JPH1163765A - レーザー加工装置およびその装置に用いる冷却水定温化装置 - Google Patents
レーザー加工装置およびその装置に用いる冷却水定温化装置Info
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- JPH1163765A JPH1163765A JP9226604A JP22660497A JPH1163765A JP H1163765 A JPH1163765 A JP H1163765A JP 9226604 A JP9226604 A JP 9226604A JP 22660497 A JP22660497 A JP 22660497A JP H1163765 A JPH1163765 A JP H1163765A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 別個の循環用ポンプ、熱交換器、定温化装置
などを用いることなく、小型で安価かつ、長期間冷却水
のメンテナンスが不要にしたレーザー加工装置およびそ
の装置に用いる冷却水定温化装置を提供することにあ
る。 【解決手段】 レーザー発振器３、レーザー加工機本体
５、制御装置７および冷却水定温化装置９から構成さ
れ、これらの装置の一部を冷却水によりほぼ一定温度に
制御し、安定動作させるレーザー加工装置１において、
前記冷却水の回路中に水質安定化装置１９を備えてなる
ことを特徴とする。
などを用いることなく、小型で安価かつ、長期間冷却水
のメンテナンスが不要にしたレーザー加工装置およびそ
の装置に用いる冷却水定温化装置を提供することにあ
る。 【解決手段】 レーザー発振器３、レーザー加工機本体
５、制御装置７および冷却水定温化装置９から構成さ
れ、これらの装置の一部を冷却水によりほぼ一定温度に
制御し、安定動作させるレーザー加工装置１において、
前記冷却水の回路中に水質安定化装置１９を備えてなる
ことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザー加工装
置およびその装置に用いる冷却水定温化装置に関する。
置およびその装置に用いる冷却水定温化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レーザー加工装置１０１としては
例えば図７に示されているように、レーザー発振器１０
３を備えたレーザー加工機本体１０５と、制御装置１０
７と、チラーなどの冷却水定温化装置１０９と、で構成
されている。この冷却水定温化装置１０９内には冷却水
タンク１１１が備えられており、この冷却水タンク１１
１とレーザー加工機本体１０５とには供給用配管１１
３、戻り用配管１１５がそれぞれ接続されている。しか
も、冷却水定温化装置１０９内にある供給用配管１１３
の途中には、圧送ポンプ１１７が設けられている。
例えば図７に示されているように、レーザー発振器１０
３を備えたレーザー加工機本体１０５と、制御装置１０
７と、チラーなどの冷却水定温化装置１０９と、で構成
されている。この冷却水定温化装置１０９内には冷却水
タンク１１１が備えられており、この冷却水タンク１１
１とレーザー加工機本体１０５とには供給用配管１１
３、戻り用配管１１５がそれぞれ接続されている。しか
も、冷却水定温化装置１０９内にある供給用配管１１３
の途中には、圧送ポンプ１１７が設けられている。
【０００３】上記構成により、圧送ポンプ１１７を作動
せしめると、冷却水タンク１１１内の冷却水が供給用配
管１１３を経てレーザー加工機本体１０５に送られてレ
ーザー加工機本体１０５が冷却される。冷却に使用され
た冷却水は戻り用配管１１５を経て冷却水タンク１１１
に戻され、冷却水は循環されている。
せしめると、冷却水タンク１１１内の冷却水が供給用配
管１１３を経てレーザー加工機本体１０５に送られてレ
ーザー加工機本体１０５が冷却される。冷却に使用され
た冷却水は戻り用配管１１５を経て冷却水タンク１１１
に戻され、冷却水は循環されている。
【０００４】前記冷却水タンク１１１に冷却水を張り込
む際に、イオン交換樹脂からなる純水器を通し、一般の
水道水（導電率２００〜３５０μｓ／ｃｍ）又は工業用
水（導電率３００〜４２０μｓ／ｃｍ）に含まれる鉄
分、カルシウム、マグネシウム等を除去した水（純水）
を留め、これを循環させレーザー加工機本体１０５を、
略一定温度（２５℃±１℃）に冷却していた。なお、イ
オン交換樹脂を通すと、導電率は１μｓ／ｃｍ以下とな
る。
む際に、イオン交換樹脂からなる純水器を通し、一般の
水道水（導電率２００〜３５０μｓ／ｃｍ）又は工業用
水（導電率３００〜４２０μｓ／ｃｍ）に含まれる鉄
分、カルシウム、マグネシウム等を除去した水（純水）
を留め、これを循環させレーザー加工機本体１０５を、
略一定温度（２５℃±１℃）に冷却していた。なお、イ
オン交換樹脂を通すと、導電率は１μｓ／ｃｍ以下とな
る。
【０００５】上述した水道水又は工業用水をイオン交換
樹脂に通す理由としては、イオン交換樹脂を通さない
で、例えば水道水をそのまま循環させた場合には、水道
水に含まれる各種のイオン例えば塩素イオンＣｌ- や水
酸イオンＯＨ- 、Ｎａ+ などが溶出金属イオン等により
電気的高圧分部分から水を通しての電流漏れが生じた
り、水中に含まれるＣａ、Ｍｇ等が白色のスケールとし
て被冷却部に析出し、冷却水配管のつまりを生じたり金
属部品等にアルミ部品の腐食を促進させさる等の問題を
ひき起すためである。
樹脂に通す理由としては、イオン交換樹脂を通さない
で、例えば水道水をそのまま循環させた場合には、水道
水に含まれる各種のイオン例えば塩素イオンＣｌ- や水
酸イオンＯＨ- 、Ｎａ+ などが溶出金属イオン等により
電気的高圧分部分から水を通しての電流漏れが生じた
り、水中に含まれるＣａ、Ｍｇ等が白色のスケールとし
て被冷却部に析出し、冷却水配管のつまりを生じたり金
属部品等にアルミ部品の腐食を促進させさる等の問題を
ひき起すためである。
【０００６】また、一部のレーザー加工装置１０１で
は、レーザー加工機本体１０５の一部回路のみ、別のタ
ンク、別のポンプを用いた独自の回路とし、この回路の
み純水器を通して循環するものが知られている。
は、レーザー加工機本体１０５の一部回路のみ、別のタ
ンク、別のポンプを用いた独自の回路とし、この回路の
み純水器を通して循環するものが知られている。
【０００７】さらに、他のレーザー加工装置１０１で
は、図８に示されているように、冷却水定温化装置１０
９内に備えられた冷却水タンク１１１の外に純水器１１
９を設け、この純水器１１９と前記冷却水タンク１１１
とには別の供給用配管１２１、戻り用配管１２３がそれ
ぞれ接続されている。しかも供給用配管１２１の途中に
