JPH1156735A - 食器洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 多量の食器を一括して洗浄する場合、単位食
器当たりの洗浄時間や使用水量を少なくし、しかも洗剤
の使用量を一層少なくするようにする洗浄効率に優れた
食器洗浄装置を提供する。 【解決手段】 上段２に導入部４、残飯除去部５、第１
移送部６、噴射洗浄部７、第２移送部８、乾燥部９およ
び導出部１０が順次設けられ、第１移送部６の下段３に
第１浸漬槽１１が、第２移送部８の下段に第２浸漬槽１
２が設けられ、残飯除去部５および噴射洗浄部７に食器
に高圧水を噴射するノズル１３，１４が設けられてい
る。第１移送部６および第２移送部８に食器を上下動さ
せるリフト機構１５，１６が設けられている。また、第
１浸漬槽１１および第２浸漬槽１２は篭Ｋに収納された
食器がすべて浸漬される大きさであり、その第１浸漬槽
１１に浸漬した篭Ｋに振動を与える加振装置が設けら
れ、また少なくとも第２浸漬槽１２に供給される液体を
加熱する加熱装置が設けられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は食器洗浄装置に関
し、さらに詳しくは学校給食等で大量に使用されたのち
篭に入れられて返却された食器を効率よく洗浄すること
ができる食器洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】学校給食等による使用済みの食器を洗浄
する装置として、例えば実開昭６１−６７６６２号公報
に記載された技術が知られている。この従来の食器洗浄
装置は、食器を食器篭に入れた状態でコンベヤで移送
し、前段コンベヤ上で洗浄、後段コンベヤ上ですすぎ洗
浄を略同一時間に行なうものであり、その洗浄作用は前
段コンベヤの上下および後段コンベヤの上下に設けられ
た噴射ノズルから洗浄水を食器に向けて噴射することに
よって行われるようになっている。

【０００３】しかし、この従来の食器洗浄装置では、噴
射ノズルの洗浄水だけで食器の汚れを全て落とすように
する為には、洗浄水を長時間噴出する必要があり、特に
バター等の油類が固着している時やデンプン質が固化し
ている時には汚れの除去が困難であり、洗浄後のチェッ
クを厳しくして、汚れの残ったものは再洗浄するなどの
処置が必要になるという問題点があった。また、洗浄時
間が長くなることによる単位食器当たりの洗浄水使用量
が多くなるという問題点があった。

【０００４】すなわち、従来装置においては、装置が小
さく設備費が少なく設置場所を多くとらないというなど
の利点はあるものの、洗浄に要する単位食器当たりの洗
浄時間や洗浄水の使用量が多くなり、洗浄後の食器のチ
ェックに携わる作業が必要になるなど多くの問題点を有
していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
した従来技術の問題点を解決し、多量の食器を一括して
洗浄する場合に単位食器当たりの洗浄時間や使用水量を
少なくし、しかも洗剤の使用量を一層少なくするように
する洗浄効率に優れた食器洗浄装置を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の食器洗浄装置は、上段に導入部、残飯除去
部、第１移送部、噴射洗浄部、第２移送部、乾燥部およ
び導出部が順次設けられ、前記第１移送部の下段に第１
浸漬槽が、前記第２移送部の下段に第２浸漬槽がそれぞ
れ設けられ、前記残飯除去部および噴射洗浄部に食器に
高圧水を噴射するノズルが設けられ、前記第１移送部お
よび第２移送部に食器を上下動させるリフト機構が設け
られ、前記第１浸漬槽および第２浸漬槽がそれぞれ篭に
収納された食器がすべて浸漬される大きさで、かつ第１
浸漬槽に浸漬された篭に振動を与える加振装置と少なく
とも第２浸漬槽に供給される液体を加熱する加熱装置が
設けられてなることを特徴とするものである。

