KR20010087542A - 반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 확산 공정상에서 다수의 웨이퍼(Wafer)를 탑재한 채 캐리어(Carrier)에 의해 노(爐)내로 이송되는 석영 보트의 웨이퍼 지지장치에 관한 것으로, 대략 원통 형상을 갖는 바디와; 상기 바디의 가장자리면에 복수로 마련되어 웨이퍼의 가장자리면을 지지하는 지지편과; 상기 바디의 가장자리면에서 대략 중심부까지 연장되어 웨이퍼의 휨 변형을 방지하는 변형 방지부재; 를 포함하여 된 것으로서, 상기 바디에 탑재되는 웨이퍼를 복수의 지지편과 지지판을 통해 가장자리면과 중심면을 지지하도록 함으로써 웨이퍼 직경의 대형화에 따른 각 웨이퍼의 슬림(slim) 현상 및 웨이퍼의 변형과 깨짐 현상을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

Description

반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치 {A wafer support mechanism of quartz boat for semiconductor's diffusion step}

본 발명은 반도체 확산 공정상에서 다수의 웨이퍼(wafer)를 탑재한 채 캐리어에 의해 노(爐)내로 이송되는 석영 보트(quartz boat)의 웨이퍼 지지장치에 관한것이다.

일반적으로 반도체 제조 설비중 확산(diffusion) 공정을 진행하는 설비로 사용되고 있는 노(爐)는 반도체 웨이퍼에 고온의 열을 가하여 불순물을 확산하는데 사용하는 장비이다.

이러한 노(爐)는 히터에서 전기 에너지를 열 에너지로 변환하여 고온(약 1200℃)의 열을 유지하고 있다.

이와같은 노(爐) 내부로는 다수의 웨이퍼(wafer)를 탑재시켜 운반하는 석영 보트(quartz boat)와 여러개의 석영 보트가 탑재되는 석영 중개 캐리어(quartz intermediate carrier)가 안내되도록 되어 있다.

도 1은 일반적인 웨이퍼 지지장치를 나타낸 측면도이며, 도 2는 도 1의 A-A선 단면도이며, 이를 상세히 설명한다.

석영 보트(미도시)의 내부에는 다수의 웨이퍼(wafer;미도시)를 탑재시킬 수 있도록 공간부(미도시)가 형성되고 이에 대략 원통형상을 가지며 탑재되어 웨이퍼를 지지하는 바디(body;10)가 설치되어 있다.

상기 바디(10)에는 탑재되는 웨이퍼의 외주단부를 지지하도록 가장자리면을 따라 적어도 3개 이상의 지지편(20)이 연장 형성된다.

따라서 상기 석영 보트의 공간부상에 탑재되는 웨이퍼는 상기 바디(10)에 연장 형성된 다수의 지지편(20)에 의해 가장자리면이 지지된 채 탑재되게 되는 것이다.

그러나 이와같은 석영 보트의 웨이퍼 지지장치에 있어서는, 상기 바디(10)에의해 지지된 채로 석영 보트에 탑재되어 노(爐)내로 삽입되면 약 1200℃의 고온의 열을 가하면서 불순물 이온주입 과정을 진행하게 되면 웨이퍼 자체의 중량과 고온의 열에 의해 열화되면서 웨이퍼의 중심부분이 변형되는 문제점이 발생된다.

이와같이 웨이퍼의 휨 변형에 의하여 차기 공정, 예컨대 웨이퍼의 이송 공정상에서 깨짐현상이 초래되는 등 치명적인 문제점을 야기시키게 된다.

본 발명은 이와같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 석영 보트내에 다수 탑재되는 웨이퍼의 처짐, 즉 변형을 미연에 방지할 수 있도록 하므로써 공정상에서 웨이퍼의 깨짐을 미연에 방지할 수 있는 석영 보트의 웨이퍼 지지장치를 제공함에 그 목적이 있다.