は圧送ポンプ１２５が設けられている。なお、図８にお
いて、図７における部品と同じ部品には同一符号を符し
て重複する説明を省略する。
は、図８に示されているように、冷却水定温化装置１０
９内に備えられた冷却水タンク１１１の外に純水器１１
９を設け、この純水器１１９と前記冷却水タンク１１１
とには別の供給用配管１２１、戻り用配管１２３がそれ
ぞれ接続されている。しかも供給用配管１２１の途中に
は圧送ポンプ１２５が設けられている。なお、図８にお
いて、図７における部品と同じ部品には同一符号を符し
て重複する説明を省略する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図７に示し
たようなレーザー加工装置１０１において、純水器を通
して１μｓ／ｃｍ以下の純水を循環しても、配管や被冷
却部品の金属イオンが溶出したり、高分子材料からの可
塑剤が溶出したりするため、導電率は徐々に悪くなり、
例えば冷却水タンク１１１（ＳＵＳ製）の容量が例えば
１５０リットルの場合には１〜２ケ月で、その導電率が
１０μｓ／ｃｍ程度まで上昇してしまう。
たようなレーザー加工装置１０１において、純水器を通
して１μｓ／ｃｍ以下の純水を循環しても、配管や被冷
却部品の金属イオンが溶出したり、高分子材料からの可
塑剤が溶出したりするため、導電率は徐々に悪くなり、
例えば冷却水タンク１１１（ＳＵＳ製）の容量が例えば
１５０リットルの場合には１〜２ケ月で、その導電率が
１０μｓ／ｃｍ程度まで上昇してしまう。
【０００９】このときは、すでに述べたように、電流の
漏れが生じたり、金属部品の腐食を促進させる等の問題
を引き起す。そのため、レーザー加工装置１０１では常
時冷却水の導電率を計測し、例えば２０μｓ／ｃｍ程度
の一定値を越えた場合にはアラームとし、冷却水の交換
を行っている。この時、イオン交換樹脂の採水可能量は
図６に示す様に、原水の水質（導電率）によって決ま
り、例えば樹脂量５ｌ（リットル）の純水器の場合原水
水質が２００μｓ／ｃｍのとき約９５０ｌ、４００μｓ
／ｃｍのとき４７５ｌである。
漏れが生じたり、金属部品の腐食を促進させる等の問題
を引き起す。そのため、レーザー加工装置１０１では常
時冷却水の導電率を計測し、例えば２０μｓ／ｃｍ程度
の一定値を越えた場合にはアラームとし、冷却水の交換
を行っている。この時、イオン交換樹脂の採水可能量は
図６に示す様に、原水の水質（導電率）によって決ま
り、例えば樹脂量５ｌ（リットル）の純水器の場合原水
水質が２００μｓ／ｃｍのとき約９５０ｌ、４００μｓ
／ｃｍのとき４７５ｌである。
【００１０】従って、例えば３ヶ月ごとに水を交換する
場合、原水水質が２００μｓ／ｃｍのとき９５０ｌ／１
５０ｌ＝６．３回であるから、６回×３ヶ月＝１８ヶ月
となる。４００μｓ／ｃｍのときにはその半分、即ち９
ヶ月で樹脂は交換（再生）が必要となる。
場合、原水水質が２００μｓ／ｃｍのとき９５０ｌ／１
５０ｌ＝６．３回であるから、６回×３ヶ月＝１８ヶ月
となる。４００μｓ／ｃｍのときにはその半分、即ち９
ヶ月で樹脂は交換（再生）が必要となる。
【００１１】したがって、この場合には比較的短かい周
期で定期的な水を全量交換する必要があった。また、稼
動条件の制限、メンテナンス工数が増大する問題があっ
た。
期で定期的な水を全量交換する必要があった。また、稼
動条件の制限、メンテナンス工数が増大する問題があっ
た。
【００１２】また、レーザー加工装置１０１で別の回路
を設ける手段では、別のポンプ、タンク、配管が必要で
あると共に、一部の冷却回路のみしか冷却水が純水にな
らない。また、独立回路の定温化には定温化のための熱
交換器や温度調整器などの装置が必要で、装置が複雑化
されると共に部分純水しかできず、しかも高コストにな
るという問題があった。
を設ける手段では、別のポンプ、タンク、配管が必要で
あると共に、一部の冷却回路のみしか冷却水が純水にな
らない。また、独立回路の定温化には定温化のための熱
交換器や温度調整器などの装置が必要で、装置が複雑化
されると共に部分純水しかできず、しかも高コストにな
るという問題があった。
【００１３】さらに、図８に示したレーザー加工装置１
０１では、ポンプ、配管などの別の配管系が必要とな
り、大型化してしまうという問題があった。すなわち、
イオン交換樹脂との接水時間の要請から例えば１５０ｌ
のタンクを満たすためには２〜３時間を要している（通
水量１〜２ｌ／ｍｉｎ程度）。タンクが満水になる迄は
通常チラーのカラ運転防止のためのレベルスイッチによ
りチラーが起動できない様になっている。またタンク水
量が規定量に満たない場合、タンクの水量によるバッフ
ァー効果が小さくなるため冷却能力上の温度調整精度
（例えば２５±１℃）が悪化する等の弊害もある。
０１では、ポンプ、配管などの別の配管系が必要とな
り、大型化してしまうという問題があった。すなわち、
イオン交換樹脂との接水時間の要請から例えば１５０ｌ
のタンクを満たすためには２〜３時間を要している（通
水量１〜２ｌ／ｍｉｎ程度）。タンクが満水になる迄は
通常チラーのカラ運転防止のためのレベルスイッチによ
りチラーが起動できない様になっている。またタンク水
量が規定量に満たない場合、タンクの水量によるバッフ
ァー効果が小さくなるため冷却能力上の温度調整精度
（例えば２５±１℃）が悪化する等の弊害もある。
【００１４】以上から水交換を行なう場合にはレーザ加
工システムは完全に停止させなければならず、しかも水
交換時には人が交換作業を行なう必要があった。
工システムは完全に停止させなければならず、しかも水
交換時には人が交換作業を行なう必要があった。
【００１５】この発明の目的は、別個の循環用ポンプ、
熱交換器、定温化装置などを用いることなく、小型で安
価かつ、長期間冷却水のメンテナンスを不要にしたレー
ザー加工装置およびその装置に用いる冷却水定温化装置
を提供することにある。
熱交換器、定温化装置などを用いることなく、小型で安
価かつ、長期間冷却水のメンテナンスを不要にしたレー
ザー加工装置およびその装置に用いる冷却水定温化装置
を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１によるこの発明のレーザー加工装置は、レー
ザー発振器、レーザー加工機本体、制御装置および冷却
水定温化装置から構成され、これらの装置の一部を冷却
水によりほぼ一定温度に制御し、安定動作させるレーザ
ー加工装置において、前記冷却水の回路中に水質安定化
装置を備えてなることを特徴とするものである。
に請求項１によるこの発明のレーザー加工装置は、レー
ザー発振器、レーザー加工機本体、制御装置および冷却
水定温化装置から構成され、これらの装置の一部を冷却
