JP2000323423A - ウェハ保持用ボート - Google Patents
ウェハ保持用ボートInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハの熱処理時においてパーティクルが発
生するという従来の問題点を解決し、ウェハの熱処理結
果に品質低下を来すことがないウェハ保持用ボートを提
供する。 【解決手段】 二つの押さえ板の間にウェハを保持する
溝が設けられた複数の柱を支持したウェハ保持用ボート
において、前記二つの押さえ板を、ウェハとの熱膨張率
の差がウェハと石英との熱膨張率の差よりも小さなポリ
シリコンにて構成し、前記複数の柱をＳｉＣまたは石英
のいずれかにより構成した。
生するという従来の問題点を解決し、ウェハの熱処理結
果に品質低下を来すことがないウェハ保持用ボートを提
供する。 【解決手段】 二つの押さえ板の間にウェハを保持する
溝が設けられた複数の柱を支持したウェハ保持用ボート
において、前記二つの押さえ板を、ウェハとの熱膨張率
の差がウェハと石英との熱膨張率の差よりも小さなポリ
シリコンにて構成し、前記複数の柱をＳｉＣまたは石英
のいずれかにより構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体製
造装置のＣＶＤ装置等に使用されるウェハ保持用ボート
に関し、特に、二つの押さえ板の間にウェハ（シリコン
ウェハ）を保持する複数の溝が設けられた複数の柱を支
持したウェハ保持用ボートに関するものである。
造装置のＣＶＤ装置等に使用されるウェハ保持用ボート
に関し、特に、二つの押さえ板の間にウェハ（シリコン
ウェハ）を保持する複数の溝が設けられた複数の柱を支
持したウェハ保持用ボートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８は、石英またはＳｉＣより一体成形
されたウェハ保持用ボートを示す斜視図である。ウェハ
保持用ボート１は、上下に所定の長さ間隔を有して設け
られた二つの押さえ板である天板２および底板３と、こ
れら天板２および底板３との間において立設された複数
の柱４とを備えている。複数の柱４には図９に示される
ように柱の長さ（高さ）方向に複数の溝５が設けられて
おり、これらの各溝５内にウェハ６の周縁が保持され
る。
されたウェハ保持用ボートを示す斜視図である。ウェハ
保持用ボート１は、上下に所定の長さ間隔を有して設け
られた二つの押さえ板である天板２および底板３と、こ
れら天板２および底板３との間において立設された複数
の柱４とを備えている。複数の柱４には図９に示される
ように柱の長さ（高さ）方向に複数の溝５が設けられて
おり、これらの各溝５内にウェハ６の周縁が保持され
る。
【０００３】以上のウェハ保持用ボートは、石英または
ＳｉＣにより成形されているため、加工が容易であり、
基板保持溝の加工精度に優れ、また、強度も強いという
利点を有する。
ＳｉＣにより成形されているため、加工が容易であり、
基板保持溝の加工精度に優れ、また、強度も強いという
利点を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウェハ
保持用ボートを石英で構成した場合、石英の熱膨張率
（０．５４×１０-6℃-1）は、ボートに支持されるウェ
ハ（シリコンウェハ：２．４×１０-6℃-1）の熱膨張率
との差が大きく、したがって、ウェハ保持用ボートでウ
ェハを保持して加熱すると、石英の熱膨張率よりウェハ
の熱膨張率がかなり大きいので、ウェハ周縁部がボート
の柱の溝面に対してその半径外方向に摺動し、その結果
パーティクルが発生してウェハの熱処理結果の品質を低
下させるという問題点がある。
保持用ボートを石英で構成した場合、石英の熱膨張率
（０．５４×１０-6℃-1）は、ボートに支持されるウェ
ハ（シリコンウェハ：２．４×１０-6℃-1）の熱膨張率
との差が大きく、したがって、ウェハ保持用ボートでウ
ェハを保持して加熱すると、石英の熱膨張率よりウェハ
の熱膨張率がかなり大きいので、ウェハ周縁部がボート
の柱の溝面に対してその半径外方向に摺動し、その結果
パーティクルが発生してウェハの熱処理結果の品質を低
下させるという問題点がある。
【０００５】図１０、図１１はその様子を示す、図９の
Ａ−Ａ線断面図であり、加熱前には図１０に示すよう