【０００７】本発明の食器洗浄装置は、上記構成におい
て、前記第１移送部および第２移送部にそれぞれコンベ
ヤが設けられ、各コンベヤが食器を収納した篭を載せた
状態で前記第１移送部と第１浸漬槽との間および前記第
２移送部と第２浸漬槽との間をそれぞれ前記リフト機構
によって上下動するようにすることが好ましい。また、
上記構成において、前記第１移送部のリフト機構が上下
動および／または左右動することにより前記加振装置を
兼用することが好ましい。

【０００８】本発明による食器洗浄装置は、学校給食等
で喫食に供した食器を篭に並べられて回収されたものを
篭ごと食器洗浄装置の導入部から導入、あるいは喫食に
供した食器を改めて篭にきちんと並べかえて食器洗浄装
置の導入部から導入し、一括して残飯除去部で残飯を除
去したのち第１移送部に移送し、この第１移送部に設け
られたリフト機構によって第１浸漬槽に移送される。こ
の第１浸漬槽に移送された食器には液体流動機構によっ
て積極的に液体を流動させ、食器に固着して残飯除去部
で除去されなかった物に液体を浸透させるとともに一部
の物はこの第１浸漬槽内で除去される。

【０００９】第１浸漬槽で用いる液体としては洗剤を溶
かした水が用いられ、ここに浸漬された食器の入った篭
を加振装置を用いて振動する。この振動によって篭内の
食器と食器との間隔が変化し、洗浄水の流入・流出が積
極的に行われるので洗浄作用が促進され、特に食器に付
着して取り難くなった油膜等の除去を容易にするため洗
浄効率を向上し、単位食器当たりの洗浄時間、洗浄水の
使用量および洗剤使用量を減少する。

【００１０】食器を収納した篭を振動させる加振装置と
しては、第１洗浄槽内部に篭支持部を設け、その篭支持
部を振動させるようにした装置であっても、第１洗浄槽
全体を振動させるようにした装置であってもよいが、よ
り好ましくは第１移送部のリフト機構を加振装置として
兼用させて、篭を吊り下げた状態にして上下動、左右動
または上下動と左右動の組合せのいずれかを規則的或い
は不規則的に振動させるとよい。この兼用装置にすれ
ば、余分の装置を付設する必要がなく、省スペースの上
で有利である。また、他の加振装置として、液体流動機
構から流入される液体の流入方向を、例えば方向変換ノ
ズル等を用いて変化させるようにしながら高圧液体を噴
射させるようにしてもよい。

【００１１】第１浸漬槽に浸漬された食器を収納した篭
はリフト機構で上方に上げられたのち噴射洗浄部に移送
され、強烈に噴射する洗浄液によって完全に汚れを除去
して仕上げ洗浄される。この仕上げ洗浄が終了した食器
を収納した篭は第２移送部に送られ、該第２移送部に設
けたリフト機構により第２浸漬槽に浸漬される。第２浸
漬槽では熱湯などの高温の液体によって加熱し、食器お
よび篭に付着したまま残存している可能性のある菌を殺
菌する。この殺菌は温度と浸漬時間を管理することによ
って完全に行なわれる。殺菌された食器が収納された篭
はリフト機構で上方に上げられた後乾燥部に至り、該乾
燥部に設けられた熱風供給機構によって乾燥される。乾
燥が終了すると導出部に移送し、該導出部で導出する。

【００１２】上段に設けられた導入部から導出部までの
食器を収納した篭の移送はすべてコンベヤによってなさ
れ、導入部から導出部までの間人手に接することはなく
外周に設けられた被いの中ですべて自動的に行なわれ
る。上述のように導入部から導入された食器を収納した
篭は各工程を順次移動して、人が接することがないので
噴射洗浄部の噴射洗浄液に触れて激痛を受けることもな
く、また第２浸漬槽で用いる加熱液体により火傷を受け
ることもなく安全に操業することができる。