水によりほぼ一定温度に制御し、安定動作させるレーザ
ー加工装置において、前記冷却水の回路中に水質安定化
装置を備えてなることを特徴とするものである。
【００１７】したがって、レーザー発振器、レーザー加
工機本体、制御装置および冷却水定温化装置の一部を冷
却水で冷却する際に冷却水の回路中に水質安定化装置を
備えたことにより、従来のような別個の循環ポンプ、熱
交換機、定温化装置などを用いることなく、小型で安価
でかつ、例えば２ケ月以内の比較的短期での水交換が不
要であると共に、例えば１年以上の長期間冷却水のメン
テナンスが不要となる。
工機本体、制御装置および冷却水定温化装置の一部を冷
却水で冷却する際に冷却水の回路中に水質安定化装置を
備えたことにより、従来のような別個の循環ポンプ、熱
交換機、定温化装置などを用いることなく、小型で安価
でかつ、例えば２ケ月以内の比較的短期での水交換が不
要であると共に、例えば１年以上の長期間冷却水のメン
テナンスが不要となる。
【００１８】請求項２によるこの発明のレーザー加工装
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水定温化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記冷却水定温化装置とレーザー加
工機本体とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装置
を備えてなることを特徴とするものである。
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水定温化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記冷却水定温化装置とレーザー加
工機本体とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装置
を備えてなることを特徴とするものである。
【００１９】したがって、冷却水定温化装置とレーザー
加工機本体とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装
置を備えたことにより、請求項１と同様の作用がなされ
る。
加工機本体とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装
置を備えたことにより、請求項１と同様の作用がなされ
る。
【００２０】請求項３によるこの発明のレーザー加工装
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水安定化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記レーザー加工機本体又はレーザ
ー発振器のマニホールドからの冷却水の回路中に水質安
定化装置を備えてなることを特徴とするものである。
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水安定化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記レーザー加工機本体又はレーザ
ー発振器のマニホールドからの冷却水の回路中に水質安
定化装置を備えてなることを特徴とするものである。
【００２１】したがって、レーザー加工機本体又はレー
ザー発振器のマニホールドからの冷却水の回路中に水質
安定化装置を備えたことにより、請求項１と同様の作用
がなされる。
ザー発振器のマニホールドからの冷却水の回路中に水質
安定化装置を備えたことにより、請求項１と同様の作用
がなされる。
【００２２】請求項４によるこの発明のレーザー加工装
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水安定化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記冷却水定温化装置おける冷却水
の回路中に水質安定化装置を備えてなることを特徴とす
るものである。
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水安定化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記冷却水定温化装置おける冷却水
の回路中に水質安定化装置を備えてなることを特徴とす
るものである。
【００２３】したがって、冷却水定温化装置における冷
却水の回路中に水質安定化装置を備えることにより、請
求項１と同様の作用がなされる。しかも、水質安定化装
置が特にコンパクト化される。
却水の回路中に水質安定化装置を備えることにより、請
求項１と同様の作用がなされる。しかも、水質安定化装
置が特にコンパクト化される。
【００２４】請求項５によるこの発明のレーザー加工装
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水定温化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記冷却水定温化装置と前記レーザ
ー発振器とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装置
を備えてなることを特徴とするものである。
置は、レーザー発振器を備えたレーザー加工機本体、制
御装置および冷却水定温化装置から構成されるレーザー
加工装置において、前記冷却水定温化装置と前記レーザ
ー発振器とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装置
を備えてなることを特徴とするものである。
【００２５】したがって、冷却水定温化装置とレーザー
発振器とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装置を
備えたことにより、請求項１と同様の作用がなされる。
発振器とを接続する冷却水の回路中に水質安定化装置を
備えたことにより、請求項１と同様の作用がなされる。
【００２６】請求項６によるこの発明のレーザー加工装
置において、請求項１〜５のいづれかにおけるレーザー
加工装置において、前記水質安定化装置は、イオン交換
樹脂を用いた純水器を有していることを特徴とするもの
である。
置において、請求項１〜５のいづれかにおけるレーザー
加工装置において、前記水質安定化装置は、イオン交換
樹脂を用いた純水器を有していることを特徴とするもの
である。
【００２７】したがって、水質安定化装置にイオン交換
樹脂を用いた純水器を有していることにより、常に導電
率の低い冷却水が流通し、漏れ電流が低く、電触（食）