に、溝５に対して柱４との間に設けられているスペース
Ｓが加熱時には図１１に示すように小さくなっている。
これは、ウェハ６の径外方向への膨張量がボートの溝５
部分のそれよりも大きいため、ウェハ６の周縁部が溝５
内で摺動した結果であり、このウェハと溝のこすれによ
りパーティクルが発生する。
Ａ−Ａ線断面図であり、加熱前には図１０に示すよう
に、溝５に対して柱４との間に設けられているスペース
Ｓが加熱時には図１１に示すように小さくなっている。
これは、ウェハ６の径外方向への膨張量がボートの溝５
部分のそれよりも大きいため、ウェハ６の周縁部が溝５
内で摺動した結果であり、このウェハと溝のこすれによ
りパーティクルが発生する。
【０００６】一方、ウェハ保持用ボートをＳｉＣで構成
した場合、上述とは逆にＳｉＣの熱膨張率（４．５６×
１０-6℃-1）は、ウェハの熱膨張率よりもかなり大きい
ので、ウェハ周縁部がボートの柱の溝面に対してその半
径内方向に摺動し、やはりその結果パーティクルが発生
してウェハの熱処理結果の品質を低下させるという問題
点がある。
した場合、上述とは逆にＳｉＣの熱膨張率（４．５６×
１０-6℃-1）は、ウェハの熱膨張率よりもかなり大きい
ので、ウェハ周縁部がボートの柱の溝面に対してその半
径内方向に摺動し、やはりその結果パーティクルが発生
してウェハの熱処理結果の品質を低下させるという問題
点がある。
【０００７】そこで、この発明は、かかるウェハ保持用
ボートによるウェハの熱処理時においてパーティクルが
発生するという従来の問題点を解決し、ウェハの熱処理
結果に品質低下を来すことがないウェハ保持用ボートを
提供することを目的としている。
ボートによるウェハの熱処理時においてパーティクルが
発生するという従来の問題点を解決し、ウェハの熱処理
結果に品質低下を来すことがないウェハ保持用ボートを
提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、この発明は、二つの押さえ板の間にウェハを保持
する溝が設けられた複数の柱を支持したウェハ保持用ボ
ートにおいて、前記二つの押さえ板を、ウェハとの熱膨
張率の差がウェハと石英との熱膨張率の差よりも小さな
材料にて構成し、前記複数の柱をＳｉＣまたは石英のい
ずれかにより構成したものである。
ため、この発明は、二つの押さえ板の間にウェハを保持
する溝が設けられた複数の柱を支持したウェハ保持用ボ
ートにおいて、前記二つの押さえ板を、ウェハとの熱膨
張率の差がウェハと石英との熱膨張率の差よりも小さな
材料にて構成し、前記複数の柱をＳｉＣまたは石英のい
ずれかにより構成したものである。
【０００９】このような構成によれば、基板の加熱時
に、押さえ板とウェハとの熱膨張差は、従来のＳｉＣや
石英で押さえ板を構成していた場合に比べて小さくな
り、ウェハが柱のウェハ保持溝（ウェハを保持する溝）
に対して摺動する摺動量を小さくすることができ、もっ
てパーティクルの発生を抑えることができる。また、複
数の柱はＳｉＣまたは石英で構成されているため、ウェ
ハ保持溝の加工精度を低下させることもない。
に、押さえ板とウェハとの熱膨張差は、従来のＳｉＣや
石英で押さえ板を構成していた場合に比べて小さくな
り、ウェハが柱のウェハ保持溝（ウェハを保持する溝）
に対して摺動する摺動量を小さくすることができ、もっ
てパーティクルの発生を抑えることができる。また、複
数の柱はＳｉＣまたは石英で構成されているため、ウェ
ハ保持溝の加工精度を低下させることもない。
【００１０】また、この発明は、二つの押さえ板の間に
ウェハを保持する溝が設けられた複数の柱を支持したウ
ェハ保持用ボートにおいて、前記二つの押さえ板の一方
を、ウェハとの熱膨張率の差がウェハと石英との熱膨張
率の差よりも小さな材料にて構成し、前記二つの押さえ
板の他方をＳｉＣまたは石英で構成し、前記複数の柱を
ＳｉＣまたは石英のいずれかにより構成したものであ
る。
ウェハを保持する溝が設けられた複数の柱を支持したウ
ェハ保持用ボートにおいて、前記二つの押さえ板の一方
を、ウェハとの熱膨張率の差がウェハと石英との熱膨張
率の差よりも小さな材料にて構成し、前記二つの押さえ
板の他方をＳｉＣまたは石英で構成し、前記複数の柱を
ＳｉＣまたは石英のいずれかにより構成したものであ
る。
【００１１】このような構成によっても、二つの押さえ
板の一方は、従来のＳｉＣや石英で構成されたものに比