【００１３】また加熱液体に浸漬することによって、食
器全体をむらなく高温にし完全殺菌することができる。
また、引続いて乾燥するようにすれば洗浄後に空気中の
雑菌が付着しにくいのみでなく殺菌装置を別に設けるこ
とが不要になる。さらに、浸漬槽、残飯受槽、洗浄液回
収槽などの洗浄液装置などを下段に集中させ、導入部、
残飯除去部、第１移送部、噴射洗浄部、第２移送部、乾
燥部および導出部を上段に設け、コンベヤにより順次移
送されるようにしているので各工程が密着し、装置全体
を小さくすることができるとともに、操業を円滑にする
ことができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施形態
に基づいて具体的に説明する。図１は本発明の実施形態
を示す食器洗浄装置の概略縦断面図である。図２は図１
の食器洗浄装置各処理工程に食器を収納した篭を移送す
る時の状態を示す概略縦断面図である。図３は図１の食
器洗浄装置を用いて食器を洗浄、殺菌および乾燥する時
の状態を示す概略縦断面図である。

【００１５】図１〜図３に示すように、本発明の食器洗
浄装置はコンベヤ１を挟んで上段２と下段３とに大別さ
れている。上段２には導入部４、残飯除去部５、第１移
送部６、噴射洗浄部７、第２移送部８、乾燥部９および
導出部１０が順次設けられている。一方、下段３には第
１移送部６の下方に第１浸漬槽１１、第２移送部８の下
方に第２浸漬槽１２がそれぞれ設けられている。

【００１６】残飯除去部５には高圧水を噴射するノズル
１３、噴射洗浄部７には高圧水を噴射するノズル１４が
各々複数個設けられている。これらのノズル１３，１４
は高圧水を噴射する方向を固定あるいは任意に変更しう
るように設けられ、篭Ｋに収納された食器に向けて高圧
水を噴射する。第１移送部６には食器を収納した篭Ｋを
第１浸漬槽１１に下降させて浸漬を始める時点および浸
漬を終了した時点で上昇させるリフト機構１５が設けら
れており、第２移送部８には食器を収納した篭Ｋを第２
浸漬槽１２に下降させて浸漬を始める時点および浸漬を
終了した時点で上昇させるリフト機構１６が設けられて
いる。矢印ａはリフト機構１５によって食器が収納され
た篭の移動方向を示し、矢印ｂはリフト機構１６によっ
て食器が収納された篭の移動方向を示す。

【００１７】リフト機構１５を加振装置として、食器が
収納された篭Ｋを第１浸漬槽１１に浸漬した状態で篭Ｋ
に振動を与える時は、リフト機構１５を矢印ａの方向に
小刻みに上下動させて振動させるか、矢印ａ方向と直交
する方向に小刻みに上下動させて振動させるか、或いは
これら方向を組合せて振動させるようにする。この振動
方向としては、好ましくは篭Ｋの中に食器を重ねて並べ
た方向にすることが好ましく、このような方向の選択に
よって食器と食器との間隔変化を生じさせやすくする。

【００１８】残飯除去部５に設けられたノズル１３から
噴射され残飯除去に供される水は、第２浸漬槽１２でオ
ーバーフローした熱湯を液回収パイプ１７によって矢印
ｃ１，ｃ２の方向に回収するとともに、噴射洗浄部７の
下方に設けられた洗浄水回収槽１８の液回収口１９から
液回収パイプ２０を用いて矢印ｃ３，ｃ４の方向に回収
した洗浄液をポンプ２１、送液パイプ２２を用いて供給
される。

【００１９】このノズル１３から噴射される水として
は、回収した水の量で不足する時は新たな水が追加ある
いは全てを新しい水とすることもできるが、水の使用量
の削減や、加熱した水の有効利用の面からは回収した水
を用いるのが望ましい。２３はノズル１３から噴射され
た水が外部に散乱するのを防ぐシャッターである。残飯
除去部５の下方には残飯受槽２４が設けられ、この残飯
受槽２４には最下部に回収口２５が設けられている。

