JP2594717Y2 - ウェーハ保持装置 - Google Patents

ウェーハ保持装置

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JP2594717Y2
JP2594717Y2 JP1992052786U JP5278692U JP2594717Y2 JP 2594717 Y2 JP2594717 Y2 JP 2594717Y2 JP 1992052786 U JP1992052786 U JP 1992052786U JP 5278692 U JP5278692 U JP 5278692U JP 2594717 Y2 JP2594717 Y2 JP 2594717Y2
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JP
Japan
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wafer
pillar
holding
wafer holding
center
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JP1992052786U
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JPH069139U (ja
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哲夫 山本
誠治 渡辺
英二 保坂
博信 宮
増雄 鈴木
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、半導体製造工程でウェ
ーハを水平姿勢で多段に保持するウェーハ保持装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】縦型拡散炉、縦型CVD装置は、縦型反
応炉を有し、該反応炉内に装入されたウェーハを表面処
理するものであり、該縦型拡散炉、縦型CVD装置にウ
ェーハを装入する際に、ウェーハを水平姿勢で多段に保
持するのがウェーハ保持装置である。
【0003】従来のウェーハ保持装置について、図3、
図4により説明する。
【0004】上フランジ板1と下フランジ板2との間に
4本の支柱3,3、支柱4,4を設け、1組の支柱3,
4に対して他方の支柱3,4を前記上フランジ板1と下
フランジ板2の中心に対して略同一円周上に且対称に配
設する。
【0005】前記支柱3,3、支柱4,4は断面が円で
あり、それぞれの支柱の前記フランジの中心に面する側
にウェーハ保持用の溝5,6を所要のピッチで刻設し、
前記支柱の同一高さの4箇所の溝5,6にウェーハ7を
挿入することでウェーハ7が水平に保持される様になっ
ている。
【0006】而して、ウェーハ7は前記溝の数だけ保持
可能となっている。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】前記したウェーハ保持
装置ではウェーハ7の略半円部を4箇所で支持してお
り、残りの半円部は片持梁状となっている。従って、ウ
ェーハ処理中、ウェーハが高温の状態となると、曲げ応
力による結晶間の辷を生じ、結晶欠陥となって製品品質
を低下させ、或は歩留りの低下を招来する。
【0008】本考案は斯かる実情に鑑み、ウェーハ保持
状態に於ける曲げ応力の低減を図り、結晶欠陥の発生を
防止しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本考案は、保持されるウ
ェーハの背面側に背柱を立設すると共に前記ウェーハの
両側に側柱を立設し、前記背柱、前記側柱にそれぞれ所
要数のウェーハ保持溝を刻設し、各保持溝にウェーハを
保持可能としたウェーハ保持装置に於いて、前記側柱を
ウェーハの中心より前記背柱の反対側に延出する長形断
形状とし、該側柱のウェーハ保持溝の先端部がウェー
ハの中心より反背柱側に位置する様にしたことを特徴と
するものである。
【0010】
【作用】保持されるウェーハは、円周に沿って略均等に
支持されるので、ウェーハに曲げ応力が発生することが
少なく、曲げ応力に起因する結晶欠陥の発生を防止する
ことができる。
【0011】
【実施例】以下、図面に基づき本考案の一実施例を説明
する。
【0012】上フランジ8と下フランジ9との間に背柱
10,10と側柱11,11を掛渡して設け、更に1方
の背柱10,側柱11と他方の背柱10,側柱11とは
対称に配設する。
【0013】前記背柱10は断面を略矩形状とし、フラ
ンジの中心に対して放射状に配置する。又、側柱11は
断面が偏平な蒲鉾状をしており、凸面側が外周側になる
様に配設されると共に装填されるウェーハ7に対して前
記背柱10の反対側の縁がウェーハ7の外周より内側に
入込む様に配設されている。
【0014】背柱10、前記側柱11にはそれぞれウェ
ーハ保持溝12、ウェーハ保持溝13を所要のピッチで
刻設し、且各段のウェーハ保持溝12、ウェーハ保持溝
13が同一平面となる様にし、該ウェーハ保持溝12、
ウェーハ保持溝13にウェーハ7を挿入可能にしてい
る。而して、ウェーハ7は後方の2箇所を背柱10のウ
ェーハ保持溝12により保持され、ウェーハ7の両側を
前記側柱11のウェーハ保持溝13によって保持され
る。
【0015】次に、ウェーハ7の保持の状態を説明する
と、前記側柱11は柱実部13bと、該柱実部13bよ
り片持状に延出する棚板13aとで構成され、前記ウェ
ーハ保持溝13は棚板13a間に形成される。該棚板1
3aはウェーハ7の中心より該ウェーハ7の円周に沿っ
て前方(前記背柱10の反対側)に延出しており、ウェ
ーハ7の周辺をウェーハ保持溝12、ウェーハ保持溝1
3によって略均等に保持する。従って、前記棚板13a
の先端部はウェーハの中心より前方に位置することとな
るので、前記ウェーハ7の前記棚板13aの先端より更
に前方に片持梁状に延出する部分が短くなり、ウェーハ
7に発生する曲げ応力が大幅に低減し、この曲げ応力に
よる結晶間の辷りが防止される。更に、結晶欠陥の発生
が抑止され、製品品質の安定、或は歩留りを向上させる
ことができる。
【0016】尚、前記側柱11の断面形状は偏平な蒲鉾
状に限らず、短冊状であってもよい。又、背柱10は1
本又は3本以上でもよい。
【0017】
【考案の効果】以上述べた如く本考案によれば、ウェー
ハの周囲を略均等に保持するので、曲げ応力の発生が少
なく、曲げ応力による結晶間の辷りが防止され、結晶欠
陥の発生を抑止し、製品品質の向上更に歩留りの向上を
図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例の立断面図である。
【図2】同前一実施例の平断面図である。
【図3】従来例の平断面図である。
【図4】従来例の立断面図である。
【符号の説明】
7 ウェーハ 10 背柱 11 側柱 12 ウェーハ保持溝 13 ウェーハ保持溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 宮 博信 東京都港区虎ノ門二丁目3番13号 国際 電気株式会社内 (72)考案者 鈴木 増雄 東京都港区虎ノ門二丁目3番13号 国際 電気株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−104418(JP,A) 実開 昭62−19732(JP,U)

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 保持されるウェーハの背面側に背柱を立
    設すると共に前記ウェーハの両側に側柱を立設し、前記
    背柱、前記側柱にそれぞれ所要数のウェーハ保持溝を刻
    設し、各保持溝にウェーハを保持可能としたウェーハ保
    持装置に於いて、前記側柱をウェーハの中心より前記背
    柱の反対側に延出する長形断面形状とし、前記側柱は柱
    実部及び該柱実部より延出し前記保持溝を形成する棚板
    から構成され、該棚板は柱実部より前記ウェーハの円周
    に沿ってウェーハの中心より前方に向って更に延出し、
    前記棚板の先端部がウェーハの中心より反背柱側に位置
    する様にしたことを特徴とするウェーハ保持装置。
JP1992052786U 1992-07-03 1992-07-03 ウェーハ保持装置 Expired - Lifetime JP2594717Y2 (ja)

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JPH069139U JPH069139U (ja) 1994-02-04
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JP2000232151A (ja) * 1999-02-10 2000-08-22 Hitachi Ltd 縦型炉用ウェハボート
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