の恐れがなくなる。
樹脂を用いた純水器を有していることにより、常に導電
率の低い冷却水が流通し、漏れ電流が低く、電触（食）
の恐れがなくなる。
【００２８】請求項７によるこの発明のレーザー加工装
置は、請求項６のレーザー加工装置において、前記純水
器に充填されるイオン交換樹脂量は、２〜１０リットル
であることを特徴とするものである。
置は、請求項６のレーザー加工装置において、前記純水
器に充填されるイオン交換樹脂量は、２〜１０リットル
であることを特徴とするものである。
【００２９】したがって、純水器に充填されるイオン交
換樹脂量が２〜１０リットルであるため、原水が２００
μｍ／ｃｍの水を１５０リットル投入しても樹脂寿命に
は充分余裕がある。また、２〜１０リットルであれば、
純水器が小型で済み、装置に組込みが可能、かつカート
リッジ毎交換が可能となる。
換樹脂量が２〜１０リットルであるため、原水が２００
μｍ／ｃｍの水を１５０リットル投入しても樹脂寿命に
は充分余裕がある。また、２〜１０リットルであれば、
純水器が小型で済み、装置に組込みが可能、かつカート
リッジ毎交換が可能となる。
【００３０】請求項８によるこの発明の冷却水定温化装
置は、イオン交換樹脂を用いた純水器を有した水質安定
化装置を内部に備えていることを特徴とするものであ
る。
置は、イオン交換樹脂を用いた純水器を有した水質安定
化装置を内部に備えていることを特徴とするものであ
る。
【００３１】したがって、冷却水定温化装置にイオン交
換樹脂を用いた純水器を有した水質安定化装置を備える
ことにより、常に導電率の低い冷却水が流通し、漏れ電
流が低く、電触（食）の恐れがなくなる。
換樹脂を用いた純水器を有した水質安定化装置を備える
ことにより、常に導電率の低い冷却水が流通し、漏れ電
流が低く、電触（食）の恐れがなくなる。
【００３２】請求項９によるこの発明の冷却水定温化措
置は、請求項８の冷却水定温化装置において、前記純水
器に充填されるイオン交換樹脂量は、２〜１０リットル
であることを特徴とするものである。
置は、請求項８の冷却水定温化装置において、前記純水
器に充填されるイオン交換樹脂量は、２〜１０リットル
であることを特徴とするものである。
【００３３】したがって、請求項７と同様の作用が行わ
れる。
れる。
【００３４】請求項１０によるこの発明の冷却水安定化
装置は、請求項８，９の冷却水安定化装置において、冷
却水の導電率を測定する計測手段と、この計測手段で測
定された実際の測定値と予め設定された設定値とを比較
する比較演算手段と、前記測定値が測定値を越えたとき
に警報を出力する警報出力手段と、を備えてなることを
特徴とするものである。
装置は、請求項８，９の冷却水安定化装置において、冷
却水の導電率を測定する計測手段と、この計測手段で測
定された実際の測定値と予め設定された設定値とを比較
する比較演算手段と、前記測定値が測定値を越えたとき
に警報を出力する警報出力手段と、を備えてなることを
特徴とするものである。
【００３５】したがって、計測手段によって冷却水の導
電率が測定された実際の測定値と予め設定値とが比較演
算手段に取り込まれて比較演算が行われる。そして、測
定値が設定値を越えたときに警報出力手段に取り込まれ
て警報が出力される。
電率が測定された実際の測定値と予め設定値とが比較演
算手段に取り込まれて比較演算が行われる。そして、測
定値が設定値を越えたときに警報出力手段に取り込まれ
て警報が出力される。
【００３６】而して、冷却水についての監視、管理を定
温化装置側に一元化することが可能となり、レーザー加
工システム内での分散処理が一元化処理となりシステム
管理上スリム化される。また、高電圧のスイッチングノ
イズや減漏電流等のノイズの影響を受けることがなくな
り、高精度の測定が可能になると共に測定回路の簡素
化、低コスト化が可能となって、レーザ加工システム全
体で高い合理化効果を有する。
温化装置側に一元化することが可能となり、レーザー加
工システム内での分散処理が一元化処理となりシステム
管理上スリム化される。また、高電圧のスイッチングノ
イズや減漏電流等のノイズの影響を受けることがなくな
り、高精度の測定が可能になると共に測定回路の簡素
化、低コスト化が可能となって、レーザ加工システム全
体で高い合理化効果を有する。
【００３７】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。
面に基づいて詳細に説明する。
【００３８】図１を参照するに、レーザー加工装置１
は、例えば気体レーザー発振器３を備えたレーザー加工
機本体５と、制御装置７と、チラーなどの冷却水定温化
装置９と、で構成されている。この冷却水定温化装置９
内には冷却水タンク１１が備えられており、この冷却水
タンク１１とレーザー加工機本体５とには冷却水の回路
としての供給用配管１３、戻り用配管１５がそれぞれ接
続されている。しかも冷却水定温化装置９内にある供給
用配管１３の途中には圧送ポンプ１７が設けられてい
る。
は、例えば気体レーザー発振器３を備えたレーザー加工
機本体５と、制御装置７と、チラーなどの冷却水定温化
装置９と、で構成されている。この冷却水定温化装置９
内には冷却水タンク１１が備えられており、この冷却水
タンク１１とレーザー加工機本体５とには冷却水の回路
としての供給用配管１３、戻り用配管１５がそれぞれ接
続されている。しかも冷却水定温化装置９内にある供給
用配管１３の途中には圧送ポンプ１７が設けられてい
る。
【００３９】前記供給用配管１３、戻り用配管１５に
は、水質安定化装置１９が設けられてい。すなわち、供
給用配管１３の途中には配管２１の一端が接続されてい
ると共に配管２１の他端は内部にイオン交換樹脂を有し
た純水器２３に接続されている。また、戻り用配管１５
の途中には配管２５の一端が接続されていると共に、配
管２５の他端は前記純水器２３に接続されている。前記
配管２１の途中には流量調整バルブ２７が設けられてい
る。
は、水質安定化装置１９が設けられてい。すなわち、供
給用配管１３の途中には配管２１の一端が接続されてい
ると共に配管２１の他端は内部にイオン交換樹脂を有し
た純水器２３に接続されている。また、戻り用配管１５
の途中には配管２５の一端が接続されていると共に、配
管２５の他端は前記純水器２３に接続されている。前記
配管２１の途中には流量調整バルブ２７が設けられてい
る。
【００４０】上記構成により、圧送ポンプ１７を作動せ
しめると、冷却水タンク１１内の冷却水が供給用配管１
３を経てレーザー加工機本体５に送られてレーザー加工
機本体５（例えばベンドミラーなど）が冷却される。冷
却に使用された冷却水は戻り用配管１５を経て冷却水タ
ンク１１に戻され、冷却水は循環される。