【００２０】第１浸漬槽１１は周壁２６に多数の噴出孔
２７が設けられ、周壁２６の外方に分配室２８が設けら
れ、最下部に排水口２９が設けられ、該排水口２９から
排出された排水は底の部分に留まる残飯とともに排水パ
イプ３０を経て矢印ｄの方向に流動し、前記残飯受槽２
４に至る。排水は状況に応じてバルブを開閉するなどの
手段で適宜行なう。

【００２１】第１浸漬槽１１への浸漬水の供給は、パイ
プ３１によって矢印ｅ１の方向に送水された水を必要に
応じて加熱装置３２で加熱し、次いでポンプ３３で矢印
ｅ２の方向に圧送する。圧送された水は、空気導入パイ
プ３４から矢印ｆ１，ｆ２の方向に導入した空気と混気
装置３５で混気され、水中に小さな気泡を生じさせた
後、送液パイプ３６により分配室２８に至り矢印ｅ３で
示すように噴射孔２７を経て第１浸漬槽１１の中に噴射
する。

【００２２】このように第１浸漬槽１１の中は、噴射孔
２７から高圧水を噴射するなどの液体流動機構３７を設
けて、内部の浸漬水が停滞しないようにすることによっ
て浸漬効果を増大する。第１浸漬槽１１の中には浸漬水
の流動によって食器から離脱した残飯が浮遊するので上
端でオーバーフローさせ、該浮遊物を矢印ｇ１，ｇ２の
方向、すなわち槽外に導出し、次いで残飯受槽２４に至
らせる。

【００２３】洗浄水回収槽１８で回収された洗浄水は大
部分を液回収口１９で回収するが、洗浄によって食器か
ら離脱した物が浮遊するので、洗浄水回収槽１８の上端
部でオーバーフローさせて浮遊物を矢印ｈの方向、すな
わち槽外に導出する。導出した浮遊物は、第１浸漬槽１
１でオーバーフローした浸漬水と一緒になって残飯受槽
２４に至り回収される。また、洗浄水回収槽１８におけ
る沈殿物は矢印ｉの方向、すなわち排水口３８、バルブ
３９、排水パイプ４０を経て残飯受槽２４に至る。

【００２４】噴射洗浄部７において噴射される洗浄水は
浄水が使用される。この浄水は、浄水パイプ４１を用い
て矢印ｊ１の方向に送水された水がポンプ４２により送
水パイプ４３中を圧送されてノズル１４に至り、矢印ｊ
２の方向に噴射される。第２浸漬槽１２は周壁４４に多
数の射出孔４５が設けられ、周壁４４の外方に分配室４
６が設けられ、最下部に排水口４７が設けられている。
第２浸漬槽１２への浸漬水の供給は、導入パイプ４８か
ら矢印Ｋの方向に導入した液と、液回収口４９、液回収
パイプ５０を経て回収した高温水を加熱装置５１で規定
温度に加熱したのちポンプ５２で送液し、送液パイプ５
３を用いて分配室４６に至らせる。送液パイプ５３で送
液する途中で空気導入パイプ５４から導入された空気と
混気装置５５を用いて混合し、液中に小さな空気の粒を
生じさせて送るようにしてもよい。この場合、混入する
空気によって送られる高温水の温度が低下するので、混
合比率は第２浸漬槽１２の中の高温水が規定温度内に保
たれるように管理する必要がある。

【００２５】第２浸漬槽１２の中の高温水は冷却しない
ように常に加熱する。加熱の方法としては、加熱装置５
１を用いて加熱した高温水を循環させる方法、あるいは
第２浸漬槽１２の外周から直接加熱する方法、加熱され
た液を外部から供給する方法が用いられるが、使用水お
よび加熱効率からみて加熱装置５１を用いるのが望まし
い。また、加熱液をポンプ５２などによって循環させる
などの液体流動機構５６を用いると、浸漬した食器の昇
温時間が短縮され、浸漬時間を短縮することができる。
第２浸漬槽１２における加熱殺菌処理時間は、規定温度
に昇温させた後の時間であるので昇温を早くすることに
よってのみ時間の短縮が可能となり、第２浸漬槽１２へ
の浸漬時間を基にして他の処理条件を変更し短時間にす
ることが可能となる。