較して、ウェハとの熱膨張差が小さくなるので、ウェハ
保持溝に対するウェハの摺動量を低減でき、従ってパー
ティクルの発生も低減できる。なお、この場合も、複数
の柱はＳｉＣまたは石英で構成されているため、ウェハ
保持溝の加工精度を低下させることもない。
板の一方は、従来のＳｉＣや石英で構成されたものに比
較して、ウェハとの熱膨張差が小さくなるので、ウェハ
保持溝に対するウェハの摺動量を低減でき、従ってパー
ティクルの発生も低減できる。なお、この場合も、複数
の柱はＳｉＣまたは石英で構成されているため、ウェハ
保持溝の加工精度を低下させることもない。
【００１２】尚、前記材料はポリシリコンにより構成さ
れることができる。
れることができる。
【００１３】ポリシリコンは、ウェハ（シリコンウェ
ハ）と略同じ熱膨張率を有する材料として知られてお
り、ウェハとの熱膨張差を石英やＳｉＣに比べて小さく
することができる。
ハ）と略同じ熱膨張率を有する材料として知られてお
り、ウェハとの熱膨張差を石英やＳｉＣに比べて小さく
することができる。
【００１４】また、この発明は、前記押さえ板間に補強
板が挿通されているものである。
板が挿通されているものである。
【００１５】このような構成によれば、特に、押さえ板
の他方が例えばポリシリコンで構成されている場合に、
該押さえ板と補強板との間における柱の変形を防止で
き、ウェハのウェハ保持溝に対する摺動量を低減するこ
とができる。
の他方が例えばポリシリコンで構成されている場合に、
該押さえ板と補強板との間における柱の変形を防止で
き、ウェハのウェハ保持溝に対する摺動量を低減するこ
とができる。
【００１６】更に、この発明において、前記押さえ板は
前記複数の柱をそれぞれ支持する各支持部が、前記押さ
え板の中央部付近より突出状に設けられるようにしたも
のである。
前記複数の柱をそれぞれ支持する各支持部が、前記押さ
え板の中央部付近より突出状に設けられるようにしたも
のである。
【００１７】このような構成によれば、熱膨張の差異に
基づく熱応力を吸収して損傷を防止することができる。
なお、この発明の実施の形態においては、押さえ板の少
なくとも一方における複数の柱の各押さえ部（支持部）
を押さえ板の中心部より屈曲又は直線状に突出させて熱
膨張の差異に基づく熱応力を吸収して損傷を防止するよ
うにしている。
基づく熱応力を吸収して損傷を防止することができる。
なお、この発明の実施の形態においては、押さえ板の少
なくとも一方における複数の柱の各押さえ部（支持部）
を押さえ板の中心部より屈曲又は直線状に突出させて熱
膨張の差異に基づく熱応力を吸収して損傷を防止するよ
うにしている。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を用いて説明する。 実施の形態１．図１は実施の形態１を示す斜視図であ
る。図１において、ウェハ保持用ボート１Ａは、所定の
長さ間隔を有して上下に設けられた二つの押さえ板であ
る天板２Ａ、底板３Ａと、これら天板２Ａ、底板３Ａの
間に設けられる複数の柱４Ａを備えている。
面を用いて説明する。 実施の形態１．図１は実施の形態１を示す斜視図であ
る。図１において、ウェハ保持用ボート１Ａは、所定の
長さ間隔を有して上下に設けられた二つの押さえ板であ
る天板２Ａ、底板３Ａと、これら天板２Ａ、底板３Ａの
間に設けられる複数の柱４Ａを備えている。
【００１９】このウェハ保持用ボート１Ａにおいて、天
板２Ａおよび底板３Ａはポリシリコンからなり、柱４Ａ
はＳｉＣ又は石英ガラスで構成される。
板２Ａおよび底板３Ａはポリシリコンからなり、柱４Ａ
はＳｉＣ又は石英ガラスで構成される。
【００２０】図２は、柱４Ａと底板３Ａとの取り付け構
造を示す断面図である。底板３Ａの柱４Ａの支持部には
穴８が設けられ、この穴８に柱４Ａの下端部４Ａ−１が
挿入される。また柱４Ａの下端部近傍には倒れ防止用の
平坦部４Ａ−２が設けられ、上記下端部４Ａ−１が穴８
に挿入されたとき、この平坦部４Ａ−２の底面が底板３
Ａの上面に当接して柱４Ａが倒れるのを防止している。
なお、柱４Ａの長さ方向複数箇所には、ウェハを保持す
るための図１０に示したと同様の溝（ウェハ保持溝）５
Ａが設けられている。
造を示す断面図である。底板３Ａの柱４Ａの支持部には
穴８が設けられ、この穴８に柱４Ａの下端部４Ａ−１が
挿入される。また柱４Ａの下端部近傍には倒れ防止用の