しめると、冷却水タンク１１内の冷却水が供給用配管１
３を経てレーザー加工機本体５に送られてレーザー加工
機本体５（例えばベンドミラーなど）が冷却される。冷
却に使用された冷却水は戻り用配管１５を経て冷却水タ
ンク１１に戻され、冷却水は循環される。
【００４１】前記供給用配管１３に流れた冷却水は配管
２１に流れ、流量調整バルブ２７により冷却水の流量が
調整されて純水器２３に送られた後、配管２５および戻
り用配管１５を経て冷却水タンク１１に戻され循環され
る。
２１に流れ、流量調整バルブ２７により冷却水の流量が
調整されて純水器２３に送られた後、配管２５および戻
り用配管１５を経て冷却水タンク１１に戻され循環され
る。
【００４２】冷却水が純水器２３を通過すことにより、
常に冷却水の導電率を低い状態で維持させることができ
ると共に、漏れ電流を低く、電触（食）の恐れをなくす
ることができる。しかも導電率は例えば０．３μｓ／ｃ
ｍ程度となる。
常に冷却水の導電率を低い状態で維持させることができ
ると共に、漏れ電流を低く、電触（食）の恐れをなくす
ることができる。しかも導電率は例えば０．３μｓ／ｃ
ｍ程度となる。
【００４３】而して、従来のような別個の循環ポンプ、
熱交換機、定温化装置などを用いることなく、小型で安
価かつ、例えば２ケ月以内の比較的短期での水交換を不
要とすることができると共に、例えば１年以上の長期間
冷却水のメンテナンスを不要にすることができる。な
お、例えば７０ｌ／ｍｉｎの全体流量の一部（例えば１
ｌ／ｍｉｎ）を純水器２３に通する例である。なお、以
降各図とも説明容易化のため冷媒回路の記載を省略して
いる。
熱交換機、定温化装置などを用いることなく、小型で安
価かつ、例えば２ケ月以内の比較的短期での水交換を不
要とすることができると共に、例えば１年以上の長期間
冷却水のメンテナンスを不要にすることができる。な
お、例えば７０ｌ／ｍｉｎの全体流量の一部（例えば１
ｌ／ｍｉｎ）を純水器２３に通する例である。なお、以
降各図とも説明容易化のため冷媒回路の記載を省略して
いる。
【００４４】図２には図１に代わる他のレーザー加工装
置１が示されている。図２において図１における部品と
同じ部品には同一の符号を符して重複する説明を省略す
る。
置１が示されている。図２において図１における部品と
同じ部品には同一の符号を符して重複する説明を省略す
る。
【００４５】図２において、レーザー加工機本体５の入
口にマニホールド２９を設け、供給用配管１３、戻り用
配管１５の他端を接続すると共に、マニホールド２９に
は配管３１、３３の一端がレーザー加工機本体５内を通
って接続されている。この配管３１、３３には水質安定
化装置１９が接続されている。すなわち、配管３１、３
３の他端には純水器２３が接続されている。しかも、前
記配管３１の途中には流量調整バルブ２７が設けられて
いる。
口にマニホールド２９を設け、供給用配管１３、戻り用
配管１５の他端を接続すると共に、マニホールド２９に
は配管３１、３３の一端がレーザー加工機本体５内を通
って接続されている。この配管３１、３３には水質安定
化装置１９が接続されている。すなわち、配管３１、３
３の他端には純水器２３が接続されている。しかも、前
記配管３１の途中には流量調整バルブ２７が設けられて
いる。
【００４６】上記構成により圧送ポンプ１７を作動せし
めると、冷却水タンク１１内の冷却水が供給用配管１３
およびマニホールド２９を経てレーザー加工機本体５に
送られてレーザー加工機本体５が冷却される。冷却に使
用された冷却水は、配管３１へ流れ、流量調整バルブ２
７を調整することにより、冷却水の流量が調整されて純
水器２３に送られた後、配管３３、マニホールド２９、
戻り用配管１５を経て冷却水ポンプ１１に戻されること
になる。
めると、冷却水タンク１１内の冷却水が供給用配管１３
およびマニホールド２９を経てレーザー加工機本体５に
送られてレーザー加工機本体５が冷却される。冷却に使
用された冷却水は、配管３１へ流れ、流量調整バルブ２
７を調整することにより、冷却水の流量が調整されて純
水器２３に送られた後、配管３３、マニホールド２９、
戻り用配管１５を経て冷却水ポンプ１１に戻されること
になる。
【００４７】冷却水は純水器２３を通過すすることによ
り、常に冷却水の導電率を低い状態で維持させることが
できると共に、漏れ電流を低く、電触（食）の恐れをな
くすることができる。それ以外は、図１の発明の実施の
形態と同様の効果を奏するものである。
り、常に冷却水の導電率を低い状態で維持させることが
できると共に、漏れ電流を低く、電触（食）の恐れをな
くすることができる。それ以外は、図１の発明の実施の
形態と同様の効果を奏するものである。
【００４８】図３には図１、図２に代わる他の発明の実
施の形態が示されている。図３において図１における部
品と同じ部品には同一の符号を符して重複する説明を省
略する。
施の形態が示されている。図３において図１における部
品と同じ部品には同一の符号を符して重複する説明を省
略する。
【００４９】図３において冷却水定温化装置９内におけ
る供給用配管１３、戻り用配管１５の途中に水質安定化
装置１９を設けたものである。すなわち、冷却水安定化
装置９内におけ供給用配管１３の圧送ポンプ１７よりレ
ーザー加工機本体５側の途中に配管３５、３７の一端が
接続されていると共に配管３５、３７の他端は前記冷却
水定温化装置９内の戻り配管１５の途中に接続されてい
る。
る供給用配管１３、戻り用配管１５の途中に水質安定化
装置１９を設けたものである。すなわち、冷却水安定化
装置９内におけ供給用配管１３の圧送ポンプ１７よりレ
ーザー加工機本体５側の途中に配管３５、３７の一端が
接続されていると共に配管３５、３７の他端は前記冷却
水定温化装置９内の戻り配管１５の途中に接続されてい
る。
【００５０】前記配管３５の途中には図３において上方
から下方へ向けて純水器２３、流量調整バルブ２７が順
に直列で設けられている。また、前記配管３７の途中に
は全流量調整用バルブ３９が設けられている。
から下方へ向けて純水器２３、流量調整バルブ２７が順
に直列で設けられている。また、前記配管３７の途中に
は全流量調整用バルブ３９が設けられている。
【００５１】上記構成により、全流量調整バルブ３９を
オフにして圧送ポンプ１７を作動せしめると、冷却タン
ク１１内の冷却水は供給用配管１３を経てレーザー加工
機本体５に送られてレーザー加工機本体５が冷却され
る。冷却に使用された冷却水は戻り配管１５を経て冷却
水タンク１１に戻される。
オフにして圧送ポンプ１７を作動せしめると、冷却タン
ク１１内の冷却水は供給用配管１３を経てレーザー加工
機本体５に送られてレーザー加工機本体５が冷却され