【００２６】乾燥部９には熱風供給機構５７が設けら
れ、空気導入部５８から導入した空気をパイプ５９を用
いて送風ポンプ６０に至らせ、該ポンプ６０で送風パイ
プ６１で送風する。途中、加熱器６２で加熱する。加熱
された空気は、送風パイプ６１でノズル６３，６４に送
られ食器に向けて吹き出し、食器を乾燥する。食器に向
けて吹出した空気は、空気導入部５８で回収され矢印ｍ
１〜ｍ５のように循環させて再使用することによって、
加熱に要するエネルギーを削減できる。

【００２７】熱風供給機構５７におけるノズル６３，６
４は、定位置で熱風を吹出すよりも矢印ｎのように前後
または上下左右などに移動させることにより、食器の表
面の水分の除去を短縮することができる。このノズル６
３，６４を定位置に停止させて、食器を収納した篭を矢
印ｎのように前後に移動させてもよい。６５は乾燥部９
で滴下した水を回収する排水パイプである。乾燥部９で
乾燥された食器を収納された篭は、引続いてコンベヤ１
で導出部１０に移送され導出する。６６は熱風供給機構
５７によって供給された熱風が外部に放出する量を少な
くするために設けたシャッターである。

【００２８】リフト機構１５を用いて、食器が収納され
た篭Ｋを上下動させて第１浸漬槽に浸漬、または／およ
びリフト機構１６を用いて、食器が収納された篭Ｋに上
下動させて第２浸漬槽に浸漬する場合に、コンベヤ１の
一部分を駆動装置との係合から離脱させ、このコンベヤ
１の一部分と篭Ｋとを一緒に浸漬槽に浸漬し、規定処理
を施した後に、上記下降させたコンベヤ１の一部分と篭
Ｋとをリフト機構を用いて上昇させ、しかるのち、この
コンベヤ１の一部分を、再度駆動装置と係合させて篭Ｋ
を移送するようにする。

【００２９】コンベヤ１の一部を浸漬槽の中に浸漬した
くない場合には、篭Ｋの下降および上昇の支障にならな
い位置にコンベヤ１の一部分を移動させたのちに、リフ
ト機構で篭Ｋを浸漬槽まで下降させて、そのまま処理
し、次いで篭を上昇させた後、そのコンベヤの一部分を
移動した位置から元の位置に戻すようにする。篭Ｋの移
動，停止は検知機構ｓによる検知によって行う。

【００３０】ノズル１３を用いて水を噴射し食器から残
飯を除去する際および／またはノズル１４を用いて水を
噴射して食器を仕上げ洗浄する際、ノズル１３，１４は
定位置で同方向に洗浄水を噴出するよりも、噴射方向に
任意に変更、噴射方向を自動的に経時変化させることに
より、食器への噴出洗浄水の衝突位置に変化を生じさ
せ、洗浄効率を向上することができる。この噴出洗浄水
の衝突位置の変化は、コンベヤ上の篭の位置を変更させ
るようにしてもよい。

【００３１】第２浸漬槽１２に供給される加熱された液
は、一般には８０℃以上に加熱された熱湯が用いられ、
この８０℃以上の熱湯に食器を５分以上浸漬或いは８０
℃以上で５分間以上維持することによって、食器に付着
している大腸菌は完全に死滅させることができる。この
第２浸漬槽１２への食器の浸漬時間は他の工程に比して
最も長時間となるので第２浸漬槽１２の中に食器を収納
した篭を複数個入れる形状とするか、第２浸漬槽１２を
複数個直列に設置し、食器を収納した篭を順次浸漬する
ようにすることによって食器洗浄装置全体を効率よく運
転することができ、さらに作業性を向上する。