도 1는 일반적인 웨이퍼 지지장치의 측면도

도 2는 도 1의 A-A선 단면도

도 3는 본 발명에 따른 웨이퍼 지지장치의 사시도

도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 지지장치의 측면도

도 5는 도 4의 B-B선 단면도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

10 : 바디 20 : 지지편

30 : 변형방지 부재

이와같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치는, 대략 원통 형상을 갖는 바디와; 상기 바디의 가장자리 면에 복수로 마련되어 웨이퍼의 가장자리 면을 지지하는 지지편과; 상기 바디의 가장자리 면에 일측단이 고정되고 타측단이 대략 중심부까지 소정길이 연장되어 웨이퍼의 휨 변형을 방지하는 변형방지 부재; 를 포함하여 이루어진 것을 그 특징으로 한다.

본 발명의 바람직한 한 특징은, 상기 변형 방지부재는, 상기 바디의 가장자리면에 일단이 고정되고, 타측단이 바디의 탑재 공간부 중심 내측을 향해 소정길이연장 형성되어 상기 웨이퍼의 중심 가장자리면을 지지하도록 3개 이상의 복수로 마련된 것에 있다.

이하 본 발명에 따른 웨이퍼 지지장치의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 지지장치의 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 지지장치의 측면도이며, 도 5는 도 3의 B-B선 단면도이다.

그리고 이하에서는 도 1 및 도 2를 참조하여 설명하며 동일부품에는 동일한 부호를 부여하였다.

본 발명에 따른 반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치는, 석영 보트(미도시)의 내부에는 다수의 웨이퍼(wafer;미도시)를 탑재시킬 수 있도록 공간부(미도시)가 형성되고 이에 대략 원통형상을 가지며 탑재되는 웨이퍼를 지지하도록 바디(body;10)가 설치되어 있다.

상기 바디(10)에는 탑재되는 웨이퍼의 외주단부를 지지하도록 가장자리 면을 따라 적어도 2개 이상의 지지편(20)이 연장 형성된다.

또한, 상기 지지편(20)상에 탑재된 웨이퍼의 중심면이 변형되는 것을 방지하기 위해 바디(10)의 가장자리 면에는 변형방지 부재(30)가 마련된다.

이러한 변형방지 부재(30)는 도 3 및 도 4에 나타낸 바와 같이 바디(10)의 가장자리면에서 중심 내측을 향해 소정길이 연장되어 복수로 형성 된다.

즉, 변형방지 부재(30)는 바디(10)의 중심면을 향해 연장됨으로써 웨이퍼의 중심부분을 지지하게 되는 것이다.

상기 바디(10)의 가장자리 면에서 연장 형성된 지지편(20) 및 변형방지 부재(30)의 상면까지의 높이는 동일하게 형성하는 것이 바람직하다.

이러한 변형방지 부재(30)는 도시한 바와 같이 적어도 2개 이상의 등각도로 마련되며, 바람직하게는 4개 즉, 90도의 등간격으로 마련되는 것이 좋다.

이러한 구성을 갖는 본 발명에 따른 반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치는, 바디(10)상에 탑재되는 웨이퍼가 지지편(20)에 의해 가장자리 면이 지지되고, 동시에 변형방지 부재(30)에 의해 중심면이 지지되는 것이기 때문에 웨이퍼 자체의 중량 및 고온에 의해 중심부분이 처지는 변형을 미연에 방지할 수 있게된다.

이와같이 상술한 본 발명의 적용 범위는 이에 한정되는 것이 아니며, 본원의 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 적절하게 변경 가능한 것은 당업자라면 주지할 수 있는 사실일 것이다.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치에 의하면, 바디상에 탑재되는 웨이퍼를 복수의 지지편과 변형방지 부재를 통해 가장자리 면과 중심면을 동시에 지지토록 하므로써, 웨이퍼 직경의 대형화에 따른 각 웨이퍼의 슬림(slim) 현상 및 웨이퍼의 변형과 깨짐 현상을 방지할 수 있다.

Claims (2)

1. 대략 원통 형상을 갖는 바디와;

   상기 바디의 가장자리 면에 복수로 마련되어 웨이퍼의 가장자리 면을 지지하는 지지편과;

   상기 바디의 가장자리 면에 일측단이 고정되고 타측단이 대략 중심부까지 소정길이 연장되어 웨이퍼의 휨 변형을 방지하는 변형방지 부재;

   를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 변형방지 부재는 상기 바디의 가장자리 면에 복수로 설치하되, 각각의 변형방지 부재는 등간격으로 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 확산 공정용 석영 보트의 웨이퍼 지지장치.