る。冷却に使用された冷却水は戻り配管１５を経て冷却
水タンク１１に戻される。
【００５２】前記供給用配管１３に送られた冷却水は流
量調整バルブ２７を調整することにより、流量が調整さ
れて純水器２３を通過して冷却水タンク１１に戻される
ことになる。なお、全流量調整バルブ３９をオンにして
流量を調整することにより、レーザー加工機本体５に送
られる全体の流量が調整されるものである。例えば全流
量調整バルブ３９を全開にすれば、冷却水はほとんどレ
ーザー加工機本体５に流れずに、冷却水タンク１１に流
れるものである。その際には圧送ポンプ１７の負荷を低
減させる役目を果している。
量調整バルブ２７を調整することにより、流量が調整さ
れて純水器２３を通過して冷却水タンク１１に戻される
ことになる。なお、全流量調整バルブ３９をオンにして
流量を調整することにより、レーザー加工機本体５に送
られる全体の流量が調整されるものである。例えば全流
量調整バルブ３９を全開にすれば、冷却水はほとんどレ
ーザー加工機本体５に流れずに、冷却水タンク１１に流
れるものである。その際には圧送ポンプ１７の負荷を低
減させる役目を果している。
【００５３】したがって、図１における発明の実施の形
態と同様の効果を奏するものである。しかも、冷却水定
温化装置９内に水質安定化装置１９を設けたことによ
り、装置自体をコンパクト化せしめることができる。
態と同様の効果を奏するものである。しかも、冷却水定
温化装置９内に水質安定化装置１９を設けたことによ
り、装置自体をコンパクト化せしめることができる。
【００５４】図４には図１、図２および図３に代る他の
発明の実施の形態が示されている。図４において図１に
おける部品と同じ部品には同一の符号を符して重複する
説明を省略する。
発明の実施の形態が示されている。図４において図１に
おける部品と同じ部品には同一の符号を符して重複する
説明を省略する。
【００５５】図４において、供給用配管１３、捩り用配
管１５の他端はレーザー発振器３に接続されている。ま
た、配管４１の一端が冷却水タンク１１に連通されてい
ると共に配管４１の他端はレーザー発振器３に接続され
ている。この配管４１の途中には冷却水タンク１１側よ
りレーザー発振器３側へ純水器２３、流量調整バルブ２
７が直列に設けられている。
管１５の他端はレーザー発振器３に接続されている。ま
た、配管４１の一端が冷却水タンク１１に連通されてい
ると共に配管４１の他端はレーザー発振器３に接続され
ている。この配管４１の途中には冷却水タンク１１側よ
りレーザー発振器３側へ純水器２３、流量調整バルブ２
７が直列に設けられている。
【００５６】上記構成により、圧送ポンプ１７を作動せ
しめると、冷却水タンク１１内の冷却水は配管１３を経
てレーザー発振器３を送られてレーザー発振器３が冷却
される。冷却された冷却水は戻り配管１５を経て冷却水
タンク１１に戻されると共に循環される。また、レーザ
ー発振器３で使用さた冷却水は流量調整用バルブ２７を
調整することにより、流量を調整して配管４１に流れて
純水器２３を通過して冷却水タンク１１に戻されること
になる。
しめると、冷却水タンク１１内の冷却水は配管１３を経
てレーザー発振器３を送られてレーザー発振器３が冷却
される。冷却された冷却水は戻り配管１５を経て冷却水
タンク１１に戻されると共に循環される。また、レーザ
ー発振器３で使用さた冷却水は流量調整用バルブ２７を
調整することにより、流量を調整して配管４１に流れて
純水器２３を通過して冷却水タンク１１に戻されること
になる。
【００５７】而して、配管４１の途中に水質安定化装置
１９の純水器２３を設けたことにより、請求項１と同様
の効果を奏するものである。
１９の純水器２３を設けたことにより、請求項１と同様
の効果を奏するものである。
【００５８】前記冷却水定温化装置９にはイオン交換樹
脂を用いた純水器２３が備えられている。この純水器２
３に充填されるイオン交換樹脂量を２〜１０リットルと
するものである。例えば長期休暇前に水を抜き、休暇明
けに水を張る場合、水道水をタンク１１が満水になるま
で急速に水を張り、しかる後循環ポンプのみ運転させて
おけば８〜１２時間程度で所要の導電率に到達する。こ
の間、人間は立会う必要がない。従って例えば夜間循環
ポンプのみ運転状態としていれば良くメンテ工数が削減
できる。
脂を用いた純水器２３が備えられている。この純水器２
３に充填されるイオン交換樹脂量を２〜１０リットルと
するものである。例えば長期休暇前に水を抜き、休暇明
けに水を張る場合、水道水をタンク１１が満水になるま
で急速に水を張り、しかる後循環ポンプのみ運転させて
おけば８〜１２時間程度で所要の導電率に到達する。こ
の間、人間は立会う必要がない。従って例えば夜間循環
ポンプのみ運転状態としていれば良くメンテ工数が削減
できる。
【００５９】樹脂量が２ｌ〜１０ｌであるため原水が２
００μｓ／ｃｍの水を１５０ｌ投入しても樹脂寿命には
充分余裕がある（２ｌで３８０ｌの採水可 ３８０−１
５０＝２３０ｌ→４６ヶ月）。また２ｌ〜１０ｌであれ
ば純水器２３が小型であり装置に組込みが可能、かつカ
ートリッジごと交換が可能である。
００μｓ／ｃｍの水を１５０ｌ投入しても樹脂寿命には
充分余裕がある（２ｌで３８０ｌの採水可 ３８０−１
５０＝２３０ｌ→４６ヶ月）。また２ｌ〜１０ｌであれ
ば純水器２３が小型であり装置に組込みが可能、かつカ
ートリッジごと交換が可能である。
【００６０】初回にタンク１１に純水を張った後は基本
的に原水とのイオン交換を行なわない。図６には樹脂量
５ｌの場合の原水導電率に対する純水採水量のグラフを
示す。この場合従来例での水質劣化特性が３ヶ月で１μ
ｓ／ｃｍから２０μｓ／ｃｍとすれば、３ヶ月ごとに２
０μｓ／ｃｍの水をイオン交換する場合と等価である。
この時の採水量は図６に示したグラフから２００μｓ／
ｃｍの１０倍であり従って交換寿命も１０倍（１８０ヶ
月＝１５年）となる。
的に原水とのイオン交換を行なわない。図６には樹脂量
５ｌの場合の原水導電率に対する純水採水量のグラフを
示す。この場合従来例での水質劣化特性が３ヶ月で１μ
ｓ／ｃｍから２０μｓ／ｃｍとすれば、３ヶ月ごとに２
０μｓ／ｃｍの水をイオン交換する場合と等価である。
この時の採水量は図６に示したグラフから２００μｓ／
ｃｍの１０倍であり従って交換寿命も１０倍（１８０ヶ
月＝１５年）となる。
【００６１】以上のことから単に短時間での水交換によ
る稼働条件の制限＋メンテナンスの工数を不要化するば
かりでなく、イオン交換樹脂寿命を大幅に延長し従って
運転コストをも大幅に低減することを可能にする。
る稼働条件の制限＋メンテナンスの工数を不要化するば
かりでなく、イオン交換樹脂寿命を大幅に延長し従って