【００３２】乾燥部で用いる熱風は、回収して再使用す
ることによりエネルギー消費量を節減する。第２浸漬槽
１２から順次高温の食器が移送されて来る時は、逆に食
器の熱によって表面の水分が蒸発するという現象が生じ
ることもあるので、この場合は乾燥処理時間の短縮およ
び／または熱風温度の設定値を低くすることが可能にな
る。

【００３３】

【実施例】社員食堂で回収された食器（洋皿）を篭に整
列（２列×２段、合計４列、個数は各列２０枚、各食器
の間隔は略１５mm）させ図に示した構成からなる食器洗
浄装置を用いて洗浄作業を行った。導入部で篭をコンベ
ヤのローラ上に載せ自動で残飯除去部に移動させ、定位
置に移動したのを検知装置で検知して停止させた。残飯
除去部に設けられたノズルから洗浄水を食器に向けて３
０秒噴射して表面に付着した残飯を除去した。次いで、
コンベヤのローラを回転させて篭を第１移送部に移動さ
せ、これを検知装置で検知して定位置に停止させ、リフ
ト機構を用いて第１浸漬槽に浸漬するとともに、浸漬し
た篭Ｋを上下左右に振動させて、食器と食器との間に洗
浄水の浸入・横溢を繰り返させた。

【００３４】第１浸漬槽には射出孔から浸漬液を射出し
て槽内の浸漬液を積極的に流動させた。また、浸漬液に
は食器に付着している油分を除去するための植物性洗剤
を混入した。食器から離脱した油分およびデンプン等
は、オーバーフローさせて順次残飯受槽に流出させた。
篭は一定時間浸漬した後にリフト機構で上昇させた後、
コンベヤのローラを回転させて噴射洗浄部に移動させ、
これを検知装置で検知し、定位置で停止させた。

【００３５】噴射洗浄部ではノズルから浄水を噴射し
て、食器および篭に付着して残存している植物性洗剤を
除去するなどの仕上げ洗浄を施こす。この噴射洗浄部で
用いられた水には少量の洗剤が含まれているが残飯除去
部に送水して再使用する。残飯除去部では、含まれた洗
剤が食器に付着した油分に作用し、残飯除去部における
残飯の除去を促進する。

【００３６】噴射洗浄部で仕上げ洗浄された食器はコン
ベヤのローラの回転によって第２移動部に移送させ、検
知装置で検知して定位置に停止させ、次いでリフト機構
を用いて第２浸漬槽に降下させて熱湯に浸漬する。浸漬
時間は熱湯が８０℃以上の時は５分以上加熱することに
よって大腸菌などの付着細菌を完全に殺菌することがで
きた。

【００３７】高温の湯に浸漬処理した食器を収納した篭
はリフト機構によって上昇させ、コンベヤのローラの回
転によって乾燥部に移送させ、これを検知装置で検知し
て定位置に停止させ、次いでノズルから熱風を吹き出さ
せて乾燥した。前工程の第２浸漬槽の中の液温が高い程
気化が促進されて乾燥時間は短縮され、さらに乾燥に用
いる空気温度は高温にする程短縮できた。

【００３８】食器が高温になっている場合、約２０℃の
温度を有する風でも十分気化を促進し乾燥することが可
能であった。熱風は空気導入部で回収して再使用するこ
とによって加熱に要するエネルギーを少量にすることが
可能となる。乾燥を終えた食器を収納した篭は、コンベ
ヤの回動によって導出部に移送し、洗浄を終了した。得
られた食器は残飯および油等の付着残りもなく、大腸菌
の付着も全く見られなかった。

【００３９】第１浸漬槽で篭を振動させたことによって
第１浸漬槽への浸漬時間を短縮し、洗浄水の使用量を減
少することができた。また、洗浄水の中に混入する洗剤
の量を約１０％減少することができた。

【００４０】

【発明の効果】上述したように、本発明によると、食器
を篭に入れた状態で洗浄、殺菌および乾燥をコンパクト
な装置で連続的に実施することができ、省人化、省水
化、省洗剤化、省エネルギー化等の効果を奏することが
できる。特に、第１浸漬槽において加振装置により振動
を与えるようにすることにより、一層省水化、省洗剤
化、省エネルギー化を促進して洗浄効率を上げることが
できる。