平坦部４Ａ−２が設けられ、上記下端部４Ａ−１が穴８
に挿入されたとき、この平坦部４Ａ−２の底面が底板３
Ａの上面に当接して柱４Ａが倒れるのを防止している。
なお、柱４Ａの長さ方向複数箇所には、ウェハを保持す
るための図１０に示したと同様の溝（ウェハ保持溝）５
Ａが設けられている。
【００２１】このような構成によれば、溝等の加工の複
雑な柱を、加工性の良いＳｉＣ又は石英とするので、容
易且つ安価に製造でき、更に、天板２Ａと底板３Ａと
は、ウェハとの熱膨張率の差が小さいポリシリコン（熱
膨張率はウェハと略同じ）で構成されているため、ウェ
ハの熱膨張量と天板又は底板の熱膨張量の差を小さくで
き、従って加熱時におけるウェハの溝５Ａのウェハ保持
面に対する摺動量を小さくすることができ、パーティク
ルの発生を小さくすることができる。
雑な柱を、加工性の良いＳｉＣ又は石英とするので、容
易且つ安価に製造でき、更に、天板２Ａと底板３Ａと
は、ウェハとの熱膨張率の差が小さいポリシリコン（熱
膨張率はウェハと略同じ）で構成されているため、ウェ
ハの熱膨張量と天板又は底板の熱膨張量の差を小さくで
き、従って加熱時におけるウェハの溝５Ａのウェハ保持
面に対する摺動量を小さくすることができ、パーティク
ルの発生を小さくすることができる。
【００２２】実施の形態２．実施の形態１では二つの押
さえ板を共にポリシリコンで構成するようにしたが、い
ずれか一方（例えば天板２Ａ）のみをポリシリコンで構
成し、他方（例えば底板３）を石英ガラス又はＳｉＣで
構成するようにしてもよい。この場合、図３に示すよう
に、複数の柱４Ａにポリシリコン製の補強板９を挿通し
て設けることにより、ポリシリコンの押さえ板と補強板
との間で柱の変形を防止でき、ウェハと柱のずれを防止
できる。
さえ板を共にポリシリコンで構成するようにしたが、い
ずれか一方（例えば天板２Ａ）のみをポリシリコンで構
成し、他方（例えば底板３）を石英ガラス又はＳｉＣで
構成するようにしてもよい。この場合、図３に示すよう
に、複数の柱４Ａにポリシリコン製の補強板９を挿通し
て設けることにより、ポリシリコンの押さえ板と補強板
との間で柱の変形を防止でき、ウェハと柱のずれを防止
できる。
【００２３】なお、この補強板９は底板３や天板２Ａと
同一形状の円板状をなしており、その周縁部に設けられ
た穴９ａに柱４Ａを挿通させて支持される。この補強板
９は柱４Ａの底板に近い所定の高さ位置（天板と補強板
の間がウェハをチャージする位置となる）に段部（下段
が太く、上段が細い）を形成することにより支持するこ
とができる。
同一形状の円板状をなしており、その周縁部に設けられ
た穴９ａに柱４Ａを挿通させて支持される。この補強板
９は柱４Ａの底板に近い所定の高さ位置（天板と補強板
の間がウェハをチャージする位置となる）に段部（下段
が太く、上段が細い）を形成することにより支持するこ
とができる。
【００２４】なお、実施の形態２は二つの押さえ板のう
ち一方のみをポリシリコンとし、他方（および柱）をＳ
ｉＣ又は石英ガラスで構成した場合に、補強板を設ける
ようにしたが、実施の形態１のように二つの押さえ板を
共にポリシリコンとした場合にも補強板を設けるように
しても良いことは明らかである。
ち一方のみをポリシリコンとし、他方（および柱）をＳ
ｉＣ又は石英ガラスで構成した場合に、補強板を設ける
ようにしたが、実施の形態１のように二つの押さえ板を
共にポリシリコンとした場合にも補強板を設けるように
しても良いことは明らかである。
【００２５】図４は実施の形態１又は実施の形態２にお
いてウェハを加熱した場合におけるウェハ６のボートに
対する膨張を示したもので、図１１、図１２との比較に
おいて、ウェハ６の溝５Ａに対する相対的摺動量が小さ
くなっていることが理解される。
いてウェハを加熱した場合におけるウェハ６のボートに
対する膨張を示したもので、図１１、図１２との比較に
おいて、ウェハ６の溝５Ａに対する相対的摺動量が小さ
くなっていることが理解される。
【００２６】実施の形態３．実施の形態３は底板又は天
板のいずれかをポリシリコン製とし、他方をＳｉＣ又は
石英ガラスで構成した場合に、その他方の底板又は天板
の形状に工夫を行い、熱応力によるひずみを吸収して、
損傷を防止するようにしたものである。図５乃至図７に
それらの形状の一例を示している。
板のいずれかをポリシリコン製とし、他方をＳｉＣ又は