運転コストをも大幅に低減することを可能にする。
【００６２】例えば、図５に示されているように、冷却
水定温化装置９には、冷却水の導電率を測定する計測手
段４３と、予め設定された設定値を記憶せしめておく設
定値・メモリ４５と、前記計測手段４３で計測された実
際の測定値と前記設定値・メモリ４５に記憶されている
設定値とを取り込んで比較演算手段４７と、この比較演
算手段４７において実際の測定値が設定値を越えたとき
に警報を出力する警報出力手段４９と、を備えている。
水定温化装置９には、冷却水の導電率を測定する計測手
段４３と、予め設定された設定値を記憶せしめておく設
定値・メモリ４５と、前記計測手段４３で計測された実
際の測定値と前記設定値・メモリ４５に記憶されている
設定値とを取り込んで比較演算手段４７と、この比較演
算手段４７において実際の測定値が設定値を越えたとき
に警報を出力する警報出力手段４９と、を備えている。
【００６３】上記構成により、計測手段４３によって冷
却水の導電率が測定された実際の測定値と予め設定値・
メモリ４５に記憶されている設定値とが比較演算手段４
７に取り込まれて比較演算が行われる。そして、測定値
が設定値を越えたときに警報出力手段４９に取り込まれ
て警報が出力される。
却水の導電率が測定された実際の測定値と予め設定値・
メモリ４５に記憶されている設定値とが比較演算手段４
７に取り込まれて比較演算が行われる。そして、測定値
が設定値を越えたときに警報出力手段４９に取り込まれ
て警報が出力される。
【００６４】而して、冷却水についての監視・管理を定
温化装置側に一元化することが可能となり、レーザー加
工システム内での分散処理が一元化処理となりシステム
管理上スリム化される。また、高電圧のスイッチングノ
イズや減漏電流等のノイズの影響を受けることがなくな
り、高精度の測定が可能になると共に測定回路の簡素
化、低コスト化が可能となって、レーザ加工システム全
体で高い合理化効果を有する。
温化装置側に一元化することが可能となり、レーザー加
工システム内での分散処理が一元化処理となりシステム
管理上スリム化される。また、高電圧のスイッチングノ
イズや減漏電流等のノイズの影響を受けることがなくな
り、高精度の測定が可能になると共に測定回路の簡素
化、低コスト化が可能となって、レーザ加工システム全
体で高い合理化効果を有する。
【００６５】なお、この発明は、前述した発明の実施の
形態に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
りその他の態様で実施し得るものである。本発明の実施
の形態では、レーザー加工機本体５（ベンドミラーの冷
却）やレーザー発振器３を冷却せしめる例で説明した
が、制御装置７を冷却せしめるようにしても構わない。
形態に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
りその他の態様で実施し得るものである。本発明の実施
の形態では、レーザー加工機本体５（ベンドミラーの冷
却）やレーザー発振器３を冷却せしめる例で説明した
が、制御装置７を冷却せしめるようにしても構わない。
【００６６】
【発明の効果】以上のごとき発明の実施の形態より理解
されるように請求項１〜５の発明によれば、レーザー発
振器、レーザー加工機本体、制御装置および冷却水定温
化装置の一部を冷却水で冷却する際に冷却水の回路中に
水質安定化装置を備えたことにより、従来のような別個
の循環ポンプ、熱交換器、定温化装置などを用いること
なく、小型で安価かつ、例えば２ケ月以内の比較的短期
での水交換を不要にすることができると共に、例えば１
年以上の長期間冷却水のメンテナンスを不要にすること
ができる。
されるように請求項１〜５の発明によれば、レーザー発
振器、レーザー加工機本体、制御装置および冷却水定温
化装置の一部を冷却水で冷却する際に冷却水の回路中に
水質安定化装置を備えたことにより、従来のような別個
の循環ポンプ、熱交換器、定温化装置などを用いること
なく、小型で安価かつ、例えば２ケ月以内の比較的短期
での水交換を不要にすることができると共に、例えば１
年以上の長期間冷却水のメンテナンスを不要にすること
ができる。
【００６７】請求項５ではさらに水質安定化装置を特に
コンパクト化せしめることができる。
コンパクト化せしめることができる。
【００６８】請求項６，８の発明によれば、水質安定化
装置にイオン交換樹脂を用いた純水器を有していること
により、常に導電率の低い冷却水が流通し、漏れ電流を
低くすることができ、電触（食）の恐れをなくすること
ができる。
装置にイオン交換樹脂を用いた純水器を有していること
により、常に導電率の低い冷却水が流通し、漏れ電流を
低くすることができ、電触（食）の恐れをなくすること
ができる。
【００６９】請求項７，９の発明によれば、純水器に充
填されるイオン交換樹脂量が２〜１０リットルであるた
め、原水が２００μｍ／ｃｍの水を１５０リットル投入
しても樹脂寿命には充分余裕がある。また、２〜１０リ
ットルであれば、純水器を小型にすることができ、装置
に組込みを可能、かつカートリッジ毎交換を可能にする
ことができる。
填されるイオン交換樹脂量が２〜１０リットルであるた
め、原水が２００μｍ／ｃｍの水を１５０リットル投入
しても樹脂寿命には充分余裕がある。また、２〜１０リ
ットルであれば、純水器を小型にすることができ、装置
に組込みを可能、かつカートリッジ毎交換を可能にする
ことができる。
【００７０】請求項１０の発明によれば、計測手段によ
って冷却水の導電率が測定された実際の測定値と予め設
定値とが比較演算手段に取り込まれて比較演算が行われ
る。そして、測定値が設定値を越えたときに警報出力手
段に取り込まれて警報が出力される。
って冷却水の導電率が測定された実際の測定値と予め設
定値とが比較演算手段に取り込まれて比較演算が行われ
る。そして、測定値が設定値を越えたときに警報出力手
段に取り込まれて警報が出力される。
【００７１】而して、冷却水についての監視、管理を定
温化装置側に一元化することが可能となり、レーザー加
工システム内での分散処理が一元化処理となりシステム
管理上スリム化せしめることができる。また、高電圧の
スイッチングノイズや減漏電流等のノイズの影響を受け
ることがなくなり、高精度の測定を可能にすることがで
きると共に測定回路の簡素化、低コスト化が可能となっ
て、レーザー加工システム全体で高い合理化効果を有す
ることができる。
温化装置側に一元化することが可能となり、レーザー加
工システム内での分散処理が一元化処理となりシステム
管理上スリム化せしめることができる。また、高電圧の
スイッチングノイズや減漏電流等のノイズの影響を受け
ることがなくなり、高精度の測定を可能にすることがで