【００４１】また、少なくとも第２洗浄槽に供給される
液体を加熱装置で加熱することにより、洗浄直後の食器
に殺菌を施こすため衛生面における効果を奏することが
できる。また、加熱装置の設置は、洗浄後に他の殺菌装
置への運搬機器、殺菌装置の設置を不要とし、運搬作業
を不要とし、洗剤混入洗浄水の後処理量を減少すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る食器洗浄装置の概略縦断面図であ
る。

【図２】図１に示した装置を用いて食器を篭に入れて洗
浄する際の各工程への移動時の状態を示す概略縦断面図
である。

【図３】図１の食器洗浄装置を用いて食器を洗浄、殺菌
および乾燥する時の状態を示す概略縦断面図である。

【符号の説明】

１ コンベヤ ２ 上段 ３ 下段 ４ 導入部 ５ 残飯除去部 ６ 第１移送部 ７ 噴射洗浄部 ８ 第２移送部 ９ 乾燥部 １０ 導出部 １１ 第１浸漬槽 １２ 第２浸漬槽 １３ ノズル １４ ノズル １５ リフト機構（加振装置） １６ リフト機構 １７ 液回収パイプ １８ 洗浄水回収
槽 １９ 液回収口 ２０ 液回収パイ
プ ２１ ポンプ ２２ 送液パイプ ２３ シャッター ２４ 残飯受槽 ２５ 回収口 ２６ 周壁 ２７ 射出孔 ２８ 分配室 ２９ 排水口 ３０ 排水パイプ ３１ パイプ ３２ 加熱装置 ３３ ポンプ ３４ 空気導入パ
イプ ３５ 混気装置 ３６ 送液パイプ ３７ 液体流動機構 ３８ 排水口 ３９ バルブ ４０ 排水パイプ ４１ 浄水パイプ ４２ ポンプ ４３ 送水パイプ ４４ 周壁 ４５ 射出孔 ４６ 分配室 ４７ 排水口 ４８ 導入パイプ ４９ 液回収口 ５０ 液回収パイ
プ ５１ 加熱装置 ５２ ポンプ ５３ 送液パイプ ５４ 空気導入パ
イプ ５５ 混気装置 ５６ 液体流動機
構 ５７ 熱風供給。機構 ５８ 空気導入部 ５９ パイプ ６０ 送風ポンプ ６１ 送風パイプ ６２ 加熱器 ６３ ノズル ６４ ノズル ６５ 排水パイプ ６６ シャッター Ｋ 篭

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上段に導入部、残飯除去部、第１移送
   部、噴射洗浄部、第２移送部、乾燥部および導出部が順
   次設けられ、前記第１移送部の下段に第１浸漬槽が、前
   記第２移送部の下段に第２浸漬槽がそれぞれ設けられ、
   前記残飯除去部および噴射洗浄部に食器に高圧水を噴射
   するノズルが設けられ、前記第１移送部および第２移送
   部に食器を上下動させるリフト機構が設けられ、前記第
   １浸漬槽および第２浸漬槽がそれぞれ篭に収納された食
   器がすべて浸漬される大きさで、かつ第１浸漬槽に浸漬
   された篭に振動を与える加振装置と少なくとも第２浸漬
   槽に供給される液体を加熱する加熱装置が設けられてな
   る食器洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記第１移送部および第２移送部にそれ
   ぞれコンベヤが設けられ、各コンベヤが食器を収納した
   篭を載せた状態で前記第１移送部と第１浸漬槽との間お
   よび前記第２移送部と第２浸漬槽との間をそれぞれ前記
   リフト機構によって上下動するようにした請求項１記載
   の食器洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記第１移送部のリフト機構が上下動お
   よび／または左右動することにより前記加振装置を兼用
   するようにした請求項１または２に記載の食器洗浄装
   置。