石英ガラスで構成した場合に、その他方の底板又は天板
の形状に工夫を行い、熱応力によるひずみを吸収して、
損傷を防止するようにしたものである。図５乃至図７に
それらの形状の一例を示している。
【００２７】図５は底板又は天板における柱の支持部１
０を湾曲状態に突出させて、各柱の支持部１０が板上で
直線で結ぶことができないようにしたものである。ま
た、図６は各柱の支持部１１を放射状に突出させて、や
はり各支持部が板上で直線で結ぶことができないように
したものである。更に、図７は図６に示した底板又は天
板において、中央部をドーナツ型に形成すると共にその
一部に切り欠き溝１３を設けて、各柱の支持部１２が板
上で直線で結ぶことができないようにしたものである。
０を湾曲状態に突出させて、各柱の支持部１０が板上で
直線で結ぶことができないようにしたものである。ま
た、図６は各柱の支持部１１を放射状に突出させて、や
はり各支持部が板上で直線で結ぶことができないように
したものである。更に、図７は図６に示した底板又は天
板において、中央部をドーナツ型に形成すると共にその
一部に切り欠き溝１３を設けて、各柱の支持部１２が板
上で直線で結ぶことができないようにしたものである。
【００２８】図１２乃至図１４は従来の底板又は天板の
形状を示した平面図であり、図１２は円板状の底板を示
し、図１３はドーナツ状の底板を示し、図１４はドーナ
ツ状の底板に更に切り欠きが設けられたものを示してい
る。これら図に示されるように従来は、各柱の支持点が
板上で直線状に結べたのに対して、この発明の実施の形
態３では各支持点を板上に置いて直線で結べないように
したため、熱ひずみの差異から生じる応力を吸収でき、
底板又は天板が損傷を受けるのを防止することができ
る。
形状を示した平面図であり、図１２は円板状の底板を示
し、図１３はドーナツ状の底板を示し、図１４はドーナ
ツ状の底板に更に切り欠きが設けられたものを示してい
る。これら図に示されるように従来は、各柱の支持点が
板上で直線状に結べたのに対して、この発明の実施の形
態３では各支持点を板上に置いて直線で結べないように
したため、熱ひずみの差異から生じる応力を吸収でき、
底板又は天板が損傷を受けるのを防止することができ
る。
【００２９】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、二つの押さえ板の間にウェハを保持する溝が設けら
れた複数の柱を支持したウェハ保持用ボートにおいて、
前記二つの押さえ板の少なくとも一方を、ウェハとの熱
膨張率の差がウェハと石英との熱膨張率の差よりも小さ
な材料にて構成し、前記複数の柱をＳｉＣまたは石英の
いずれかにより構成したため、ウェハのボート溝に対す
る相対的膨張量（摺動量）を小さくすることができて、
パーティクルの発生を軽減でき、ウェハの熱処理結果に
品質低下を来すことがなく、また、柱の加工の容易性、
精度を低下させることもないウェハ保持用ボートを得る
ことができるという効果を奏する。
ば、二つの押さえ板の間にウェハを保持する溝が設けら
れた複数の柱を支持したウェハ保持用ボートにおいて、
前記二つの押さえ板の少なくとも一方を、ウェハとの熱
膨張率の差がウェハと石英との熱膨張率の差よりも小さ
な材料にて構成し、前記複数の柱をＳｉＣまたは石英の
いずれかにより構成したため、ウェハのボート溝に対す
る相対的膨張量（摺動量）を小さくすることができて、
パーティクルの発生を軽減でき、ウェハの熱処理結果に
品質低下を来すことがなく、また、柱の加工の容易性、
精度を低下させることもないウェハ保持用ボートを得る
ことができるという効果を奏する。
【図１】実施の形態１を示す斜視図である。
【図２】図１の一部拡大断面図である。
【図３】実施の形態２を示す斜視図である。
【図４】実施の形態における動作を示す図である。
【図５】実施の形態３の押さえ板を示す平面図である。
【図６】実施の形態３の変形例を示す平面図である。
【図７】実施の形態３の他の変形例を示す平面図であ
る。
る。
【図８】従来のウェハ保持用ボートを示す組立斜視図で
ある。
ある。
【図９】図９の一部拡大断面図である。
【図１０】加熱前の図１０のＡ−Ａ線断面図である。
【図１１】加熱時の図１０のＡ−Ａ線断面図である。
【図１２】従来の円板状の底板を示す平面図である。
【図１３】従来のドーナツ状の底板を示す平面図であ
る。
る。