きると共に測定回路の簡素化、低コスト化が可能となっ
て、レーザー加工システム全体で高い合理化効果を有す
ることができる。
【図１】この発明のレーザー加工装置の構成図である。
【図２】この発明の他のレーザー加工装置の構成図であ
る。
る。
【図３】この発明の他のレーザー加工装置の構成図であ
る。
る。
【図４】この発明の他のレーザー加工装置の構成図であ
る。
る。
【図５】冷却水定温化装置での冷却水の導電率を測定す
る説明図である。
る説明図である。
【図６】冷却水定温化装置に有する純水器における原水
と純水採水量との関係を示した説明図である。
と純水採水量との関係を示した説明図である。
【図７】従来のレーザー加工装置の構成図である。
【図８】従来の他のレーザー加工装置の構成図である。
１ レーザー加工装置 ３ レーザー発振器 ５ レーザー加工機本体 ７ 制御装置 ９ 冷却水定温化装置 １１ 冷却水タンク １３ 供給用配管 １５ 戻り用配管 １７ 圧送ポンプ １９ 水質安定化装置 ２１ 配管 ２３ 純水器 ２５ 配管 ２７ 流量調整バルブ
Claims (10)
- 【請求項１】 レーザー発振器、レーザー加工機本体、
制御装置および冷却水定温化装置から構成され、これら
の装置の一部を冷却水によりほぼ一定温度に制御し、安
定動作させるレーザー加工装置において、前記冷却水の
回路中に水質安定化装置を備えてなることを特徴とする
レーザー加工装置。 - 【請求項２】 レーザー発振器を備えたレーザー加工機
本体、制御装置および冷却水定温化装置から構成される
レーザー加工装置において、前記冷却水定温化装置とレ
ーザー加工機本体とを接続する冷却水の回路中に水質安
定装置を備えてなることを特徴とするレーザー加工装
置。 - 【請求項３】 レーザー発振器を備えたレーザー加工機
本体、制御装置および冷却水安定化装置から構成される
レーザー加工装置において、前記レーザー加工機本体又
はレーザー発振器のマニホールドからの冷却水の回路中
に水質安定化装置を備えてなることを特徴とするレーザ
ー加工装置。 - 【請求項４】 レーザー発振器を備えたレーザー加工機
本体、制御装置および冷却水安定化装置から構成される
レーザー加工装置において、前記冷却水定温化装置にお
ける冷却水の回路中に水質安定化装置を備えてなること
を特徴とするレーザー加工装置。 - 【請求項５】 レーザー発振器を備えたレーザー加工機
本体、制御装置および冷却水定温化装置から構成される
レーザー加工装置において、前記冷却水定温化装置とレ
ーザー発振器とを接続する冷却水の回路中に水質安定化
装置を備えてなることを特徴とするレーザー加工装置。 - 【請求項６】 前記水質安定化装置は、イオン交換樹脂
を用いた純水器を有していることを特徴とする請求項１
〜５記載のいづれかのレーザー加工装置。 - 【請求項７】 前記純水器に充填されるイオン交換樹脂
量は、２〜１０リットルであることを特徴とする請求項
６記載のレーザー加工装置。 - 【請求項８】 イオン交換樹脂を用いた純水器を有した
水質安定化装置を内部に備えていることを特徴とする冷
却水定温化装置。 - 【請求項９】 前記純水器に充填されるイオン交換樹脂
量は、２〜１０リットルであることを特徴とする請求項
８記載の冷却水定温化装置。 - 【請求項１０】 冷却水の導電率を測定する計測手段
と、この計測手段で測定された実際の測定値と予め設定
された設定値とを比較する比較演算手段と、前記測定値
が設定値を越えたときに警報を出力する警報出力手段
と、を備えてなることを特徴とする請求項８又は９記載
の冷却水定温化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226604A JPH1163765A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | レーザー加工装置およびその装置に用いる冷却水定温化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226604A JPH1163765A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | レーザー加工装置およびその装置に用いる冷却水定温化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1163765A true JPH1163765A (ja) | 1999-03-05 |
Family
ID=16847808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9226604A Pending JPH1163765A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | レーザー加工装置およびその装置に用いる冷却水定温化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1163765A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100349333C (zh) * | 2004-07-14 | 2007-11-14 | 发那科株式会社 | 激光装置 |
| JP2017205773A (ja) * | 2016-05-17 | 2017-11-24 | オリオン機械株式会社 | 液体温調装置 |
| JP2020051716A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 株式会社ディスコ | 定温水供給装置 |
-
1997
- 1997-08-22 JP JP9226604A patent/JPH1163765A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100349333C (zh) * | 2004-07-14 | 2007-11-14 | 发那科株式会社 | 激光装置 |
| JP2017205773A (ja) * | 2016-05-17 | 2017-11-24 | オリオン機械株式会社 | 液体温調装置 |
| JP2020051716A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 株式会社ディスコ | 定温水供給装置 |
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Legal Events
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