し、突出した部分が前記隆起部57に当接し、前記
ピースホルダ43の中心方向への動きは規制される。
のについては説明を省略する。
膜処理が行われている間、前記縦型炉内は前記発熱線3
1により加熱され該発熱線31自体も高温となる。該発
熱線31は膨脹し、コイル径が拡大し、前記保持用ピー
ス32に支持されている部分を含め全周に亘り前記縦型
炉の反中心方向に移動する。前記空洞部41は前記縦型
炉の反中心側に空隙を残置している為、前記発熱線31
の前記空洞部41での反中心方向の移動を許容し前記保
持用ピース32に力が作用することがなく、又、連結さ
れた前記ピースホルダ43の反中心方向側側面は前記断
熱材50により支持されているので、連結された前記ピ
ースホルダ43が前記縦型炉の反中心方向に移動するこ
とはない。又、前記断熱材50は前記発熱線31の発熱
により高温となり膨脹する。
停止し、該発熱線31自体の温度が降下する。該発熱線
31のコイル径は縮小し、全周に亘り前記縦型炉の中心
方向に移動する。前記発熱線31は最も収縮した状態で
前記空洞部41の中心側に位置する様予め設定されてい
る為、前記発熱線31のコイル径の縮小により、連結さ
れた前記保持用ピース32に中心方向に力が作用するこ
とがなく、又、連結された前記ピースホルダ43の最上
部及び最下部がそれぞれ前記段差部54及び前記突起部
57に当接している為、連結された前記ピースホルダ4
3が前記縦型炉の中心方向に移動することはない。前記
断熱材50は温度降下につれて収縮するが、前記発熱線
31のコイル径の縮小により前記ピースホルダ43の移
動を引起すことはない。
用ピース32の上面33に前記突起部34,35が設け
られ、下面に前記凹部37が形成されているが、前記上
面33に前記凹部37が設けられ、下面に前記突起部3
4,35が設けられていてもよく、又、両面に突起部及
び凹部がそれぞれ嵌合可能に設けられていてもよい。
又、前記ピースホルダ43の下面に前記凸部47が設け
られ、上面に前記凹部49が設けられていてもよく、
又、両面に凸部及び凹部がそれぞれ嵌合可能に設けられ
ていてもよい。更に、前記保持用ピース32は鉛直方向
に所定の間隔で連結されているが、外側部分に前記発熱
線31挿通用の切欠部を設ける等該発熱線31の挿通手
段を考慮し、連結間隔をより長くしてもよく、又、一体
型としてもよい。又、前記ピースホルダ43の連結間隔
も長くしてもよく、又、一体型としてもよい。更に又、
前記凹部44は前記保持用ピース32と前記ピースホル
ダ43とが嵌合可能で且前記保持用ピース32の動きが
規制されれば、他の形状でもよく、どちらか一方或は両
方に凹部と凸部がそれぞれ嵌合可能に設けられていても
よく、更に、前記保持用ピース32とピースホルダ43
は一体であってもよい。
施した場合であるが、半導体製造装置以外の炉を有する
装置に実施可能であることは言う迄もない。
は保持用ピースに相対移動可能に支持されている為、発
熱線のコイル径の拡大、縮小により連結されている保持
用ピースに力が作用することがなく、又、保持用ピース
はピースホルダに対して、縦型炉の径方向及び円周方向
の相対変位が規制され、更に、連結されているピースホ
ルダの縦型炉の中心方向の動きは天井断熱材の段差部及
びヒータコイル受けの隆起部により規制されている。従
って、発熱線の膨脹、収縮により保持用ピースの連結等
が外れ、部品が破損したり、発熱線同士が接触して短絡
を起したり、又、発熱線が導電性のある他の部品と接触
し、漏電事故が発生するのを防止でき、耐久性、安全性
の向上が図れる。又、搬送時等に保持用ピースの連結等
が外れ、部品が破損することがないので再組立作業を要
することがない。更に、保持用ピースの凹部及び突起部
の形状が左右対称でないので間違って左右逆に組立てる
ことがなく作業性、生産性及び経済性の向上が図れる。
更に又、保持用ピース及びピースホルダをそれぞれ複数
個連結させることで、発熱線の膨脹、収縮により水平方
向の力が保持用ピース及びピースホルダに作用しても連
結部分に力を吸収するだけの逃げを作ることができる
為、保持用ピースの破損や発熱線の折損を防止すること
ができる等種々の優れた効果を発揮する。
ある。
ある。
示す部分詳細図である。
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 被加熱体の周りにコイル状に成形された
発熱線が配設され、鉛直方向に多数連設された保持用ピ
ース間に径方向に長い長円の空洞部が形成され、前記発
熱線が前記空洞部を挿通し、前記保持用ピースを介して
支持されたことを特徴とするヒータ支持装置。 - 【請求項2】 前記保持用ピースの上面と下面の少なく
ともどちらか一方に凹部を設けると共に他方に該凹部に
嵌合可能な突起部を設け、前記凹部、突起部をそれぞれ
左右非対称とした請求項1のヒータ支持装置。 - 【請求項3】 前記保持用ピースが鉛直方向に連設され
たピースホルダに水平方向の動きが規制される様支持さ
れ、該ピースホルダが前記発熱線の周りに設けられた周
囲断熱材に支持された請求項1又は請求項2のヒータ支
持装置。 - 【請求項4】 前記保持用ピースと前記ピースホルダの
少なくともどちらか一方に凹部を設けると共に該凹部側
面に係止溝を形成し、他方に該係止溝に係合可能な係止
凸部を形成し、前記保持用ピースが前記ピースホルダに
前記係止溝を介して嵌脱可能とした請求項3のヒータ支
持装置。 - 【請求項5】 前記ピースホルダの上端面と下端面の少
なくともどちらか一方に凹部を設け、他方に該凹部に嵌
合可能な凸部を設けた請求項3又は請求項4のヒータ支
持装置。 - 【請求項6】 前記周囲断熱材、ヒータがヒータコイル
受けに立設され、前記周囲断熱材の上端に設けられた天
井断熱材の下面に下方に突出する段差部を設け、前記ヒ
ータコイル受け上面に隆起部を設け、前記最上位のピー
スホルダが前記最上位の保持用ピースより突出し、前記
最下位のピースホルダが前記最下位の保持用ピースより
突出し、前記最上位のピースホルダ突出部が前記段差部
に係合可能とし、前記最下位のピースホルダ突出部が前
記隆起部に係合可能とした請求項3、請求項4、請求項
5のヒータ支持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23884997A JP3848442B2 (ja) | 1997-08-20 | 1997-08-20 | ヒータ支持装置及び半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23884997A JP3848442B2 (ja) | 1997-08-20 | 1997-08-20 | ヒータ支持装置及び半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006104351A Division JP4145328B2 (ja) | 2006-04-05 | 2006-04-05 | ヒータ支持装置及び加熱装置及び半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1167424A true JPH1167424A (ja) | 1999-03-09 |
JP3848442B2 JP3848442B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=17036185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23884997A Expired - Lifetime JP3848442B2 (ja) | 1997-08-20 | 1997-08-20 | ヒータ支持装置及び半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3848442B2 (ja) |
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---|---|
JP3848442B2 (ja) | 2006-11-22 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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