【図１４】従来のドーナツ状の底板に更に切り欠きが設
けられたものを示す平面図である。
けられたものを示す平面図である。
１Ａ ウェハ保持用ボート ２Ａ 天板（押さえ板） ３Ａ 底板（押さえ板） ４Ａ 柱 ５Ａ 溝 ９ 補強板
Claims (4)
- 【請求項１】 二つの押さえ板の間にウェハを保持する
溝が設けられた複数の柱を支持したウェハ保持用ボート
において、 前記二つの押さえ板を、ウェハとの熱膨張率の差がウェ
ハと石英との熱膨張率の差よりも小さな材料にて構成
し、 前記複数の柱をＳｉＣまたは石英のいずれかにより構成
したことを特徴とするウェハ保持用ボート。 - 【請求項２】 二つの押さえ板の間にウェハを保持する
溝が設けられた複数の柱を支持したウェハ保持用ボート
において、 前記二つの押さえ板の一方を、ウェハとの熱膨張率の差
がウェハと石英との熱膨張率の差よりも小さな材料にて
構成し、前記二つの押さえ板の他方をＳｉＣまたは石英
で構成し、 前記複数の柱をＳｉＣまたは石英のいずれかにより構成
したことを特徴とするウェハ保持用ボート。 - 【請求項３】 前記押さえ板間に補強板が挿通されてい
る請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のウェハ保持
用ボート。 - 【請求項４】 前記押さえ板は前記複数の柱をそれぞれ
支持する各支持部が、前記押さえ板の中央部付近より突
出状に設けられている請求項１乃至請求項４のいずれか
に記載のウェハ保持用ボート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13258599A JP2000323423A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | ウェハ保持用ボート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13258599A JP2000323423A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | ウェハ保持用ボート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000323423A true JP2000323423A (ja) | 2000-11-24 |
Family
ID=15084787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13258599A Withdrawn JP2000323423A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | ウェハ保持用ボート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000323423A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014509788A (ja) * | 2011-03-24 | 2014-04-21 | サン―ア フロンテック カンパニー，リミテッド | ソラーウェーハカセット |
| WO2015096254A1 (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 石英卡夹装置及其制作方法与带该石英卡夹装置的oled高温炉 |
-
1999
- 1999-05-13 JP JP13258599A patent/JP2000323423A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
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| US9803796B2 (en) | 2013-12-27 | 2017-10-31 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Quartz clip device and manufacturing method thereof and OLED high-temperature oven having same |
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